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最新专利技术
  • 一种显示面板及显示装置
    一种显示面板及显示装置_京东方科技集团股份有限公司_202480000477.1
    一种显示面板及显示装置，属于显示技术领域，包括：显示区以及围绕显示区的多个边框区，多个边框区包括第一边框区、第二边框区、第三边框区和第四边框区；显示面板在边框区还包括GOA电路；GOA电路包括多个第一GOA单元和多个第二GOA单元，多个第一...
    2025-11-21
  • 液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶显示元件
    液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶显示元件_日产化学株式会社_202480021180.3
    提供一种液晶取向膜和液晶取向剂，所述液晶取向膜和液晶取向剂提供具有高预倾角的液晶显示元件。一种液晶取向剂，其特征在于，含有下述(B)成分。(B)成分：具有下述式(1)所示的重复单元结构的聚合物(B)。(W表示具有选自由碳原子数4～40的脂环...
    2025-11-21
  • 液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶显示元件
    液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶显示元件_日产化学株式会社_202480023744.7
    本发明提供一种能得到以比以往高的水平抑制AC残像的液晶取向膜的液晶取向剂、该液晶取向膜以及使用了该液晶取向膜的液晶显示元件。一种液晶取向剂，其特征在于，所述液晶取向剂含有选自由具有由下述式(1)表示的重复单元(a1)的聚酰亚胺前体和作为该聚...
    2025-11-21
  • 阵列基板、其制作方法及显示面板
    阵列基板、其制作方法及显示面板_京东方科技集团股份有限公司_202480000411.2
    阵列基板、其制作方法及显示面板，包括衬底基板(101)；第一数据线(102)，在衬底基板(101)上沿第一方向(Y)延伸，第一数据线(102)包括断口(O)；桥接结构(103)，与断口(O)两端的第一数据线(102)相连；第一晶体管(104...
    2025-11-21
  • 用于具有减少的声波智能的声光偏转器的热稳定操作的系统和方法
    用于具有减少的声波智能的声光偏转器的热稳定操作的系统和方法_伊雷克托科学工业股份有限公司_202480019787.8
    本发明提供一种系统，所述系统包括用于使射束路径偏转的声光偏转器(AOD)扫描系统及用于控制所述AOD扫描系统的控制器。所述控制器可控制所述AOD扫描系统的一个驱动器的操作以使所述射束路径自第一位置偏转至第二位置，且可控制所述AOD扫描系统的...
    2025-11-21
  • 照明装置
    照明装置_索尼集团公司_202480018940.5
    该照明装置设置有：发光单元，发射第一波长带中的光；相位调制单元，对来自发光单元的入射光执行空间光学相位调制；波长转换单元，通过对来自相位调制单元的入射光执行波长转换来发射不同于第一波长带的第二波长带中的光；以及透镜光学系统，将来自波长转换单...
    2025-11-21
  • 用于无斑点平坦度卡盘性能扩展的金刚石的等离子体氟化
    用于无斑点平坦度卡盘性能扩展的金刚石的等离子体氟化_ASML荷兰有限公司_202480020121.4
    公开了一种用于从晶片台的表面去除材料的工具和一种形成用于从晶片台的表面去除材料的工具的方法。该工具包括卡盘和被设置在卡盘的至少一个表面上的研磨层。研磨层的表面包括共价键合到研磨层表面的原子，使得研磨层抵抗由被去除的材料引起的堵塞。该方法包括...
    2025-11-21
  • 用于将物场成像至像场的成像EUV光学单元
    用于将物场成像至像场的成像EUV光学单元_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202480021755.1
    一种用于将物场(5)成像至像场(11)的成像EUV光学单元(10)。多个反射镜(M1到M8)用于沿成像束路径从物场(5)朝向像场(11)引导波长短于30nm的EUV成像光(16)。多个反射镜(M1到M8)对EUV成像光(16)的总体传输率大...
    2025-11-21
  • 感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷线路板的制造方法
    感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷线路板的制造方法_株式会社力森诺科_202380096619.4
    一种感光性元件，其依次具备支撑膜、光学调整层及感光层，其中，所述光学调整层对波长365nm的光的吸光度为0.060以下，所述光学调整层对波长365nm的光的折射率为1.800以下。
    2025-11-21
  • 感光性树脂组合物、固化浮雕图案的制造方法、及固化膜、及半导体装置
    感光性树脂组合物、固化浮雕图案的制造方法、及固化膜、及半导体装置_旭化成株式会社_202480022823.6
    本公开关于感光性树脂组合物、固化浮雕图案的制造方法、固化膜及半导体装置等。感光性树脂组合物包含：(A)下述(A1)和/或(A2)的聚酰亚胺：(A1)在侧链具有芳香族环的聚酰亚胺、(A2)具有下述通式(1)：所表示的结构的聚酰亚胺；(B)溶剂...
