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最新专利技术
  • 用于控制激光器或其他光或辐射发射装置的脉冲持续时间的装置和方法
    用于控制激光器或其他光或辐射发射装置的脉冲持续时间的装置和方法_艾迈斯-欧司朗股份有限公司_202480043808.X
    提供了一种用于利用实现的控制回路控制激光器或其他光或辐射发射装置的脉冲持续时间的装置(1)。装置(1)包括具有输入时钟(4)、延迟单元(6)和脉冲组合元件(8)的脉冲发生器，输入时钟(4)提供时钟脉冲(CLK)，并且延迟单元提供延迟的时钟脉...
    2026-02-25
  • 反射偏振器和包括反射偏振器的光学系统
    反射偏振器和包括反射偏振器的光学系统_3M创新有限公司_202480048166.2
    反射偏振器包括多个交替的第一聚合物层和第二聚合物层。对于预定波长范围内的不同的第一波长和第二波长并且对于第一对和第二对相邻的第一聚合物层和第二聚合物层，其中第一对和第二对沿反射偏振器的厚度方向间隔开：对于第一波长，第一对而非第二对的第一聚合...
    2026-02-25
  • 光学层叠体
    光学层叠体_住友化学株式会社_202480048451.4
    在光学层叠体中，抑制偏振片的端部隆起。光学层叠体(1)依次具备包含粘合剂层的光学膜(109)、二色性色素在聚乙烯醇系树脂膜进行了吸附取向的偏振片(101)、第1贴合层(30a)、相位差板(20)和第2贴合层(30b)。在光学层叠体(1)中，...
    2026-02-25
  • 光学设备
    光学设备_佳能株式会社_202480047185.3
    [技术问题]提供一种光学设备，其在确保基板安装面积的同时小型化。[解决手段]光学设备包括：第一基板，其具有与光学系统的光轴方向正交的主平面，并且第一基板具有内径和外径，内径和外径均以光轴方向为中心；第二基板，其连接到第一基板并且具有平行于光...
    2026-02-25
  • 可动装置
    可动装置_富士胶片株式会社_202480047683.8
    提供一种可动装置，能够对配线的形成在扭杆上的部分的劣化进行抑制。本发明的可动装置具备：硅结构体，包括通过加工硅基板(30)而形成的扭杆(26B)；及配线(94)，形成于硅结构体上，所述可动装置中，配线中的形成于所述扭杆上的部分(94B)包含...
    2026-02-25
  • 用于检测眼睛的瞳孔的至少一个立体图像的装置和方法、全息单元和数据眼镜
    用于检测眼睛的瞳孔的至少一个立体图像的装置和方法、全息单元和数据眼镜_罗伯特·博世有限公司_202480047778.X
    提出了一种用于检测眼睛(14)、尤其是数据眼镜用户的眼睛的瞳孔(12)的至少一个立体图像(10)的装置(52)，尤其是数据眼镜装置，其具有：至少一个发射至少一个测量激光束(16)的投影仪单元(18)，至少一个全息单元(20)，所述全息单元至...
    2026-02-25
  • 用于头戴式显示装置的基于衍射的光学系统
    用于头戴式显示装置的基于衍射的光学系统_威尔乌集团_202480040234.0
    用于在头戴式显示装置(HMD)中提供光学系统的系统和方法，系统和方法用于修改虚拟图像光，以对用户眼睛的一个或多个视觉状况进行校正。光学系统包括用于左眼的左光学子系统和用于右眼的右光学子系统。每个光学子系统包括具有衍射光学元件组件的至少一个校...
    2026-02-25
  • 电子设备及其工作方法
    电子设备及其工作方法_株式会社半导体能源研究所_202480046286.9
    提供一种显示可见度良好的电子设备。电子设备包括用于显示信息的反射型液晶显示装置，可以将引入到电子设备的外光的一部分供应到反射型液晶显示装置，将该外光用作显示光的光源。因此，即使外光强也可以提高显示可见度。另外，因为利用外光进行显示，所以与一...
    2026-02-25
  • 阵列基板和显示面板
    阵列基板和显示面板_京东方科技集团股份有限公司_202480000818.5
    一种阵列基板，包括衬底以及位于衬底一侧的多条第一信号线和多条第二信号线。多条第一信号线和多条第二信号线交叉限定出多个像素区。多条第一信号线沿第一方向间隔设置，且沿第二方向部分弯折，第一信号线包括第一部和第二部；每个像素区的一侧为一条第一信号...
    2026-02-25
  • 电致变色膜、其制造方法以及所用的电解质组合物
    电致变色膜、其制造方法以及所用的电解质组合物_SKC株式会社_202480041433.3
    根据一个实施方案的电致变色膜包括基底层、导电层、变色层和电解质层，其中，所述电解质层包括具有特定结构的重复单元，从而比传统的电致变色膜表现出明显更快的透射率变化速率，并且即使在高于特定温度和/或高于特定湿度的高温高湿的恶劣环境下，也具有优异...
