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最新专利技术
  • 显示面板
    显示面板_深圳市华星光电半导体显示技术有限公司_202511769625.9
    本申请公开了一种显示面板，像素单元将R、G像素组合为第一子像素组，B、W像素组合为第二子像素组，并采用Y轴交替设置、X轴异色相邻设置的排布方式，避免同色干扰，提升画面清晰度与边缘锐度，同时最大化的利用W像素的高穿透特性，提升显示面板的整体穿...
    2026-02-24
  • 一种光学反馈式可调谐法布里-珀罗滤波器
    一种光学反馈式可调谐法布里-珀罗滤波器_南开大学_202511948662.6
    本发明属于光学滤波器技术领域，公开了一种光学反馈式可调谐法布里‑珀罗滤波器，包括：支撑结构，由固定镜筒与载荷镜筒通过榫卯结构衔接；谐振腔组件，包括互相平行的第一反射镜和第二反射镜；调谐驱动模块，包括压电陶瓷，通过向压电陶瓷施加电压调控谐振腔...
    2026-02-24
  • 光调制器件及激光雷达
    光调制器件及激光雷达_富士康科技集团有限公司_202410964662.4
    本申请提供一种光调制器件，包括层叠设置的光反射层、导电层、介质层以及驱动模块。光反射层一侧用于接收第一光。导电层包括间隔设置的第一导电层和第二导电层，导电层设置在光反射层的另外一侧。介质层包括第一介质层以及第二介质层，第一介质层设置在光反射...
    2026-02-24
  • 基于PEDOT：PSS的大数值孔径电控变焦超构透镜及设计方法
    基于PEDOT：PSS的大数值孔径电控变焦超构透镜及设计方法_武汉理工大学_202511772612.7
    本发明涉及纳米光学技术领域，公开了一种基于PEDOT：PSS的大数值孔径电控变焦超构透镜及设计方法，包括：衬底、电极层、PEDOT : PSS聚合物层、超构透镜阵列层、电解质溶液、ITO玻璃和电压调节部。PEDOT : PSS聚合物层由固定...
    2026-02-24
  • 具有曲面底部电极的液晶透镜及底部电极设计方法
    具有曲面底部电极的液晶透镜及底部电极设计方法_广东工业大学_202511858327.7
    本发明公开了一种具有曲面底部电极的液晶透镜及底部电极设计方法，涉及液晶透镜技术领域；本发明在常规的高阻层型透镜基础上，将底部电极设计为曲面，通过仿真获取电场强度z方向分量与液晶层有效折射率的关系式，结合理想有效折射率分布曲线可得到x坐标对应...
    2026-02-24
  • 防抖马达及其相关产品
    防抖马达及其相关产品_华为技术有限公司_202410983030.2
    本申请提供一种防抖马达及其相关产品。防抖马达具有进光孔和出光孔。防抖马达包括基座载体，包括安装斜面，安装斜面朝向进光孔和出光孔的一侧为安装侧，安装侧用于安装防抖镜群；导向支架，活动连接在基座与载体之间；第一驱动机构，用于驱动载体相对导向支架...
    2026-02-24
  • 通光孔模块、相机模块与电子装置
    通光孔模块、相机模块与电子装置_大立光电股份有限公司_202411415292.5
    本发明公开一种通光孔模块，沿一中心轴依序包含一叶片组以及一盖元件。叶片组具有多个叶片。这些叶片形成一通光孔。通光孔具有以中心轴为中心可变的尺寸。盖元件盖于叶片组。盖元件具有一通孔。通孔与通光孔对应设置。盖元件包含一塑胶表面结构以及一金属侧壁...
    2026-02-24
  • 一种摄影摄像用的补光照明装置
    一种摄影摄像用的补光照明装置_湖南科技学院_202511514647.0
    本发明属于补光照明装置领域，尤其是涉及一种摄影摄像用的补光照明装置，包括支撑组件、升降组件、转向组件和调整组件，所述支撑组件包括有底杆，所述底杆的下侧面均匀设置有四个侧槽，所述侧槽的上侧面转动连接有支撑杆。本发明通过设置有支撑组件，在使用补...
    2026-02-24
  • 一种运动相机镜头除雾结构
    一种运动相机镜头除雾结构_深圳市奥赛克科技有限公司_202511939221.X
    本发明涉及相机除雾技术领域，具体涉及一种运动相机镜头除雾结构，包括相机主体及其上设置的相机镜片，所述相机主体内转动设置有转柱，转柱的一端穿出相机主体并连接有转杆的一端，转杆的另一端设置有除雾头结构，在转杆转动一定角度时，所述除雾头结构能够与...
    2026-02-24
  • 光源装置以及投影仪
    光源装置以及投影仪_精工爱普生株式会社_202510979196.1
    光源装置以及投影仪。提供能够生成沿与扫描方向垂直的方向延伸的矩形状的照明光的光源装置以及投影仪。本发明的光源装置具备：光源部，其沿与第1轴交叉的方向射出包含在沿着第1轴的方向上排列的第1光线和第2光线的光；光放大光学系统，其生成将光在沿着与...
    2026-02-24
  • 光源装置以及投影仪
    光源装置以及投影仪_精工爱普生株式会社_202510987714.4
    本发明提供光源装置以及投影仪，其具有在一个方向上延伸的矩形，生成抑制了光密度的照明光。本发明的光源装置具有：光源部，其射出包含第一光线的光；光放大光学系统，其生成将光沿着第一轴放大而得到的放大光；重叠光学系统，其使从光放大光学系统射出的放大...
