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最新专利技术
  • 有机膜形成用组成物、有机膜形成方法及图案形成方法
    有机膜形成用组成物、有机膜形成方法及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202511000410.0
    本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法及图案形成方法。本发明的课题为提供兼具填埋/平坦化特性的有机膜形成用组成物，其特征为含有(A)含有芳香族环的树脂、(B)含有下式(1)表示的含有β二酮结构的重复单元的聚合物、(C)溶剂。上式(1)...
    2026-04-24
  • 含硅的膜形成用组成物、膜形成方法、及覆板
    含硅的膜形成用组成物、膜形成方法、及覆板_信越化学工业株式会社_202511014778.2
    本发明涉及含硅的膜形成用组成物、膜形成方法、及覆板。本发明目的为提供在喷墨适应性平坦化所使用的覆板中，用以使接触面平坦化，并借由等离子处理而提供适当的接触角的透明的含硅的膜形成用组成物及使用该组成物的膜的形成方法与覆板本体。该课题的解决手段...
    2026-04-24
  • 一种用于LDI干膜的阳离子自由基聚合组合物及LDI干膜
    一种用于LDI干膜的阳离子自由基聚合组合物及LDI干膜_航天智造科技股份有限公司_202410995892.7
    本发明涉及一种用于制备LDI干膜的阳离子自由基聚合组合物及LDI干膜。根据本发明的用于制备LDI干膜的阳离子自由基聚合组合物包括：碱溶性聚合物、自由基聚合性化合物和引发剂；其中，碱溶性聚合物的侧链具有脂环族环氧基团，且引发剂包括阳离子引发剂...
    2026-04-24
  • 基片处理装置、基片处理方法和存储介质
    基片处理装置、基片处理方法和存储介质_东京毅力科创株式会社_202511448419.8
    本发明提供能够维持生产率并且检查传送带的状态的基片处理装置和基片处理方法。基片处理装置包括：对基片实施规定处理的处理单元；输送单元，其具有保持基片的保持部及包括传送带并且通过使该传送带移动来使保持部在第1方向上移位的驱动部；能够获取与因保持...
    2026-04-24
  • 提高光刻晶圆洗边精度的装置和方法
    提高光刻晶圆洗边精度的装置和方法_华虹集成电路(成都)有限公司_202511574226.7
    本申请提供一种提高光刻晶圆洗边精度的装置和方法，该装置包括：设置于光刻匀胶台5边缘区域上方的支杆结构1；设置于支杆结构1末端的微针喷嘴4；套设于支杆结构1下部的抽吸桶3；环绕光刻匀胶台5的多孔抽吸台10；设置于多孔抽吸台10内的光源8和光刻...
    2026-04-24
  • 一种涂胶显影设备
    一种涂胶显影设备_沈阳芯源微电子设备股份有限公司_202511754101.2
    本发明公开了一种涂胶显影设备，包括工艺腔室；加热件，设于工艺腔室内，用于加热晶圆；升降控制模块，包括多个升降件，多个升降件均沿加热件的轴向可移动的设于工艺腔室，用于带动晶圆移动；腔盖模块，包括盖主体，盖主体可拆卸的设于工艺腔室，以封闭工艺腔...
    2026-04-24
  • 一种晶圆边缘光刻胶优化方法及晶圆处理系统
    一种晶圆边缘光刻胶优化方法及晶圆处理系统_物元半导体技术(青岛)有限公司_202512001760.5
    本申请提供一种晶圆边缘光刻胶优化方法及晶圆处理系统，方法包括：在晶圆涂覆光刻胶后，检测晶圆边缘区域的光刻胶形貌参数，形貌参数至少包括光刻胶厚度分布和晶圆边缘光刻胶与晶圆的接触角；基于接触角动态确定边缘去除宽度；基于厚度分布确定厚度梯度，并基...
    2026-04-24
  • 光刻模型建立方法、装置、计算机设备、存储介质
    光刻模型建立方法、装置、计算机设备、存储介质_北京超弦存储器研究院_202411000835.7
    本申请涉及一种光刻模型建立方法、装置、旁瓣图形预测方法、光刻方法、计算机设备、存储介质和计算机程序产品。光刻模型建立方法包括：获取位于至少一组测试图形的曝光后的旁瓣图形信息，测试图形为测试相移掩膜上的透光掩膜图形且包括阵列排布的多个主图形，...
    2026-04-24
  • 光刻胶图案生成方法、装置、设备、介质及产品
    光刻胶图案生成方法、装置、设备、介质及产品_北京超弦存储器研究院_202411005966.4
    本申请涉及一种光刻胶图案生成方法、装置、设备、介质及产品。方法包括：获取输入掩膜图形，以及输入掩膜图形的近场特性图像，近场特性图像为入射电磁波透过输入掩膜图形后的电磁场分布图像；根据输入掩膜图形、近场特性图像，以及训练好的目标机器学习模型，...
    2026-04-24
  • 曝光参数确定方法、装置、计算机设备和存储介质
    曝光参数确定方法、装置、计算机设备和存储介质_北京超弦存储器研究院_202411018471.5
    本申请涉及一种曝光参数确定方法、装置、计算机设备和存储介质。所述方法包括：显示SEM测量源文件，所述SEM测量源文件包括多个量测点；响应于量测点选取及参数设置操作，从多个所述量测点中选取至少一个待分析量测点，并对应设置曝光参数；基于所述曝光...
