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最新专利技术
  • 一种叠片批量抛光装置
    一种叠片批量抛光装置_皇裕电子科技(扬州)有限公司_202511385336.9
    本发明公开了一种叠片批量抛光装置及方法，属于高端装备制造与精密加工技术领域。该装置包括机架组件、排料和上料组件、叠片抛光组件及加工套筒组件。本发明核心在于所述叠片抛光组件设有由主驱动源和备用驱动源构成的冗余驱动系统，可择一驱动抛光盘轴向进给...
    2026-01-24
  • 一种氮化镓晶片抛光设备及其抛光方法
    一种氮化镓晶片抛光设备及其抛光方法_无锡吴越半导体有限公司_202511472427.6
    本发明公开了一种氮化镓晶片抛光设备及其抛光方法，所述设备包括：操作台，设置在所述操作台上的清洁位、换盘位、调节位；换盘位包括：换盘运输件，安装在操作台上；换盘固定件，设计多组，与换盘运输件连接，每组包括与所述换盘运输件连接的固定座，固定座上...
    2026-01-24
  • 一种深孔抛光装置及抛光方法
    一种深孔抛光装置及抛光方法_无锡升滕半导体技术有限公司_202511568486.3
    本发明涉及深孔技术领域，公开了一种深孔抛光装置及抛光方法，包括工作台，工作台上方设置有放置台，放置台上方放置有工件本体，工件本体处贯穿开设有深孔，放置台一侧壁开设有固定板；放置台上方设置有第二圆形转盘，第二圆形转盘内开设有空腔。本发明，通过...
    2026-01-24
  • 一种半球谐振子全表面力流变抛光装置
    一种半球谐振子全表面力流变抛光装置_浙江工业大学_202511313411.0
    本发明公开了一种半球谐振子全表面力流变抛光装置，包括第一工位和第二工位，所述第一工位包括第一抛光头和抛光盘；所述第二工位包括第二抛光头和抛光盘；所述抛光盘包括第一抛光盘和第二抛光盘，所述第一抛光头包括第一抛光部，所述第一抛光部包括内杆抛光面...
    2026-01-24
  • 一种注塑模具导柱用抛光装置
    一种注塑模具导柱用抛光装置_苏州市振业模具有限公司_202511377191.8
    本发明涉及零件抛光技术领域，尤其涉及一种注塑模具导柱用抛光装置。传统的抛光方式对导柱进行抛光时，抛光效率低下，导柱在转动时容易产生细微偏差而发生抖动，导致抛光精度较差，导柱的表面在抛光前与抛光后可能会附着一些不同的杂质，导致抛光不够均匀，且...
    2026-01-24
  • 一种石油井口套管用抛光装置
    一种石油井口套管用抛光装置_济南宝山石油设备有限公司_202511656118.4
    本发明公开了一种石油井口套管用抛光装置，涉及抛光设备技术领域，包括抛光底座和控制装置，所述抛光底座上固定设置有L形板，所述抛光底座上设置有用于支撑套管的支撑机构，所述抛光底座上设置有支撑平台，所述抛光底座上设置有用于调节两个支撑平台间距离的...
    2026-01-24
  • 一种电场发生装置及具有该装置的电磁流变研磨抛光工具
    一种电场发生装置及具有该装置的电磁流变研磨抛光工具_湖南大学_202511194145.4
    本发明公开了一种电场发生装置及具有该装置的电磁流变研磨抛光工具，所述电场发生装置由金属板、碳刷安装板、碳刷、电源组成；所述电磁流变研磨抛光工具由滑块、下挡板、固定轴、电机、齿轮、齿圈、下旋转环、内轴承盖、金属板、旋转环、挡板、上旋转环、上挡...
    2026-01-24
  • 能够实现轴对称壳谐振子唇沿力流变抛光的设备和方法
    能够实现轴对称壳谐振子唇沿力流变抛光的设备和方法_浙江工业大学_202511354476.X
    本发明提供了一种能够实现轴对称壳谐振子唇沿力流变抛光的设备及方法。所述设备包括机架，以及设于机架上的抛光液槽和工件夹持驱动主轴；工件夹持驱动主轴的下端连接有工件夹具；抛光液槽可以做旋转运动；抛光液槽的底部设有唇沿抛光盘，唇沿抛光盘包括工作平...
    2026-01-24
  • 自动研磨装置
    自动研磨装置_浙江盾源聚芯半导体科技有限公司_202511273611.8
    本申请涉及半导体零件加工领域，并公开了一种自动研磨装置，其中，自动研磨装置用于研磨待加工零件的第一表面，第一表面上具有凸起结构，自动研磨装置包括，承载组件，承载组件用于承载待加工零件，并驱动待加工零件旋转；研磨组件，研磨组件设置在承载组件沿...
    2026-01-24
  • 高转速差工况的交替微球研磨方法及装置
    高转速差工况的交替微球研磨方法及装置_清华大学_202511413629.3
    本申请涉及一种高转速差工况的交替微球研磨方法及装置，其中，方法包括：基于具有偏心结构的研磨盘，确定微球研磨的结构参数，以建立仿真对象的拓扑模型并导入仿真软件；在仿真软件中，设置微球研磨的工况参数，并施加预设高转速差运动约束，以提取微球公转轨...