    2026-02-24
  • 一种用于正投与吊装相结合的中长焦抗光投影屏幕
    一种用于正投与吊装相结合的中长焦抗光投影屏幕_上海莫蓝雨商贸有限公司_202511650761.6
    本申请涉及投影屏幕技术领域，提供一种用于正投与吊装相结合的中长焦抗光投影屏幕，包括在基体上阵列排布的多个光学结构单元，光学结构单元通过横截面呈三角形的横向分隔部和纵向分隔部进行界定。横向分隔部形成抗光脊，其第一斜面和第二斜面分别用于将投影光...
    2026-02-24
  • 掩模版表面缺陷的修复方法
    掩模版表面缺陷的修复方法_中国科学院光电技术研究所_202511943978.6
    本公开提供了一种掩模版表面缺陷的修复方法，包括：在掩模版的正面涂覆感光材料，形成感光层；基于掩模版的版图，从掩模版的背面照射掩模版，使光线穿过掩模版掩蔽层缺陷所在区域，对掩蔽层缺陷所在区域的感光材料进行曝光；对感光层进行显影，去除掩模版的缺...
    2026-02-24
  • 光罩的缺陷修复方法
    光罩的缺陷修复方法_合光光掩模科技(安徽)有限公司_202511948234.3
    本发明提供一种光罩的缺陷修复方法，涉及半导体技术领域，包括：先确定光罩上的缺陷的位置；然后，在缺陷表面形成阻胶层，阻胶层覆盖缺陷；接着，形成光刻胶层，光刻胶层围绕阻胶层分布，且光刻胶层与阻胶层之间具有非粘附性；接着，以光刻胶层为掩模，对阻胶...
    2026-02-24
  • 一种纳米压印用基板定位装置
    一种纳米压印用基板定位装置_璞璘科技(杭州)有限公司_202511575541.1
    本发明公开了一种纳米压印用基板定位装置属于纳米压印技术领域，包括定位机构，用以对基板中心点位置进行定位调节，吸附机构，用以对定位调节后的基板进行吸附定位，切换机构，用以对完成定位调节后的定位盘进行复位并切换吸盘二位置；本发明通过设置切换机构...
    2026-02-24
  • 着色固化性树脂组合物、滤色器、显示装置及固体摄像器件
    着色固化性树脂组合物、滤色器、显示装置及固体摄像器件_住友化学株式会社_202510970538.3
    本发明涉及着色固化性树脂组合物、滤色器、显示装置及固体摄像器件。关于课题，本发明的目的是提供能够制作与绿色光的颜色分离性得以提高的滤色器的着色固化性树脂组合物。关于解决手段，本发明的着色固化性树脂组合物的特征在于，其含有着色剂、树脂、聚合性...
    2026-02-24
  • 着色固化性树脂组合物、滤色器、显示装置及固体摄像器件
    着色固化性树脂组合物、滤色器、显示装置及固体摄像器件_住友化学株式会社_202510970587.7
    本发明涉及着色固化性树脂组合物、滤色器、显示装置及固体摄像器件。关于课题，本发明的目的是提供能够制作与绿色光的颜色分离性得以提高的滤色器的着色固化性树脂组合物。关于解决手段，本发明的着色固化性树脂组合物的特征在于，其含有着色剂、树脂、聚合性...
    2026-02-24
  • 用于制备太阳能电池的复合感光胶、剥离液和太阳能电池及其制备方法
    用于制备太阳能电池的复合感光胶、剥离液和太阳能电池及其制备方法_通威太阳能(成都)有限公司_202511460778.5
    本发明涉及太阳能电池技术领域，具体而言，涉及用于制备太阳能电池的复合感光胶、剥离液和太阳能电池及其制备方法；该制备方法包括：在黄膜片上涂布复合感光胶，打印曝光；利用ITO蚀刻液进行边缘刻蚀；用剥离液进行清洗；显影、电镀形成铜栅线；复合感光胶...
    2026-02-24
  • 一种用于引线框架、载板、PCB和RDL封装的电镀光刻胶树脂及其制备方法和应用
    一种用于引线框架、载板、PCB和RDL封装的电镀光刻胶树脂及其制备方法和应用_金芯光刻胶材料(深圳)有限公司_202511474921.6
    本申请涉及电镀光刻胶的领域，具体公开了一种用于引线框架、载板、PCB和RDL封装的电镀光刻胶树脂及其制备方法和应用。一种用于引线框架、载板、PCB和RDL封装的电镀光刻胶树脂，按重量份计，所用原料包括以下组分：丙烯酸酯类单体90‑110份；...
    2026-02-24
  • 改善光刻胶图案底部内切的组合物及光刻工艺
    改善光刻胶图案底部内切的组合物及光刻工艺_上海华力集成电路制造有限公司_202511695338.8
    本申请提供一种改善光刻胶图案底部内切的组合物及光刻工艺，该组合物包含80wt％‑95wt％的光刻胶树脂、1wt％‑5wt％的光酸生成剂、0.1wt％‑5wt％的碱性添加剂和余量溶剂，其中，碱性添加剂的分子量为200Da‑5000Da，分解温...
    2026-02-24
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