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最新专利技术
  • 一种用于提高结晶器铜板寿命的复合涂层及其等离子喷涂制备方法
    一种用于提高结晶器铜板寿命的复合涂层及其等离子喷涂制备方法_北京奥邦新材料有限公司_202511854660.0
    本发明涉及材料表面工程及冶金设备技术领域，具体地说，涉及一种用于提高结晶器铜板寿命的复合涂层及其等离子喷涂制备方法，其化学成分按质量百分比包括：铬35%‑55%、镍20%‑55%、二硼化钛5%‑10%、铌0.1%‑0.3%，余量为碳化铬及不...
    2026-03-15
  • 激光-滚压协同加工下热喷涂Al2O3-ZrO2陶瓷涂层均质化制造方法与装置
    激光-滚压协同加工下热喷涂Al2O3-ZrO2陶瓷涂层均质化制造方法与装置_浙江工业大学_202511440796.7
    本发明公开了一种激光‑滚压协同加工下热喷涂Al2O3‑ZrO2陶瓷涂层均质化制造方法与装置。所述装置为激光‑滚压协同加工装置，包括激光系统、滚压系统、协同控制系统以及车床控制系统，所述制造方法包括如下工艺：S1：在基材表面通过热喷涂工艺喷涂...
    2026-03-15
  • 钛-6铝-4钒的钛合金表面处理方法
    钛-6铝-4钒的钛合金表面处理方法_超汇桂盟传动(苏州)有限公司_202410888306.9
    一种钛‑6铝‑4钒的钛合金表面处理方法，包含(a)在无氧环境中，将钛‑6铝‑4钒的钛合金与碳源接触进行渗碳处理，获得经渗碳处理的钛合金，该渗碳处理的温度为880℃至920℃，且时间为15分钟至60分钟；(b)在步骤(a)后，将该经渗碳处理的...
    2026-03-15
  • 一种导电部件及其制备方法和能源转换与储存装置
    一种导电部件及其制备方法和能源转换与储存装置_湖南大学_202511838898.4
    本发明涉及能源转换与储存技术领域，尤其涉及一种导电部件及其制备方法和能源转换与储存装置。本发明提供的制备方法包括：提供导电基材和氮源化合物，将导电基材和氮源化合物置于反应环境内；在惰性气氛下对氮源化合物及导电基材进行加热处理，并使氮源化合物...
    2026-03-15
  • 金属表面处理方法、表面改性金属、热流部件
    金属表面处理方法、表面改性金属、热流部件_清华大学_202511365439.9
    本申请涉及高温散热技术领域，公开了金属表面处理方法、表面改性金属、热流部件。方法，包括：采用活泼金属对金属材料进行合金化处理，得到合金化材料，其中，所述金属材料包括铝金属、铜金属、钛金属中的至少一种，以所述合金化材料的质量为基准，所述活泼金...
    2026-03-15
  • 高附着复合铝膜及其制备方法
    高附着复合铝膜及其制备方法_浙江柔震科技有限公司_202511231595.6
    本发明公开了一种高附着复合铝膜及其制备方法，属于复合薄膜技术领域，包括基底层，形成在所述基底层至少一个表层的钛酸钡涂层，以及形成在钛酸钡涂层表面的金属铝层。通过采用钛酸钡涂层，其表面能更高，沉积的铝层在其表面的浸润性更好，可以得到均匀致密且...
    2026-03-15
  • 一种真空镀膜进料腔及进料方法
    一种真空镀膜进料腔及进料方法_哈尔滨工业大学_202511536865.4
    本发明属于真空镀膜领域领域，具体涉及到一种真空镀膜进料腔及进料方法。其中真空镀膜进料腔包括腔体组件、传动组件、均温加热组件、离子轰击清洗组件和抽真空组件；传动组件用于沿基材的板面方向输送基材；腔体组件位于传动组件的上游设置有进料舱门组件，下...
    2026-03-15
  • 用于制造掩模的方法和电子装置
    用于制造掩模的方法和电子装置_三星显示有限公司_202510866426.3
    本申请提供了用于制造掩模的方法和电子装置。根据实施例的用于制造掩模的方法包括提供基础层，在基础层上形成具有第一图案的图案层，在图案层上形成保护层，在基础层上形成第二图案，以及去除保护层。保护层包括低k材料。
    2026-03-15
  • 掩模板及其制备方法、显示面板
    掩模板及其制备方法、显示面板_武汉华星光电技术有限公司_202511384771.X
    本申请实施例提供一种掩模板及其制备方法、显示面板，该掩模板通过使第一掩模部远离导电层的一侧的表面的宽度，大于第一掩模部的其他部分的宽度；或者，第一掩模部靠近导电层的一侧的表面的宽度，大于第一掩模部的其他部分的宽度，使得第一掩模的一侧的表面的...
    2026-03-15
  • DLC涂层及其制备方法
    DLC涂层及其制备方法_清华大学_202511215684.1
    本申请涉及磁过滤阴极真空电弧沉积技术领域，公开了DLC涂层及其制备方法，该DLC涂层包括涂层本体，所述涂层本体包括渐变层，在所述渐变层的厚度方向上，所述渐变层中sp3键含量呈线性变化。该DLC涂层具有优异的硬度性能和承载性能，同时结构稳定，...