    2026-01-24
  • 一种内台阶端面的超精密自动研磨加工装置及方法
    一种内台阶端面的超精密自动研磨加工装置及方法_中国航发动力股份有限公司_202511414571.4
    本发明涉及航空发动机制造领域，公开了一种内台阶端面的超精密自动研磨加工装置及方法，该装置中研磨固定盘位于研磨机的研磨面上方，研磨具的顶面与底面均为研磨加工面，研磨具固定在研磨固定盘内，且研磨具的顶面或底面通过研磨固定盘与研磨机的研磨面接触，...
    2026-01-24
  • 一种自动研磨曲线槽和滑块的装置及研磨方法
    一种自动研磨曲线槽和滑块的装置及研磨方法_江苏北方湖光光电有限公司_202511418101.5
    一种自动研磨曲线槽和滑块的装置及研磨方法，包括底座、第一研磨部件和第二研磨部件；底座包括底板，设置于底座上的第一立板，设置于第一立板上的驱动组件；第一研磨部件包括设置在底板上的第一研磨底座，设置于第一研磨底座上的第一研磨套件，设置于第一研磨...
    2026-01-24
  • 一种砷化铟衬底表面宏观损伤和亚损伤精细调控的方法
    一种砷化铟衬底表面宏观损伤和亚损伤精细调控的方法_昆明物理研究所_202511051039.0
    本发明公开了一种砷化铟衬底表面宏观损伤和亚损伤精细调控的方法，包括：S1，用金刚石刀片减薄衬底；S2，用氧化铝等磨料对衬底进行机械研磨，去除减薄过程中产生的宏观表面缺陷和切割痕；S3，进行化学机械抛光，去除机械研磨过程中产生的划痕等宏观损伤...
    2026-01-24
  • 一种阀芯密封研磨装置及方法
    一种阀芯密封研磨装置及方法_新乡航空工业(集团)有限公司_202511518402.5
    本发明涉及智能制造技术领域；尤其涉及一种阀芯密封研磨装置及方法；包括研磨机构组件、触摸屏组件、夹具组件、工作台组件；研磨机构组件与触摸屏组件分别设置在工作台组件上，夹具组件放置在工作台组件上，夹具组件用于夹持固定待研磨产品，触摸屏组件集成控...
    2026-01-24
  • 一种主从分区协同加压的抛光头及其在晶圆抛光中的应用
    一种主从分区协同加压的抛光头及其在晶圆抛光中的应用_扬华智造(四川)创新科技有限公司_202511419227.4
    本发明公开了一种主从分区协同加压的抛光头及其在晶圆抛光中的应用，该抛光头包括连接模块、保持环柔性加压模块、主从分区协同加压模块，连接模块与主机主轴相连，其内部设有多路气道，可实现多路气体的稳定传输，保持环柔性加压模块通过气体驱动环形气囊形变...
    2026-01-24
  • 一种半导体磨片设备及其方法
    一种半导体磨片设备及其方法_苏州中瑞宏芯半导体有限公司_202511527102.3
    本发明公开了一种半导体磨片设备，包括外壳体，和设置于外壳体内的一组第一竖板和一组第二竖板，以及位于两个第二竖板之间的研磨机构，所述研磨机构包括第一研磨盘和第二研磨盘，所述第一研磨盘和第二研磨盘相对的一面设置有用于研磨晶圆的研磨垫，所述第一研...
    2026-01-24
  • 一种高可靠性的LDI光纤束研磨工艺及装置
    一种高可靠性的LDI光纤束研磨工艺及装置_南京开拓光电科技有限公司_202511323297.X
    本发明公开了一种高可靠性的LDI光纤束研磨工艺及装置，涉及光纤束加工技术领域，工艺内容如下，S1，输送研磨液；S2，驱动输送的研磨液喷出，形成承载液膜；S3，磨盘产生涡流生成剪切力，研磨光纤束表面；S4，调节磨头高度，改变磨头与磨盘的间隙，...
    2026-01-24
  • 一种硬化内花键振动研磨用内涨紧研磨棒及其使用方法
    一种硬化内花键振动研磨用内涨紧研磨棒及其使用方法_中国航发哈尔滨东安发动机有限公司_202510921899.9
    本发明属于研磨技术领域，公开了一种硬化内花键振动研磨用内涨紧研磨棒及其使用方法，其包括：底盖；顶盖；楔形内花键齿槽柱，其设计为套筒状，且一端粗一端细，在其圆周面上均匀分布有若干卡槽；楔形内花键齿，其一端厚一端薄，在其下表面设有两个相对的与所...
    2026-01-24
  • 一种电化学机械抛光头、抛光装置和抛光方法
    一种电化学机械抛光头、抛光装置和抛光方法_华海清科股份有限公司_202511100160.8
    本发明公开了一种电化学机械抛光头、抛光装置和抛光方法，属于晶圆制造技术领域。该电化学机械抛光头包括：联轴盘，中心设置有定位孔；承载盘，匹配设置有轴部，所述轴部滑动连接于定位孔中，使得承载盘随联轴盘旋转和/或沿竖直方向移动；导电的弹性膜，设置...
    2026-01-24
  • 增强散热性能的多层结构CMP抛光垫及制备方法
    增强散热性能的多层结构CMP抛光垫及制备方法_安徽禾臣新材料有限公司_202511553208.0
    本发明公开了增强散热性能的多层结构CMP抛光垫及制备方法，属于抛光垫技术领域。增强散热性能的多层结构CMP抛光垫，包括自上而下依次连接的抛光层、导热过渡层和柔性支撑层，所述抛光层由包含有导热纳米磨料的聚氨酯材料制成，导热过渡层包括弹性聚合物...
    2026-01-24
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