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  • 本发明涉及液体喷出装置及液体收容装置。一种液体喷出装置,其特征在于,具备:收容容器,收容导电性的液体;第一电极,收容于收容容器的第一液室;第二电极,收容于收容容器的第二液室;隔板,收容于收容容器,并划分第一液室和第二液室;检测部,与第一电极...
  • 本发明涉及液体喷出装置及液体收容装置,一种液体喷出装置,具备:收容容器,收容导电性的液体;基准电极,收容于收容容器;第一电极,收容于收容容器;第二电极,收容于收容容器;输出部,与第一电极和第二电极电连接,并输出与来自第一电极和第二电极的电信...
  • 本公开涉及显示装置和制造显示装置的方法,所述显示装置包括:基板,包括发光区域和非发光区域;阳极电极,在所述发光区域上;发光层,在所述阳极电极上;像素限定层,在所述非发光区域上并且限定第一开口;堤挡结构,包括在所述像素限定层上的第一堤挡层和第...
  • 本公开涉及半导体器件及其制造方法。焊盘被形成在层间绝缘膜上,并且绝缘膜被形成为覆盖所述层间绝缘膜和所述焊盘。开口被形成在所述绝缘膜中以暴露所述焊盘的一部分。在所述开口中,镀镍膜被形成在所述焊盘上,第一镀金膜被形成在所述镀镍膜上,并且第二镀金...
  • 本申请涉及半导体装置及其制造方法、以及显示驱动装置。根据实施方式的用于驱动显示器的半导体装置可以包括:有源区,其具有第一导电类型的基板、在第一导电类型的基板上的第二导电类型的阱、以及第一导电类型的阱;延伸栅极绝缘层,其设置在有源区的凹陷结构...
  • 一种形成铁电器件(10、110)的中间体(1、11),包括:铪锆氧化层(4),包括四方相,并且至少一个与铪锆氧化层(4)物理接触的金属氧化物层(5,51,52),其中,所述金属氧化物层(5,51,52)包含至少一个选自下组的金属阳离子:氧化...
  • 一种铁电器件(1,10),其包括:铪锆氧化物层(2),其掺杂有氧化还原活性金属阳离子掺杂剂并包含斜方相,以及金属氧化物层(3),其包含与铪锆氧化物层(2)物理接触的氧化还原活性金属阳离子的氧化物,其中所述铪锆氧化物层(2)的金属阳离子掺杂剂...
  • 在内置有电子元件的布线基板中,提高电子元件的焊垫与覆盖焊垫的绝缘层之间的密合性。本布线基板具有:第一绝缘层;空腔,形成于所述第一绝缘层;电子元件,具备绝缘基体、以及设置在所述绝缘基体的一侧的焊垫,并且以使所述焊垫朝向所述空腔的开口侧的方式布...
  • 本发明提供一种图像形成装置以及信息发送方法。本发明的一个方式所涉及的图像形成装置具备通信部、操作部、对能够从操作部进行操作的操作图像进行显示的显示部、发送处理部、以及切换部。发送处理部将用于对远程操作图像进行显示的显示信息经由通信部而发送至...
  • 本公开涉及动态负载均衡。在一些实现中,入口提供方边缘网络设备(PE)可以获取与多个多归属(MH)PE的相应链路相关联的动态负载信息。入口PE可以基于动态负载信息确定与多个MH PE相关联的动态负载均衡方案。入口PE可以使用动态负载均衡方案来...
  • 本申请涉及异步电机控制领域,尤其涉及一种变频器驱动的异步电机的转子时间常数的计算方法,方法包括步骤:在异步电机运行过程中,对异步电机的三相电压值和三相电流值进行采样,根据采样结果建立电压‑电流初始模型。利用异步电机电压方程和间接磁场定向矢量...
  • 一种驱动系统包括:结构;输入,该输入包括:在该结构的第一侧面上的第一输入部分;以及在该结构的第二侧面上的第二输入部分;输出,该输出包括:在该结构的第一侧面上的第一输出部分;以及在该结构的第二侧面上的第二输出部分;以及功率转换器,该功率转换器...
  • 本发明提供了分布式电源和微电网接入配电系统的方法,属于能源处理技术领域,包括:根据历史所记载的数据以及实时的监测数据,明确区域内固定位置设备的能源消耗情况并标定为稳定负载;通过用户以及检测单元的信息反馈确定位置变动设备的能源需求情况并作为预...
  • 本发明涉及一种用于电池冷却系统(3)的补偿容器(1),该补偿容器具有由塑料制成的容器壳体(4),该容器壳体具有壳体槽(5)和至少一个盖件(6),该盖件从第一方向(7)放在壳体槽(5)上并与其密封连接,该补偿容器具有干燥器装置(8),该干燥器...
  • 本公开的目的在于提供一种锂二次电池,其使用锂金属和/或锂合金作为负极活性物质,能够提高容量维持率并且降低电阻值。该锂二次电池依次具有负极集电体层(111)、负极活性物质层(112)、无机多孔质层(113)、电解质层(120)、正极活性物质层...
  • 本公开为电极。电极包含基材和负极活性物质层。负极活性物质层配置于基材的表面。负极活性物质层包含第1石墨粒子、第2石墨粒子和Si粒子。第1石墨粒子具有6~20的纵横比。第2石墨粒子具有2.7以下的纵横比。在负极活性物质层的与厚度方向平行的截面...
  • 本公开涉及形成结构的方法、减小半导体衬底上的特征的间距的方法、图案化目标层的方法、在间隙中沉积材料的方法以及半导体处理组件。该方法包括在反应室中提供包括间隙的图案化衬底,其中间隙具有侧壁,并且侧壁覆盖有间隔件材料。该方法还包括通过气相沉积方...
  • 提供基板处理装置、基板处理装置的控制方法、存储有程序的存储介质。即便在发生了模块清洗的重试或延长的情况下也抑制装置的吞吐量的降低。一种基板处理装置,具备:多个处理模块,其对基板进行处理;搬送机,其搬送上述基板;以及控制装置,其制作在上述多个...
  • 提供了一种能够均匀地维持基板的每个区域的表面温度的加热装置和包括所述加热装置的基板处理设备。所述基板处理设备包括:腔室壳体,所述腔室壳体提供在其中处理基板的空间;基板支撑单元,所述基板支撑单元将所述基板支撑在所述腔室壳体内部;喷淋头单元,所...
  • 本公开提供一种多层电子组件,所述多层电子组件包括:主体,包括在第一方向上彼此相对的第一表面和第二表面、在第二方向上彼此相对的第三表面和第四表面以及在第三方向上彼此相对的第五表面和第六表面,所述主体包括中央部分和外侧部分,所述中央部分包括介电...
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