    2026-03-15
  • 一种橡胶材料表面耐磨蚀类金刚石复合薄膜及其制备方法与应用
    一种橡胶材料表面耐磨蚀类金刚石复合薄膜及其制备方法与应用_华南理工大学_202511298963.9
    本发明公开了一种橡胶材料表面耐磨蚀类金刚石复合薄膜及其制备方法与应用。本发明的耐磨蚀类金刚石复合薄膜的组成依次包括Ti过渡层和DLC功能层。其中Ti过渡层是通过直流磁控电源溅射沉积到橡胶材料表面，能够大大提高薄膜的结合强度；DLC功能层在T...
    2026-03-15
  • 一种上转换发光TCO薄膜及其制备方法和应用
    一种上转换发光TCO薄膜及其制备方法和应用_中山智隆新材料科技有限公司_202511378654.2
    本发明属于光伏材料技术领域，提供了一种上转换发光TCO薄膜及其制备方法和应用。本发明提供的氧化锡基靶材采用特定配比的主体和掺杂稀土氧化物作为主要组分，其中主体包括氧化锡、氧化锌和氧化钽，掺杂稀土氧化物包括X的氧化物，X选自Sm、Eu、Tb、...
    2026-03-15
  • 一种用于硼中子俘获疗法的锂靶的梯度镀膜方法
    一种用于硼中子俘获疗法的锂靶的梯度镀膜方法_北京健联医疗科技有限公司_202511832030.3
    一种用于硼中子俘获疗法的锂靶的梯度镀膜方法，属于核医学治疗设备用靶材制备技术领域，包括以下步骤：以高于99.5%纯度的紫铜为基材，在所述基材表面通过真空磁控溅射镀膜法依次镀制多层混合膜；所述混合膜由抗起泡材料与金属锂组成，沿基材至远离基材方...
    2026-03-15
  • 一种基于真空加热的HMDS喷涂装置
    一种基于真空加热的HMDS喷涂装置_三河建华高科有限责任公司_202511458859.1
    本发明涉及基片表面预处理领域，具体公开了一种基于真空加热的HMDS喷涂装置，包括：工艺腔体，由上盖与下层盘体构成，所述上盖通过气缸组件驱动升降，所述下层盘体底部设置有安装基板，所述下层盘体的外沿贯穿开设有气孔；加热盘体，通过若干根立柱固定安...
    2026-03-15
  • 一种真空镀膜装置
    一种真空镀膜装置_光驰科技(上海)有限公司_202410900814.4
    本发明属于真空镀膜技术领域，公开了一种真空镀膜装置。真空镀膜装置包括加料机构、蒸镀机构、第二移动组件、阀门和第一抽真空机构，加料机构包括第一壳体、放置件、第一移动组件、至少一个放料件、加热组件和多个储料件；蒸镀机构包括第二壳体和蒸镀加热件。...
    2026-03-15
  • 光学元件的镀膜方法及光学元件
    光学元件的镀膜方法及光学元件_信阳舜宇光学有限公司_202410903493.3
    本申请公开了一种光学元件的镀膜方法及光学元件。光学元件的镀膜方法包括：在光学元件的基板的第一表面形成具有图案的涂层，其中，第一表面的被图案覆盖的部分为有效区域，未被图案覆盖的部分为空白区域；在第一表面的至少空白区域处镀制第一膜层；去除第一表...
    2026-03-15
  • 一种真空蒸镀机门用无阻式观察窗
    一种真空蒸镀机门用无阻式观察窗_苏州佑伦真空设备科技有限公司_202511821375.9
    本发明涉及真空蒸镀机技术领域，具体为一种真空蒸镀机门用无阻式观察窗，包括安装框架，并且安装框架远离真空蒸镀机的腔门的一侧连接有外遮光机构，所述安装框架的内部通过支撑调控组件连接有第一防着板和第二防着板，且第二防着板前侧的安装框架内从后向前依...
    2026-03-15
  • 溅射装置及钨膜的成膜方法
    溅射装置及钨膜的成膜方法_株式会社爱发科_202510634666.0
    本发明提供一种能够形成低电阻钨膜的溅射装置及成膜方法。具备：基板台架(2)，其在设置有钨材质的靶(3)的真空室(1)内保持基板(Sw)；以及高频电源(Hs)，其向基板台架(2)施加高频电力。在真空室(1)内生成第1等离子体气氛(Pm1)，当...
    2026-03-15
  • 一种p型导电特性氮化物透明导电薄膜的制备方法
    一种p型导电特性氮化物透明导电薄膜的制备方法_河北北方学院_202511522694.X
    本发明提供了一种p型导电特性氮化物透明导电薄膜的制备方法，公开了p型导电特性氮化铪透明导电薄膜的制备及应用，具体的以高纯金属铪为溅射靶材，分别以高纯氩气和高纯氮气为溅射工作气体和反应气体，基于调控工作气体和反应气体混合比例，通过控制氮化铪薄...
    2026-03-15
  • 一种NiCrSi合金靶材及其制备方法、应用
    一种NiCrSi合金靶材及其制备方法、应用_苏州六九新材料科技有限公司_202511733934.0
    本发明公开了一种NiCrSi合金靶材及其制备方法、应用，属于PVD镀膜应用靶材技术领域。所述NiCrSi合金靶材中，Cr含量≤50%，Si含量≤50%，Cr+Si含量≤90wt%；所述制备方法包括：将Ni粉、Cr粉和Si粉按比例球磨混料后装...
    2026-03-15
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