    2025-11-21
  • 负型感光性树脂组合物、负型感光性树脂组合物被膜、负型感光性树脂组合物膜、固化膜及使用了它们的半导体装置
    负型感光性树脂组合物、负型感光性树脂组合物被膜、负型感光性树脂组合物膜、固化膜及使用了它们的半导体装置_东丽株式会社_202480025233.9
    提供具有厚膜时的优异的图案加工性，并且即使在具有铝焊盘电极的基板上进行加工处理也不产生有机堆积物的树脂组合物。一种负型感光性树脂组合物，其特征在于，含有作为(A)成分的选自聚酰胺、聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺和聚苯并唑中的至少1种高分子化合物、作...
    2025-11-21
  • 光聚合物组合物、全息图记录介质、其制备方法及包括其的光学元件
    光聚合物组合物、全息图记录介质、其制备方法及包括其的光学元件_株式会社LG化学_202580001765.3
    本公开内容涉及光聚合物组合物、全息图记录介质、其制备方法及包括其的光学元件。所述光聚合物组合物能够提供不仅表现出优异的光学记录特性而且即使在高温下也表现出优异的可靠性和透明度的全息图记录介质和包括其的光学元件。
    2025-11-21
  • 全息图记录介质和包括其的光学元件
    全息图记录介质和包括其的光学元件_株式会社LG化学_202580001766.8
    本公开内容涉及全息图记录介质和包括其的光学元件。所述全息图记录介质不仅具有优异的光学记录特性，而且即使在高温条件下也可以表现出优异的可靠性和高透明度。
    2025-11-21
  • 驱动方法、光源单元、照明单元、曝光装置、以及曝光方法
    驱动方法、光源单元、照明单元、曝光装置、以及曝光方法_株式会社尼康_202380096703.6
    光源元件的驱动方法为若在光源元件的温度在第一温度范围内时供给第一电流值的电流则以第一发光量发光的所述光源元件的驱动方法，包括：在使所述光源元件成为以所述第一发光量发光的状态时，开始以比所述第一电流值低的第二电流值进行向所述光源元件的电流供给...
    2025-11-21
  • 滤光片单元、照明单元、曝光装置及曝光方法
    滤光片单元、照明单元、曝光装置及曝光方法_株式会社尼康_202480021171.4
    滤光片单元包含配置在对被照射面进行照明的照明光学系统的光轴上的多个滤光片，所述多个滤光片包含具有第1透射率分布的第1滤光片和具有第2透射率分布的第2滤光片，所述第1透射率分布在与所述照明光学系统的光轴正交的平面内的正交坐标系的第1方向上，按...
    2025-11-21
  • 用于将物场成像至像场的成像EUV光学单元
    用于将物场成像至像场的成像EUV光学单元_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202480021937.9
    一种用于将物场(5)成像至像场(11)的成像EUV光学单元(10)。成像光学单元(10)具有多个反射镜(M1到M6)，用于沿成像束路径引导EUV成像光(16)。多个反射镜包含至少两个NI反射镜(M1、M2、M5、M6)及至少一个GI反射镜(...
    2025-11-21
  • 光源单元、照明单元、曝光装置、以及曝光方法
    光源单元、照明单元、曝光装置、以及曝光方法_株式会社尼康_202480023500.9
    光源单元包括：散热器、以及在所述散热器的第一面上二维排列的多个光源元件，在所述散热器的所述第一面形成有多个突出部，所述多个突出部从所述第一面突出并在俯视时分别与所述多个光源元件中的至少1个重合。
    2025-11-21
  • 用于在光刻中使用的静电夹具
    用于在光刻中使用的静电夹具_ASML荷兰有限公司_202480025041.8
    一种具有静电夹具系统的光刻设备，包括：多个电极，所述多个电极被配置成对部件施加静电夹持力；电源，所述电源连接至所述多个电极；以及控制器，所述控制器被配置成控制被施加至所述多个电极的电位以与所述光刻设备中的辐射脉冲的生成同步地在第一模式与第二...
    2025-11-21
  • 套刻测量装置的优化方法及执行其的套刻测量装置
    套刻测量装置的优化方法及执行其的套刻测量装置_奥路丝科技有限公司_202480026064.0
    本发明涉及一种套刻测量装置的优化方法。更详细地，涉及一种通过调节设置在套刻测量装置的光路上的多个光阑的位置及形态来优化套刻测量装置的方法。本发明提供一种套刻测量装置的优化方法，通过调节配置在套刻测量装置的光路上的多个光阑的位置及开口形态中的...
    2025-11-21
  • 确定施加到基板的应力源的方法
    确定施加到基板的应力源的方法_ASML荷兰有限公司_202480017282.8
    公开了一种确定基板上应力源的存在的方法。该方法包括：获取描述基板上的结构在基板平面中的位置信息的基板位置数据；获取描述基板的形状的基板形状数据；根据基板位置数据确定第一翘曲值，第一翘曲值描述基板的翘曲；根据基板形状数据确定第二翘曲值，第二翘...
    2025-11-21
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