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  • 本发明提供轻金属零部件深度清洗装置, 属于金属件处理技术领域, 解决氧化层或污物需手工清除, 速度慢、效率低、耗工时的问题。包括同轴设置的第一、二驱动端和内、外层膜;第一、二驱动端相对且间距设置, 两个驱动端均设有内层驱动环和外层驱动环, ...
  • 本发明公开了一种帐篷钢管用抛漆面光打磨设备, 包括, 连接底座, 连接底座上活动设有一组传动座, 传动座上活动设有用于钢管纤维的夹持卡爪, 连接底座上安装有一组限位滑轨, 限位滑轨内部设有一组导轨杆, 两端导轨杆间转动设有旋转轴, 旋转轴上...
  • 本发明公开了一种钣金机械的切割装置, 包括机架, 以及其顶部开设的安装槽, 所述安装槽内腔底部的一侧安装有第一输送带, 且所述安装槽内腔底部的另一侧安装有第二输送带, 以用于对钣金机械进行输送, 所述安装槽的内部安装有切割机构, 以用于对钣...
  • 本发明适用于抛光技术领域, 提供了一种机器人抛光设备及抛光方法, 包括定位组件, 定位组件上滑动配合有升降组件, 定位组件包括定位件以及两相向滑动配合在定位件上的纠偏件, 升降组件包括滑动配合在定位件上的移动件, 螺纹转动配合在移动件上的调...
  • 本发明提供一种板材表面抛光装置, 涉及抛光装置技术领域, 本实用包括连接箱, 所述连接箱的顶部固定连接有支撑板, 所述支撑板的顶部安装有电机, 所述支撑板的一侧转动插设有抛光辊, 所述电机和抛光辊通过轴承连接在一起, 所述连接箱的顶部开设有...
  • 本发明涉及模具加工技术领域, 尤其涉及一种模具生产用内孔抛光工装, 包括底座, 底座内转动连接设置有转动架, 转动架上方设置有储液座, 储液座内固定连接设置有过滤机构, 储液座内固定连接设置有压水座, 储液座内贯穿转动连接设置有抛光刷, 储...
  • 本发明涉及低温液体储存罐生产制造技术领域, 并具体公开了一种低温液体储存罐生产制造的罐体内壁抛光设备, 所述工作台侧面的中部固定连接有固定部件, 所述工作台远离固定部件的一侧固定连接有传动部件, 所述工作台顶部的一侧固定连接有抛光部件, 所...
  • 本发明公开了一种多孔陶瓷气泡增效化学辅助磁流变抛光装置及方法, 属于磁流变抛光加工技术领域, 包括底座, 所述底座上方设置有抛光盘组件和Z轴运动结构, 所述Z轴运动结构内侧设置有工件公转结构, 所述工件公转结构下方设置有工件自转结构, 所述...
  • 本发明公开了一种羽毛球拍加工用的毛边去除装置, 包括输送台、收纳仓、竖向导轨、去毛边仓和防尘顶壳, 本发明的在使用的过程中, 将外置挡壳安装在通槽区域用于阻隔磨料避免磨料体流出, 当拍杆受到驱动转动时会通过转动轴同步带动拍头同心转动, 由于...
  • 本发明公开了一种不锈钢人工关节抛光装置, 涉及抛光设备技术领域, 包括上约束件和下约束件, 上约束件和下约束件之间形成仿形流道, 仿形流道设置有进口端和出口端, 其用于磨粒流磨料的流通, 人工关节设置于仿形流道内;壳体, 其设置于上约束件和...
  • 本发明涉及大理石研磨技术领域, 尤其是精密量具大理石平台加工用表面研磨装置, 包括, 机床, 机床上安装有大理石研磨机本体, 大理石研磨机本体, 固定在大理石研磨机本体底部的支杆, 固定于大理石研磨机本体顶部的水箱, 水箱外表面安装有出水管...
  • 本发明公开了一种高稳定铁氧体磁芯自动化研磨设备, 属于用于磨削或抛光的机床、装置技术领域。该设备包括机罩、工作台、两个三轴位移机构、两个研磨机构、两个多联装夹持机构、除屑组件和双向压紧机构, 三轴位移机构带动研磨机构实现X、Y、Z轴方向的精...
  • 本发明涉及轴承陶瓷球加工设备领域, 具体地说, 涉及一种轴承陶瓷球加工用数控机床, 其包括机床本体, 机床本体包括底座, 底座的上端部设有安装板, 安装板处设有用于对轴承陶瓷球进行研磨的研磨机构;所述研磨机构包括转动设置于安装板处的下磨盘,...
  • 本发明涉及铌酸锂晶片技术领域, 具体涉及一种大尺寸铌酸锂晶片的减薄方法, 包括以下步骤:表面预处理:将大尺寸铌酸锂晶片浸没于混合酸液中浸泡处理, 浸泡完成后, 去除表面残留的酸液, 再真空干燥处理。本发明表面质量高, 通过表面预处理去除杂质...
  • 本发明涉及化学机械抛光技术领域, 具体公开了用于化学机械抛光的承载头及化学机械抛光设备。该承载头包括沿竖直方向延伸的面压气囊模块, 面压气囊模块包括面压弹性膜、修边支撑板和垫片, 垫片贴合于修边支撑板的底端, 面压弹性膜包裹修边支撑板和垫片...
  • 本发明公开了一种双面研磨机, 涉及研磨机技术领域, 包括, 机壳, 所述机壳的上方表面固定连接有支撑柱;识别装置, 所述识别装置设置在支撑柱的外侧表面, 用于实时识别材料的位置和角度;固定块, 所述固定块安装在支撑柱的上方表面, 用于对零件...
  • 本发明提供一种基板研磨装置和膜厚计算方法, 能够在基板的研磨中精度良好地测定研磨对象的膜厚。基板研磨装置具备:研磨台, 在该研磨台设置有涡流传感器, 且该研磨台构成为能够旋转;研磨头, 该研磨头与所述研磨台相对, 该研磨头构成为能够旋转, ...
  • 本申请提供一种晶圆定位装置及其晶圆研磨设备, 属于晶圆加工设备技术领域, 晶圆定位装置包括夹持定位系统、真空旋转载台系统、控制模块以及图像识别系统, 通过夹持定位系统、真空旋转载台系统、图像识别系统与控制模块的协同, 精准解决现有技术无法识...
  • 本发明提供立式清洗研磨装置, 涉及显示屏加工技术领域, 包括:第一安装座、立式安装组件、旋转装置以及研磨组件;所述立式安装组件设置在第一安装座上且包括用于定位装配显示屏的定位组件;旋转装置包括第一驱动组件, 设置在第一安装座的顶部且与第一安...
  • 该发明提供一种石英坩埚外表研磨机, 包括机架、驱动电机、旋转平台及手持式研磨装置, 旋转平台可自由转动的平行设置在机架上, 在旋转平台上方设置有喷淋头, 在旋转平台下方平行设置有用于集水的导流板, 驱动电机设置在导流板下方, 并与旋转平台轴...
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