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  • 本申请公开了一种水晶玻璃制品的表面镀膜工艺,属于镀膜工艺的技术领域,其技术方案要点是具体步骤包括:S1,将水晶玻璃制品表面清洁,再进行干燥;S2,然后将水晶玻璃制品通过夹持装置进行夹持,将夹持装置置于真空镀膜装置中;S3,通过真空镀膜装置对...
  • 本发明涉及半导体制造技术领域,公开了一种氧化层的生成方法、半导体结构的制备方法及半导体结构,氧化层的生成方法包括:在第一工艺参数下,通过原位蒸汽生成工艺在初始半导体结构的一侧形成第一氧化层;在第二工艺参数下,通过原位蒸汽生成工艺在第一氧化层...
  • 本发明公开了一种用于光学元器件的真空镀膜机,涉及真空镀膜机技术领域,包括镀膜机主体和镀膜架体,镀膜机主体内设有真空室,镀膜架体设置在真空室内,镀膜架体包括滑动安装组件、旋转安装组件、旋转驱动组件和翻转固定组件,滑动安装组件与真空室滑动连接,...
  • 本发明公开了一种半球谐振陀螺电极检测基座金属化膜层蒸镀工装、系统及方法,解决了现有技术中存在电极检测基座表面蒸镀的金属化膜层粗糙且均匀性较差的问题,具体包括真空腔、设置在真空腔内的蒸镀设备,以及设置在蒸镀设备上经过优化的半球谐振陀螺电极检测...
  • 本发明公开了一种确定蒸发舟熔池尺寸的方法、设备及介质,涉及镀膜技术领域,该方法包括确定蒸发舟的干烧电压和干烧电流;获取蒸发舟的送丝参数,按照送丝参数向蒸发舟输送金属丝,送入蒸发舟的金属丝在蒸发舟产生的热量的作用下进入熔融状态,形成含熔池的蒸...
  • 本发明公开了一种用于光学玻璃生产的表面防护膜镀膜装置,涉及玻璃表面处理技术领域,包括两个对称转动连接在腔体两侧的密封门,还包括分设于两个密封门内的工件架,其包括转动连接于各密封门内的笼架,以环形阵列对应开设于笼架上下的两组圆孔,转动配合于各...
  • 本发明涉及超材料技术领域,且公开了一种具有双负折射率的层状超材料,包括基底以及周期性层组,所述周期性层组包括交替堆叠设置在基底上的金属层和介质层。一种具有双负折射率的层状超材料的制备方法,包括S5、对形成的基底及周期性层组进行退火处理,退火...
  • 本发明提供一种电子束物理气相沉积装置,包括第一坩埚和第二坩埚,分别放置在所述合金制备室中;第一电子枪及第二电子枪,安装在所述炉体上,所述第一电子枪与所述第一坩埚相对设置,所述第二电子枪与所述第二坩埚相对设置。通过设置第一电子枪和第二电子枪,...
  • 本发明公开了一种抗氧化涂层表面结构改性控制氧化膜生长的方法,该方法首先对高温合金基体进行预处理,随后采用真空电弧镀、热喷涂或化学气相沉积工艺制备厚度为10~40μm的抗氧化涂层,并进行真空扩散热处理。核心步骤在于采用特定参数的喷丸处理对涂层...
  • 本发明涉及一种航空钛合金加工用刀具硬质涂层及其制备方法,属于表面处理领域,具体涉及一种航空用刀具涂层的制备方法。本发明提供的一种航空钛合金加工用刀具硬质涂层,具有硬度高、结合力强、耐高温、摩擦系数低的优点。测试结果表明,该涂层显微硬度高于3...
  • 本发明属于材料表面工程领域,公开了一种环保的锌基防腐镀层及其制备方法。通过采用Zn‑Al靶材并结合离子镀工艺原位引入氮气,成功制备出高性能的ZnAlN复合镀层。Zn的牺牲阳极保护作用与AlN的高稳定性相结合,防腐能力和力学性能明显高于现有的...
  • 本发明公开了一种管内壁电弧离子镀膜设备及镀膜方法,涉及管状构件内壁处理技术领域,包括上、下腔室组成的镀膜容器,下腔室移动对接上腔室形成密闭腔体,上腔室设装夹夹具定位待镀管状工件,引弧针位于工件轴心,与靶材引弧放电,外侧设阳极构成回路,靶材竖...
  • 本申请公开了一种离子镀膜设备,涉及镀膜设备的技术领域,可以解决现有技术中离子镀在降低放电功率时弧斑难以维持、放电不稳定甚至断弧的问题。离子镀膜设备包括:镀膜容器,镀膜容器形成有真空工作腔;阴极组件,阴极组件布置于真空工作腔的第一端,阴极靶材...
  • 本发明公开了一种工程机械传动齿轮的制备方法,属于机械制造技术领域。其技术方案为:工程机械传动齿轮毛坯经过淬火、高温回火、粗加工、半精加工、去应力回火、精加工、去毛刺、清洗后,通过反应溅射和共溅射的复合方法制备CrTi/CrTiSiO/CrT...
  • 本发明公开了一种适配耳机金属外壳的镀膜装置,涉及耳机外壳镀膜技术领域,包括真空溅射镀膜箱,所述真空溅射镀膜箱的底部开设有料口;还包括真空过渡箱、辅助转料机构和联动封堵机构,所述真空过渡箱固定连接在所述真空溅射镀膜箱的底部,所述联动封堵机构配...
  • 本申请提供了一种制备TiNbNiCr合金靶材的方法以及使用该方法制备的TiNbNiCr合金靶材。所用原料按原子百分比的配比为:Ti:20‑50%,Nb:10‑30%,Ni:1‑30%,Cr:10‑60%,其采用等离子烧结法进行制备。该靶材制...
  • 本发明涉及磁控溅射技术领域,提供了一种钴溅射靶材的制备方法。本发明首先通过真空感应熔炼制备高纯钴锭,随后进行多段均匀化热处理,再对热处理后的钴锭进行热变形加工及真空退火处理,得到钴溅射靶材。本发明提供的方法操作简单,且能有效控制钴溅射靶材的...
  • 本发明公开了一种真空镀膜方法及系统。所述系统包括依次连通的第一溅射腔室、第一真空传输通道、CVD腔室、第二真空传输通道及第二溅射腔室。本发明利用基片在第一真空传输通道内移动时形成的流阻节流效应,在第一溅射腔室与CVD腔室之间建立压力梯度,驱...
  • 本发明公开了一种氧化钼溅射靶材及其制备方法和应用;包括如下按重量份计算的原料:含钼化合物60~90重量份;金属氧化物M1 10~30重量份;金属M2 5~20重量份;所述含钼化合物选自MoO22、MoO33、Mo44O1111或MoN中的至...
  • 本发明公开了一种“蓄水池”结构长寿命空间机构润滑薄膜及其制备方法,属于表面处理技术领域。该“蓄水池”结构长寿命空间润滑薄膜包括在基底表面依次设计的磁控溅射Ti打底层、磁控溅射复合等离子辅助化学气相沉积Ti‑DLC梯度层、等离子辅助化学气相沉...
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