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  • 本申请提供一种工艺腔室及半导体工艺设备,工艺腔室包括监测装置、控制装置、加热装置、进气装置以及主调整机构,监测装置用于确定晶圆径向上各位置的发射率;主调整机构包括温度场调整机构和/或气流场调整机构,温度场调整机构与加热装置相连,控制装置控制...
  • 本发明涉及多功能等离子加工装置及多功能等离子加工系统,包括外壳体,外壳体中设置有容纳腔;外壳体包括外壳主体、以及与外壳主体的底部可拆卸连接的负极底板,容纳腔中靠近负极底板的位置处设置有陶瓷绝缘件,陶瓷绝缘件的上侧设置有正极片,陶瓷绝缘件与负...
  • 本发明提出的一种具有原位电子束改性功能的电弧离子镀系统,包括:真空腔体、电弧离子源及脉冲电子束发射装置;真空腔体内部设置有工件支撑台;电弧离子源与脉冲电子束发射装置均集成安装于真空腔体内部,其中电弧离子源被配置为在工件表面沉积金属或合金镀层...
  • 本申请提供一种用于电子束蒸镀工艺的金属预融方法及装置。该用于电子束蒸镀工艺的金属预融方法在真空环境下,将电子枪发射的电子束对蒸发源中的待蒸镀金属材料进行预融,包括以下步骤:第一阶段,以第一预设功率使待蒸镀金属材料初步熔化,第一预设功率低于使...
  • 本发明公开了一种真空微蒸发镀覆装置,其包括:镀覆管和气动阀:镀覆管为一端有敞口的半封闭容器,镀覆管内设置有反应腔;气动阀包括调节盖、端盖和阀芯,调节盖和端盖连接,调节盖与端盖之间形成有容纳腔,容纳腔与外部环境相连通,阀芯设置在容纳腔中,端盖...
  • 本发明公开了一种KB/Mo22C/CNT薄膜的制备方法及在锂硫电池中间层的应用,属于锂硫电池技术领域。本发明通过将金属氧化钼靶材以纳米颗粒的形式镀在CNT基底上,然后再进行KB负载和PVP滴涂,最后再通过焦耳热将MoO33碳热还原为Mo22...
  • 本发明提供能够实现成膜精度的提高的成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法。成膜装置(10)具备:静电吸附单元(300),静电吸附基板(S);以及蒸发源(210),构成为能够相对于静电吸附单元(300)相对地移动,且经由相对于基板(S)被实施...
  • 公开了一种荫罩装置、设备、制造方法及AMOLED阵列。该荫罩装置包括:荫罩框;支撑件;挡板,包括多个挡板通孔;以及荫罩元件,设置在挡板的上方,其中,挡板通过支撑件能移动地被设置在荫罩框中,其中,支撑件能被设置在至少两个稳定状态,从而使得挡板...
  • 本发明属于铝带表面处理技术领域,具体涉及一种基于CVD的铝带表面强化工艺。本发明旨在解决现有的铝带表面强化方法难以提高铝带在高盐雾环境下耐久性的问题。本发明首先对铝带进行矫直活化处理,处理完成后,将铝带送入沉积室进行磁控溅射沉积,具体包括金...
  • 一种硒化锌3‑12μm增透膜系制备方法包括步骤:S0,将陪镀片和产品的表面进行清洁处理,其中,陪镀片和产品作为镜片且均为硒化锌基底;S1,镜片放入烤箱烘烤;S2,装入工装夹具,工装夹具挂入真空镀膜机腔体内;S3,真空镀膜机启动抽真空,霍尔离...
  • 本申请涉及微电子工艺技术领域。具体涉及一种介电薄膜的制造方法及介电薄膜、场效应晶体管。介电薄膜制造方法包括以下步骤:提供生长基底;干燥介电薄膜原材料粉末;介电薄膜原材料粉末为卤化铋粉末;将干燥后的介电薄膜粉末置于第一石英舟中,放入初始温度的...
  • 本发明公开了一种显著提升TiAlSiCrN涂层耐磨性的方法,包括如下步骤:S1、首先准备Ti靶和TiAlSiCr合金靶;S2、对基体样品进行预处理以去除基体样品表面的油污和灰尘,之后将清洗干净的基体样品安装在样品盘上;S3、启动磁控溅射镀膜...
  • 本发明涉及一种不锈钢表面高温制备碳化钛涂层的方法,包括以下步骤:S1、将不锈钢基体进行表面预处理,然后沉积金属钛层,得到镀钛工件;S2、将S1所得镀钛工件进行真空热处理,使得不锈钢基体中的碳原子向金属钛层中扩散并在界面处发生原位反应,形成冶...
  • 本发明提供一种层叠部件,具备:基材,其由包含金属的第一材料构成,且在表面以规定的间距形成有多个槽;以及保护膜,其层叠在所述基材上,且具有仿照所述基材表面的表面形状,所述保护膜由与所述第一材料的金属氧化膜不同且与所述第一材料的金属氮化膜也不同...
  • 一种掩膜结构及其形成方法,其中形成方法包括:在所述衬底上形成第一掩膜材料层,所述第一掩膜材料层的材料具有第一硬度;在所述第一掩膜材料层上形成第二掩膜材料层,所述第二掩膜材料层的材料具有第二硬度,所述第二硬度大于第一硬度;在所述第二掩膜材料层...
  • 本发明涉及一种掩膜结构及其制备方法和半导体设备。掩膜结构的制备方法包括;提供衬底;在第一等离子体氛围下,于衬底上形成具有第一硬度的第一掩膜材料层,第一等离子体氛围包括第一高频射频频率和第一低频射频频率;在第二等离子体氛围下,于第一掩膜材料层...
  • 本发明提供一种显著提高陶瓷涂层高温界面结合强度的方法,涉及陶瓷涂层的技术领域。所述显著提高陶瓷涂层高温界面结合强度的方法包含基体表面清洗、过渡层的磁控溅射制备、陶瓷涂层的磁控溅射制备。本发明通过在基片上先沉积Ti过渡层并增加Ti过渡层的厚度...
  • 本申请涉及一种多元素共渗改性热处理装置,涉及金属件加工领域中的热处理技术领域,其包括箱体,所述箱体的内部设置有混合腔和两个炉膛,所述箱体的上表面设置有多个渗剂供给组件,所述渗剂供给组件包括渗剂罐、流量泵、控制阀与输气管,所述渗剂罐的下端与流...
  • 本发明公开了一种用于台虎钳的表面渗氮强化处理设备及工艺,包括渗氮炉、工件支架、液压缸、炉盖、气罐和控制箱,所述渗氮炉由下到上分为多个区域,用于同时对不同的性能的工件分别进行渗氮强化处理;所述工件支架设置于渗氮炉内侧,所述工件支架将渗氮炉各个...
  • 本发明涉及工装夹具技术领域,尤其涉及一种对长内孔零件渗碳的防变形工装及方法。工装包括:支撑杆(2)、安装板(3)、限位工装(4),其中,安装板(3)的顶端均匀安装有多个支撑杆(2),限位工装(4)固定在支撑杆(2)上,所述限位工装(4)的内...
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