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最新专利技术
  • 抗蚀剂组合物、光产酸剂的制备方法及图案形成方法
    抗蚀剂组合物、光产酸剂的制备方法及图案形成方法_湖北鼎龙芯盛科技有限公司_202511747023.3
    本发明公开了一种抗蚀剂组合物，包括式(1)所示的第一光产酸剂，基础树脂、含氟树脂、淬灭剂和0~1.0质量份的式(2)所示的第二光产酸剂，并公开了图案形成方法，最终得到了改善的感光度和LWR的抗蚀剂图案。
    2026-02-24
  • 光固化组合物及其配置方法与应用
    光固化组合物及其配置方法与应用_衢州市信安湖先进材料创新研究院_202511825872.6
    本发明涉及化学领域，具体涉及光固化组合物及其配置方法与应用，该光固化组合物包括硅烷水解单体、膨胀单体、光致产酸剂、质子酸及溶剂；所述硅烷水解单体包括至少两种的结构通式为RnSiL4‑n(1≤n＜4)的化合物且一定包括甲基三甲氧基硅烷和四甲氧...
    2026-02-24
  • 一种光感组合物及其应用
    一种光感组合物及其应用_珠海基石科技有限公司_202511924922.6
    本申请实施例提供了一种光感组合物及其应用。该光感组合物同时引入了光引发剂、可交联单体热交联剂、硅烷偶联剂、填料，并控制特定物质的活性官能团量的物质的量的关系在一定的范围内，使该光感组合在光交联和热交联后可实现较高且较为合适的交联密度，且填料...
    2026-02-24
  • 光刻胶匀胶方法及电子设备
    光刻胶匀胶方法及电子设备_苏州苏纳光电有限公司_202511801370.X
    本发明公开了一种光刻胶匀胶方法及电子设备，光刻胶匀胶方法包括：采用涂胶头在晶圆表面按预设螺旋轨迹涂布光刻胶胶液；驱动所述晶圆旋转，以使所述胶液均匀分布于晶圆表面；其中，在涂布过程中获取胶液的粘度值η，并根据胶液的粘度值η控制涂胶头移动速度v...
    2026-02-24
  • 引导模板的制备方法及制备系统
    引导模板的制备方法及制备系统_张江国家实验室_202410963511.7
    本发明提供一种引导模板的制备方法，是基于衍射曝光工艺的双重曝光方法，作为一个示例，其将花生状图案拆分成两个圆形图案分别进行曝光，即通过调整两次曝光时的晶圆台的位置，组合形成花生状图案；同时通过调整两次曝光间晶圆台移动的距离，可实现花生状图案...
    2026-02-24
  • 决定方法、信息处理装置、曝光装置、曝光方法及物品的制造方法
    决定方法、信息处理装置、曝光装置、曝光方法及物品的制造方法_佳能株式会社_202510969264.6
    提供决定方法、信息处理装置、曝光装置、曝光方法及物品的制造方法。一种决定方法，决定表示经由将来自原版的光投影到基板的投影光学系统检测标志的第1测量仪的光轴与不经由所述投影光学系统检测标志的第2测量仪的光轴之间的距离的基线的基线校正量，具有：...
    2026-02-24
  • 分析用于光刻的掩模的方法
    分析用于光刻的掩模的方法_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202510988879.3
    本文描述的公开内容涉及一种用于分析用于光刻的掩模的方法，包括：对准所述掩模的空间像(I)和所述掩模的掩模设计(ML)，以形成所述空间像(I)和所述掩模设计(ML)的叠加；其中CD阈值确定区域(501)和CD测量区域位于所述空间像(I)内；使...
    2026-02-24
  • 偏置预存表的生成方法、减少OPC迭代次数的方法
    偏置预存表的生成方法、减少OPC迭代次数的方法_上海华虹宏力半导体制造有限公司_202511286203.6
    本发明公开了一种减少光学邻近效应校正迭代次数的方法。该方法首先通过对历史校正数据进行统计学习，建立一个偏置预存表。该表将不同类型的图形片段及其局部几何特征(如线宽和间距)映射至一个优化的特征偏置值。在进行校正时，首先对待校正版图的各片段查找...
    2026-02-24
  • 一种纳米级光谱深度编码的激光直写系统及其实现方法
    一种纳米级光谱深度编码的激光直写系统及其实现方法_北京大学_202511457422.6
    本发明公开了一种纳米级光谱深度编码的激光直写系统及其实现方法，属于激光加工领域。本发明解决了传统工艺中因加工与表征分离导致的系列问题，通过光谱仪实时采集光轴分层扫描数据，与激光直写共享物镜光路，将光的颜色信息编码成样品深度信息，实现纳米级探...
    2026-02-24
  • 基于自适应曲率分割与区域拟合的高保真数字光刻方法
    基于自适应曲率分割与区域拟合的高保真数字光刻方法_安徽工程大学_202511539919.2
    本发明涉及基于自适应曲率分割与区域拟合的高保真数字光刻方法，包括：获取待处理曝光图像，对待处理曝光图像进行曲率分析以及自适应分割，获取若干子图像；根据子图像的曲率特征对子图像进行拟合，拟合包括：线性拟合、多项式拟合和局部拟合；基于拟合结果，...
