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  • 本发明提供了用于表达转座酶的多核苷酸,特别是用于表达 piggyBac 转座酶的多核苷酸 mRNA,所述多核苷酸 mRNA 包含含有超活跃突变的 piggyBac 转座酶编码序列和经修饰的 5'‑ 和 3'‑UTR 序列以增强 piggyB...
  • 本发明为一种前体crRNA,其是具有修饰核苷酸的I型CRISPR‑Cas系统的前体crRNA,其中,在由第1重复序列的5’臂区域、第1重复序列的5’侧茎形成区域和第1重复序列的环形成区域构成的区域至少有1个核苷酸为修饰核苷酸。
  • 本发明涉及一种具有提高的稳定性和蛋白表达水平的新型核酸构建体及其用途,更具体地,涉及一种核酸构建体,其包含:编码多肽或蛋白的编码区;和具有二级或三级结构的多聚(A)尾,以及包含该核酸构建体的用于疫苗或基因治疗的药物组合物。根据本发明的核酸构...
  • 本披露涉及用于靶向、编辑和/或调节CD70(分化簇70)基因表达的CRISPR相关系统和组分。本披露还涉及其与包括T细胞或T细胞前体的工程化细胞相关的方法及应用。
  • 本文公开了用于经由反式剪接产生嵌合RNA分子的不含CRISPR的组合物和产生所述嵌合RNA分子的方法,以及使用经由反式剪接产生的嵌合RNA分子来治疗和/或预防遗传疾病或病症的方法。
  • 本发明涉及一种用于在植物中异源表达基因的反式互补系统,以及包含生产载体和辅助载体,其中I)所述生产载体不具备在植物中引起系统性感染所需的至少一种功能,例如,通过复制、细胞间和/或长距离移动,以及II)所述辅助载体以串联方式补足缺失的功能。在...
  • 本公开提供了携带乙酰辅酶A羧化酶(ACC酶)基因的一个或多个突变的植物和/或植物细胞,以及制造和使用此类植物的方法。在一些实施方案中,所述植物和/或植物细胞对靶向乙酰辅酶A羧化酶的除草剂具有抗性或耐受性。
  • 本文公开了包含操作地连接至启动子的PTEN诱导的激酶1(PINK1)编码基因的重组基因治疗载体,以及使用该重组治疗载体抑制、减少或延迟受试者的神经元的变性或死亡的方法。
  • 本公开提供含有四环素诱导型表达系统的经修饰的rep‑cap质粒,其可以用于产生重组AAV1载体。
  • 本公开提供了一种制备PPHG样品的方法和含有该PPHG样品的组合物。该方法可以包括使用β‑甘露聚糖酶对瓜尔胶样品进行酶解,得到反应混合物。该方法还可以包括处理该反应混合物,得到PHGG样品。该PHGG样品可以包括多种多糖,且该多种多糖中按重...
  • 提供了使用无模板聚合酶(例如,末端脱氧核苷酸转移酶(TdT))在基底上的反应位点喷墨辅助合成多个多核苷酸的方法、装置和组合物。组合物包含用于喷墨递送的合成试剂的可打印的稳定制剂,所述合成试剂包含但不限于无模板聚合酶、二价阳离子和核苷酸。
  • 本发明总体上涉及放射化学领域。具体而言,本发明提供了一种天冬酰胺酰肽连接酶(PAL)介导的产生位点特异性放射性标记单域抗体(sdAb)示踪剂的方法,任选地在谷氨酰胺酰环化酶(QC)存在下进行。通过本发明方法制备的放射性标记sdAb示踪剂提供...
  • 本发明涉及一种用于分别通过赖氨酸酯或精氨酸酯的化学酶促本体聚合制备线性聚赖氨酸或聚精氨酸的方法。本发明还涉及一种用于在赖氨酸酯或精氨酸酯的化学酶促本体聚合中控制聚赖氨酸或聚精氨酸的区域选择性的方法。
  • 本发明的课题在于提供使用在健康检查等中采集的血清等、不单纯依赖AFP而简便地检测肝细胞癌的方法。本发明利用规定的方法,对从受试者采集的体液中的(A)SEPT9基因的转录调控区及/或转录起点的+1~+1000的区域、或者HOXA1基因的转录调...
  • 本文提供了在使多核苷酸易位穿过纳米孔期间表征所述多核苷酸的方法。本文还提供了操作纳米孔阵列的方法。本文进一步提供了用于执行此类方法的试剂盒和设备。
  • 在用于将重载安装在承载结构中的方法中,承载结构(15)由优选能彼此重叠组装的承载元件构成,并且所述承载结构至少通过起重机系统构造。提升系统(25)、优选绞索提升系统装配在承载结构(15)中,待安装的重载随后与提升系统(25)的多个纵向元件(...
  • 本发明提供一种TiAl基合金的制造方法,其通过将以Ti粉末和Al粉末为主要原料的混合原料粉末进行烧结而制造TiAl基合金,其特征在于,通过在550℃至750℃之间的预定温度范围内以每分钟10℃以下的升温速度进行升温,或者分阶段升温的同时设置...
  • 本公开的钛铜箔含有1.5质量%~5.0质量%的Ti,剩余部分由铜和不可避免的杂质构成,在与轧制方向平行的方向上以10mm的间隔位于直线上的9个点的、箔厚的标准偏差(μm)与所述箔厚的平均值(μm)之比为0.0100以下。
  • 本发明涉及一种用于制造或修复工作辊(100)的方法,包括基体(102)和耐磨保护层(104),其中颗粒(112)被热施加到工作辊(100)上,其中,该方法的特征在于,在颗粒的热施加期间,50%或更多的颗粒保持粘附到基体和/或已经施加的耐磨保...
  • 公开的示例涉及控制于衬底的特征上沉积的含硅膜的生长轮廓。一示例提供了一种执行循环式化学气相沉积(CVD)/蚀刻处理以控制在包含间隔结构的衬底上沉积的含硅膜的轮廓的方法。每个间隔结构包含顶部场区(top field)和一个或更多个侧壁。该方法...
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