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  • 本发明公开了一种操作机构及小型断路器,包括枢转安装在外壳上的手、与手柄铰链联接的连杆、与连杆铰链联接的跳扣、支架、锁扣以及固定安装在外壳上的静触头,其中跳扣与锁扣枢转安装在支架上,跳扣、锁扣两者可以形成啮合关系与支架共同构成一个刚体件,可以...
  • 本发明属于断路器技术领域,涉及一种动触头防跌落结构,包括动触头转动座、动触头、防跌落组件,动触头的两端分别设有动触点和弧形滑槽;弧形滑槽的弧心相对于动触头转动中心偏心设置,具有近心挡壁与远心挡壁;活动支架的转动中心相对于动触头转动中心偏心设...
  • 本申请涉及一种高压直流继电器。高压直流继电器包括静触头和动组件,静触头设有静触点;动组件包括推动机构、动簧机构以及弹性元件,所述动簧机构设有与所述静触点相对的动触点,所述动簧机构通过所述弹性元件与所述推动机构弹性配合;所述动组件形成有支撑面...
  • 本申请涉及一种高压直流继电器。高压直流继电器包括静触头和动组件,静触头设有静触点;动组件包括推动机构、动簧机构、弹性元件和支架,所述动簧机构设有与所述静触点相对的动触点,所述动簧机构通过所述弹性元件与所述推动机构弹性配合,所述支架连接于所述...
  • 本申请涉及一种高压直流继电器。高压直流继电器包括静触点和动组件。静触点设有静触点;动组件,包括推动机构、动簧机构、弹性元件以及支架,所述推动机构包括推动座以及连接于所述推动座的推动杆和支撑结构,所述动簧机构设于所述支撑结构背向所述推动座的一...
  • 本申请涉及一种高压直流继电器。高压直流继电器包括静触头和动组件,静触头设有静触点;动组件,包括推动机构、动簧机构、弹性元件以及支架,动组件包括推动机构、动簧机构、弹性元件以及支架,动簧机构设有与静触点相对的动触点,动簧机构通过弹性元件与推动...
  • 本申请涉及一种高压直流继电器。高压直流继电器包括静触头和动组件,静触头设有静触点;动组件包括推动机构、动簧机构、弹性元件、支架以及固定片,动簧机构设有与静触点相对的动触点,弹性元件设于动簧机构和推动机构之间,且两端分别抵接于动簧机构和推动机...
  • 本申请涉及一种高压直流继电器。高压直流继电器包括静触头和动组件,静触头设有静触点;动组件包括推动机构、动簧机构、弹性元件、支架以及固定片,动簧机构设有与静触点相对的动触点,动簧机构通过弹性元件与推动机构弹性配合,支架与动簧机构滑动配合,固定...
  • 本发明涉及低压电器技术领域,尤其是涉及一种灭弧系统及开关。本发明提供的灭弧系统包括:动触头组件、静触头组件、灭弧室组件、绝缘件、底板、第一滑块和第二滑块;动触头组件包括动主触头和动弧触头,绝缘件上设置有避让口,动弧触头穿设于避让口,底板上设...
  • 本发明公开了一种无电弧开断的限流开关。其包括绝缘瓷体、上进线端子、静触头、过流保护器件、下触片和下出线端子。在过电流发生时,限流开关自动断开,且开断过程无电弧。
  • 本公开提供一种平面分布多注电子枪,涉及微波电真空的技术领域,平面分布多注电子枪包括:壳体;阴极组件,设置于壳体内,阴极组件包括:阴极头,阴极头的表面具有间隔地平行布置在共同平面内的多个发射面,多个发射面被构造成受热后逸出电子;阳极,设置于壳...
  • 本发明提供一种空间行波管,包括依次相连的电子枪、慢波系统和收集极,所述收集极包括收集腔和多个并行设置的子收集极,所述收集腔一端连接慢波系统另一端连接子收集极,子收集极连接收集腔的位置设置反射电子进入子收集极的反射装置;所述收集极外侧设置液冷...
  • 本申请实施例提供了一种粒子源组件及粒子束设备,涉及带电粒子束加工与检测设备技术领域,用于提高对带电粒子束的束流状态调整的自由度。该粒子源组件包括沿第一方向排布的粒子源、可调光阑和准直透镜装置;其中,粒子源用于产生沿第一方向朝向可调光阑出射的...
  • 本发明涉及一种离子注入机、晶圆电荷量的检测方法,涉及半导体技术领域,其中,离子注入机设置了转盘、离子束发射器、支撑架以及检测板,在进行离子注入时,转盘转动,不同承载区的晶圆会经过检测板,从而进行检测,设置有检测板的离子注入机可以实时检测晶圆...
  • 本发明公开了一种半导体芯片制造离子注入设备,属于半导体芯片制造技术领域,包括底板,所述底板的上方设置有龙门架,龙门架的内部设置有离子注入机本体,离子注入机本体上方的一端设置有离子箱,离子注入机本体上方的另一端设置有抽风机,底板上方的一端设置...
  • 本申请提供一种介质窗控温结构及介质窗控温方法,介质窗控温结构包括:介质窗、盖板、边缘风扇、导风板和导风板调节器。盖板和介质窗相对设置,边缘风扇设置于盖板靠近介质窗的一侧表面,导风板调节器设置于边缘风扇靠近介质窗的一侧表面,导风板设置于导风板...
  • 本发明提供维护装置、真空处理系统和维护方法。维护装置包括:形成有开口部的壳体,开口部具有与在处理容器设置有第一开闭门和第二开闭门的真空处理装置的第二开闭门对应的尺寸,第一开闭门用于基片的送入送出,第二开闭门与第一开闭门不同,能够将开口部气密...
  • 本申请提供一种刻蚀设备预测性维护方法、装置及相关设备,方法包括:获取刻蚀设备的反应腔室的多维数据;根据等离子体发射光谱数据,生成等离子体稳定性指标;将射频功率波动值、反应气体浓度变化率和静电卡盘中心点温度值输入特征融合模型,生成刻蚀均匀性预...
  • 本发明公开了一种光离子化检测器的电离室,包括阴电极和阳电极,阴电极与阳电极重叠设置,在阳电极或阴电极的一侧设置紫外灯,阴电极与阳电极均设有相互连通的气流流道,紫外灯位于气流流道的内端,阴电极或阳电极的气流流道边缘设有高压结构。本发明在阴电极...
  • 本发明公开了一种质谱仪及其使用方法,包括多个电离效率相近或相同的质子转移反应离子源、至少具备四个端口的离轴偏转电极腔体、离子检测器、TOF腔体及控制模块,多个质子转移反应离子源至少包括一个第一离子源和一个第二离子源,且第二离子源的离子流强度...
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