    2026-02-24
  • 非规则图形的拆分方法、可读存储介质
    非规则图形的拆分方法、可读存储介质_上海华力集成电路制造有限公司_202511786074.7
    本发明提供一种非规则图形的拆分方法、可读存储介质，包括：提供原始版图，根据光刻能力设计图形拆分规则与图形设计规则；根据图形设计规则添加虚拟填充图形，将非规则图形整形为规则图形；根据图形拆分规则，对规则图形进行拆分分析，以得到拆分通解；根据拆...
    2026-02-24
  • 用于光刻信号模拟的方法、设备和存储介质
    用于光刻信号模拟的方法、设备和存储介质_全芯智造技术股份有限公司_202511942781.0
    根据本公开的实施例，提供了用于光刻信号模拟的方法、设备和存储介质。该方法包括：确定针对具有至少一个突出结构的基板的模拟光信号，模拟光信号指示光经过掩模后在基板上形成的信号；确定针对基板的拓扑信号，拓扑信号与至少一个突出结构相关联；以及基于模...
    2026-02-24
  • 显影用流体供给装置、显影装置和显影用流体供给方法
    显影用流体供给装置、显影装置和显影用流体供给方法_东京毅力科创株式会社_202510956246.4
    本发明提供显影用流体供给装置、显影装置和显影用流体供给方法，供给适于含金属抗蚀剂的显影的、包含弱酸的气体和雾中的至少任一者的显影用流体。显影用流体供给装置具有：与显影部连接的供给路径，该显影部能够利用包含弱酸的气体和雾中的至少任一者的显影用...
    2026-02-24
  • 一种用于AMOLED面板制造的显影液及其制备方法
    一种用于AMOLED面板制造的显影液及其制备方法_苏州博洋化学股份有限公司_202511557903.4
    本发明公开了一种用于AMOLED面板制造的显影液及其制备方法，显影液按质量百分比计，包含四甲基氢氧化铵2～5%、由5‑氨基四氮唑、2‑巯基苯并噻唑和1‑氨基苯并三氮唑中至少两种组成的复合金属保护剂0.5～5%、有机羧酸盐协同剂0.5～3%、...
    2026-02-24
  • 一种化合物半导体光刻胶剥离液及其制备方法、应用和清洗方法
    一种化合物半导体光刻胶剥离液及其制备方法、应用和清洗方法_上海戎洲芯科技有限公司_202511863318.7
    本发明公开了一种化合物半导体光刻胶剥离液及其制备方法、应用和清洗方法，其中一种化合物半导体光刻胶剥离液包括重量配比如下的各组分：金属保护性极性有机溶剂30‑60份；非质子极性有机溶剂30‑60份；缓蚀剂1‑15份；阴离子表面活性剂1‑15份...
    2026-02-24
  • 一种检测电子束横截面特性的焦面调节方法
    一种检测电子束横截面特性的焦面调节方法_北京大学_202511654611.2
    本发明公开了一种检测电子束横截面特性的焦面调节方法，属于微纳加工技术领域。本发明为解决现有电子束表征方法无法在离焦状态下获取电子束横截面特性的问题，通过制备具有位于基片曝光面和位于基片的凹槽内或/和凸台上的多组电子束对准标记的焦面调节用芯片...
    2026-02-24
  • 静电图像显影剂、处理盒、图像形成装置及图像形成方法
    静电图像显影剂、处理盒、图像形成装置及图像形成方法_富士胶片商业创新有限公司_202510130600.8
    一种静电图像显影剂、处理盒、图像形成装置及图像形成方法，所述静电图像显影剂包含载体及色调剂，其中，所述载体具有磁性粒子、包覆所述磁性粒子的树脂包覆层及所述树脂包覆层中所包含的无机粒子，通过X射线光电子能谱分析沿深度方向对构成所述无机粒子的金...
    2026-02-24
  • 图像形成系统
    图像形成系统_富士胶片商业创新有限公司_202510139902.1
    本发明公开了一种图像形成系统，所述图像形成系统具有：旋转的像保持体；对置部件，所述对置部件与所述像保持体相对配置，被设为经由调整与所述像保持体的距离的调整部与所述像保持体连接的结构；以及温度检测部，所述温度检测部设置于所述对置部件、所述调整...
    2026-02-24
  • 打印机系统及其检测方法
    打印机系统及其检测方法_武汉华星光电技术有限公司_202511727792.7
    本申请实施例提供一种打印机系统及其检测方法；该打印机系统通过设置感光结构，使感光结构在受到光照时的阻值与没有受到光照时的阻值不同，使得在打印机系统被配置为检测阶段时，可以通过点亮发光单元，并使感光结构与发光单元相对设置，通过感光结构的阻值是...
    2026-02-24
  • 时间计测装置
    时间计测装置_精工时计株式会社_202510970130.6
    提供时间计测装置，以简单的结构防止使施加于液晶面板的交流电压的极性以固定的极性反转周期反转的定时与将图像数据写入到液晶面板的定时重叠。时间计测装置包含：事件保留部，其在紧接于所述交流电压的极性反转之前的固定的第1等待动作时间和紧接于所述交流...
    2026-02-24
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