    2026-04-24
  • 一种光刻机的真空控制系统
    一种光刻机的真空控制系统_松山湖材料实验室_202511529907.1
    本申请提供了一种光刻机的真空控制系统，真空控制系统包括预抽腔体、工作腔体、光刻机腔体、门阀、第一真空规、联通阀、第二真空规、机械泵、第一机械泵阀、分子泵、第一控制设备和第二控制设备，其中，工作腔体设置在预抽腔体和光刻机腔体之间，门阀设置在工...
    2026-04-24
  • 一种光罩光学层的斜向蚀刻方法
    一种光罩光学层的斜向蚀刻方法_绍兴芯链半导体科技有限公司_202511863509.3
    本发明涉及半导体产品制备技术领域，具体提供了一种光罩光学层的斜向蚀刻方法，光阻剂膜通过电子束曝光让剩余的光阻剂膜形成全反射光学图案，再以光阻剂膜作为保护层，让全反射光学图案蚀刻到硬遮蔽膜上，最后将硬遮蔽膜作为保护层，通过斜向干式蚀刻，让光学...
    2026-04-24
  • 一种激光成像曝光机
    一种激光成像曝光机_江苏源康电子有限公司_202511906829.2
    本发明公开的一种激光成像曝光机，属于激光成像曝光机技术领域，包括激光成像曝光机本体、第一固定板和第二固定板，所述第一固定板和第二固定板分别设于激光成像曝光机本体的两端，所述第一固定板上安装有放松组件，所述第二固定板上安装有收卷组件，放松组件...
    2026-04-24
  • 一种基于R树建图的集成电路版图热点检测方法
    一种基于R树建图的集成电路版图热点检测方法_浙江大学_202512003620.1
    本发明公开一种基于R树建图的集成电路版图热点检测方法，首先将集成电路版图文件中每一个独立且连续的多边形创建为图结构中的节点，运用R树建立空间邻接关系，并采用多边形轮廓扩张技术判定节点连接性，当扩张后的多边形存在面积重叠时即建立连接边，进而构...
    2026-04-24
  • 一种曝光机焦点补偿方法及曝光机焦点补偿系统
    一种曝光机焦点补偿方法及曝光机焦点补偿系统_合肥晶合集成电路股份有限公司_202512016732.0
    本发明提供一种曝光机焦点补偿方法及曝光机焦点补偿系统，曝光机焦点补偿方法通过旋转获得多组旋转后GRP形变校正映射图和旋转后Z向波动量，并将其与第一Z向波动量进行计算得到Z向波动差异值，并通过Z向波动差异值识别出晶圆表面是否异常，并在异常时中...
    2026-04-24
  • 一种减少显影气泡缺陷的静态显影方法
    一种减少显影气泡缺陷的静态显影方法_重庆中科渝芯电子有限公司_202511579791.2
    本发明公开一种减少气泡缺陷的静态显影方法，包括以下步骤：1)对已完成涂胶、曝光晶圆进行预处理；2)采用多组喷嘴组合的喷头在距离晶圆较近的位置以稳定而缓慢的方式喷涂，以此在晶圆上形成均匀、平整的显影液膜；3)喷显影液完成后，晶圆静止一段时间+...
    2026-04-24
  • 用于移除来自含金属的抗蚀剂的边缘珠粒的组合物以及使用其形成图案的方法和系统
    用于移除来自含金属的抗蚀剂的边缘珠粒的组合物以及使用其形成图案的方法和系统_三星SDI株式会社_202510543757.3
    一种用于移除来自含金属的抗蚀剂的边缘珠粒的组合物包括有机溶剂、至少一种从二醇化合物和环状醇化合物中选出的醇类化合物以及具有1.0 ≤ pKa1 ≤ 4.5的酸化合物。此外，还提供了使用所述组合物形成图案的方法和系统。
    2026-04-24
  • 一种负性光阻剥离液及其制备方法
    一种负性光阻剥离液及其制备方法_惠州达诚微电子材料有限公司_202511464048.2
    本申请涉及电子化学品领域，更具体的涉及了一种负性光阻剥离液及其制备方法。一种负性光阻剥离液，以质量百分比计，原料包括：主碱剂4~7%，有机胺10~20%，有机介质35~50%，组合功能剂2~6%，润湿渗透剂0.3~0.6%，消泡剂0.2~0...
    2026-04-24
  • 光源的确定方法、装置及计算机可读存储介质
    光源的确定方法、装置及计算机可读存储介质_深圳市鹏芯微集成电路制造有限公司_202411003369.8
    本公开提供了一种光源的确定方法、装置及计算机可读存储介质，涉及光刻技术领域，所述方法包括：获取在粗对准COWA过程中被晶圆的对准标记反射的多种光源的信号质量值，多种光源彼此的波长范围不同；根据多种光源的信号质量值，确定用于进行细对准FIWA...
    2026-04-24
  • 电子照相感光体、处理盒及图像形成装置
    电子照相感光体、处理盒及图像形成装置_富士胶片商业创新有限公司_202510527773.3
    一种电子照相感光体、处理盒及图像形成装置，所述电子照相感光体，其具备导电性基体和配置于所述导电性基体上的感光层，最表面层含有电荷传输材料、两种以上的树脂及酚化合物，外周面的RzJIS为0.1nm以上且100nm以下。
    2026-04-24
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