    2026-02-25
  • 包括布置在磁体周围的相机装置的电子设备
    包括布置在磁体周围的相机装置的电子设备_三星电子株式会社_202480048261.2
    本电子设备包括：第一壳体、连接到第一壳体以便相对于折叠轴线可旋转的第二壳体、以及布置在第一壳体中的第一相机装置，并且可以包括第一磁体和第二磁体，第一磁体在第一壳体中与第一相机装置间隔开，第二磁体布置在第二壳体中并且在电子设备折叠的状态下至少...
    2026-02-25
  • 相机致动器和包括该相机致动器的相机模块
    相机致动器和包括该相机致动器的相机模块_LG伊诺特有限公司_202480047135.5
    在实施方式中公开了一种相机致动器，该相机致动器包括：壳体；第一透镜组件和第二透镜组件，第一透镜组件和第二透镜组件在壳体中沿光轴方向移动；驱动单元，该驱动单元驱动第一透镜组件和第二透镜组件；基板，该基板布置在壳体中；以及驱动器部件，其中，壳体...
    2026-02-25
  • 轴承
    轴承_ASML荷兰有限公司_202480042219.X
    一种轴承，包括：支撑件；和多个轴承表面。轴承表面由支撑件支撑，并被配置为至少部分地限定用于接收轴的孔，该孔具有关于孔的形心的有限阶旋转对称性。轴承表面中的至少一些被配置为能够相对于支撑件独立地移位，以允许被接收在孔中的轴绕与轴的标称轴线正交...
    2026-02-25
  • 用于确定图案化衬底的关键区域的设备和方法
    用于确定图案化衬底的关键区域的设备和方法_ASML荷兰有限公司_202480047735.1
    一种计算机程序产品，包括其中具有指令的计算机可读介质，该指令在由计算机系统执行时被配置为使该计算机系统至少：基于所获得的对衬底的一个或多个核查区域的第一扫描，生成一个或多个核查区域的表面的表面图；计算每个核查区域的表面图的一个或多个关键性能...
    2026-02-25
  • 衬底支撑件
    衬底支撑件_ASML荷兰有限公司_202480048457.1
    一种被配置成支撑衬底的衬底支撑件(1)。该衬底支撑件包括主体(10)，该主体(10)具有被配置成支撑衬底的第一侧和与该第一侧相反的第二侧。该第二侧形成有多个凹槽。该多个凹槽包括多个通道(50)和多个导管(60)。该多个通道包括第一通道(51...
    2026-02-25
  • 装有固化性组合物的容器、固化膜的制造方法、图案、发光元件、显示装置及固化性组合物的制造方法
    装有固化性组合物的容器、固化膜的制造方法、图案、发光元件、显示装置及固化性组合物的制造方法_中央硝子株式会社_202480042256.0
    本发明提供一种装有固化性组合物的容器，其于具有密封性的容器内密封有固化性组合物与含氧气体，所述固化性组合物包含具有烯属碳碳双键的化合物、选自由硫醇及硫醇前驱体组成的组中的1种或2种以上的硫醇系化合物及自由基引发剂。本发明还提供一种固化性组合...
    2026-02-25
  • 感光性元件、感光性元件卷、抗蚀图案的形成方法及导体图案的形成方法
    感光性元件、感光性元件卷、抗蚀图案的形成方法及导体图案的形成方法_旭化成株式会社_202480047879.7
    本公开为一种感光性元件卷，其是将具有(A)支承薄膜和(B)包含感光性树脂组合物的感光性树脂层的感光性元件卷绕而成的感光性元件卷，前述(A)支承薄膜的平均厚度为27μm以上，前述(B)感光性树脂层的平均厚度为150μm以上，前述感光性树脂组合...
    2026-02-25
  • 在曝光设备中使用的光学布置
    在曝光设备中使用的光学布置_ASML荷兰有限公司_202480046157.X
    公开了一种在曝光设备中使用的光学布置，包括：物体台组件，被配置为保持物体并在物体的平面内移动物体；以及光学扫描组件，被配置为接收辐射束，以引导辐射束朝向物体，从而在物体的所述平面中照射物体的至少一个区域，并且随后收集来自物体的辐射束的至少一...
    2026-02-25
  • 流体处理结构、光刻设备、控制流体处理结构的方法、控制光刻设备的方法和制造半导体器件的方法
    流体处理结构、光刻设备、控制流体处理结构的方法、控制光刻设备的方法和制造半导体器件的方法_ASML荷兰有限公司_202480047143.X
    本文公开了一种用于光刻设备的流体处理系统，其中，所述流体处理结构被配置成将液体至少部分地限制到所述光刻设备的投影系统的最终光学元件与衬底之间的浸没空间，所述光刻设备的投影系统被配置成将经图案化的束投影在所述衬底上，所述流体处理结构包括：多个...
    2026-02-25
  • 浮雕形成版前体
    浮雕形成版前体_易客发有限公司_202480047362.8
    公开了一种方法，其包括以下步骤：以图像方式曝光可成像膜，所述可成像膜包括载体片材和可成像层，将所述成像膜层合至可成像制品，使可成像制品暴露于固化辐射，由此形成成像制品；从所述成像制品移除所述成像膜以及显影所述成像制品以形成浮雕图像。所述方法...
    2026-02-25
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