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最新专利技术
  • 信息处理装置、信息处理方法和程序
    信息处理装置、信息处理方法和程序_索尼集团公司_202480045694.2
    根据本技术的信息处理装置包括：UI处理单元，其执行用于执行将手指的类型与要执行的功能相关联的关联操作的用户界面处理；读取处理单元，其检测针对操作区域的关联操作，并且读取用于关联操作的手指的指纹；指定处理单元，其基于所读取的指纹和所登记的指纹...
    2026-02-07
  • 图像生成方法、装置、电子设备和可读存储介质
    图像生成方法、装置、电子设备和可读存储介质_北京字跳网络技术有限公司_202480004355.X
    本公开涉及图像生成方法、装置、电子设备和可读存储介质，涉及计算机技术领域。本公开的图像生成方法包括：显示提示信息输入界面；响应于获取第一提示信息，在提示信息输入界面显示第一提示信息，其中，第一提示信息包括目标图像的第一描述信息；显示基于第一...
    2026-02-07
  • 一种图像显示方法及电子设备
    一种图像显示方法及电子设备_荣耀终端股份有限公司_202480037543.2
    提供一种图像显示方法及电子设备，方法包括在电子设备处于第一设备状态的情况下，显示屏以第一刷新率显示图像，其中，电子设备处于第一设备状态包括：电子设备接收到目标交互事件，目标交互事件包括：点击事件和第一滑动事件，第一滑动事件为滑动速度大于第一...
    2026-02-07
  • 利用变量数据结构实现多状态设计元素的图形设计系统
    利用变量数据结构实现多状态设计元素的图形设计系统_飞格码股份有限公司_202480044710.6
    一种计算机系统能够操作以提供设计接口，以支持在生产环境中创建图形设计。该计算机系统实现了一种用于与图形设计一起使用的变量数据结构，其中该变量数据结构至少部分地由多个值和值类型定义。多状态设计元素与该变量数据结构相链接，使得多个状态中的每个状...
    2026-02-07
  • 用于通过动态用户界面控制IOT设备的方法和设备
    用于通过动态用户界面控制IOT设备的方法和设备_三星电子株式会社_202480045603.5
    本文中的实施例公开了利用AI模型动态地生成至少一个小组件/UI的方法，该AI模型用于基于语音或文本的用户输入来确定用户意图/上下文，并利用可以被提供给用户以与其交互的一个或多个相关联的设备的控制/能力来识别一个或多个相关联的设备。本文中的实...
    2026-02-07
  • 一种触控显示面板及显示装置
    一种触控显示面板及显示装置_京东方科技集团股份有限公司_202480001082.3
    本公开提供一种触控显示面板及显示装置，包括：显示面板，显示区包括多个子像素区以及将多个子像素区彼此间隔开的间隔区，非显示区包括位于显示区一侧的绑定区以及阻挡区，阻挡区包括至少一个挡墙；非显示区划分为包括绑定区的第一非显示区以及除第一非显示区...
    2026-02-07
  • 响应于触摸事件而修改传感器和显示特性
    响应于触摸事件而修改传感器和显示特性_高通股份有限公司_202380100321.6
    本公开提供了用于响应于触控笔或其他触摸输入而显示数字数据的方法、设备和系统。相关联过程可包括将触摸传感器的采样率同步至串行接口时钟。扩频操作可应用于该串行接口时钟的输出频率。其他相关联过程可包括在该触摸传感器处检测多个触摸事件，以及响应于检...
    2026-02-07
  • 用于沉浸式音频环境的音频处理
    用于沉浸式音频环境的音频处理_高通股份有限公司_202480044247.5
    一种设备包括被配置为存储与沉浸式音频环境相关联的数据的存储器和被配置为获得与沉浸式音频环境的一部分相关联的上下文移动估计数据的一个或多个处理器。处理器被配置为基于上下文移动估计数据来设定位姿更新参数。处理器被配置为基于位姿更新参数来获得位姿...
    2026-02-07
  • 一种设备控制方法及电子设备
    一种设备控制方法及电子设备_荣耀终端股份有限公司_202580003355.2
    本申请实施例提供了一种设备控制方法及电子设备，涉及终端技术领域。解决针对滑动操作进行CPU提频过程中性能和能耗的问题。具体方案为：显示第一界面；在检测到用户的第一横向滑动之后，控制中央处理器CPU在第一目标时长内提升工作频率；在检测到用户的...
    2026-02-07
  • 散热模组、电子设备及散热方法
    散热模组、电子设备及散热方法_荣耀终端股份有限公司_202480040692.4
    本申请公开一种散热模组、电子设备及散热方法，涉及电子设备技术领域，该电子设备能够兼顾轻薄化设计与散热性能。其中，散热模组包括导热板、均热件和第一流道，导热板用于与发热元件热传导连接。均热件位于导热板的远离发热元件的一侧，且与导热板热传导连接...
    2026-02-07
  • 用于检测数据流中的模式的系统和方法
    用于检测数据流中的模式的系统和方法_赛林斯实验室有限公司_202480038651.1
    提出了一种用于检测数据流中的模式的系统(200)。系统(200)包括适于将多个光输入向量与模式矩阵相乘的光学乘法电路(210)。光输入向量包括编码数据值的一组输入信号。模式矩阵包括要检测的模式的目标值。在将每个光输入向量与模式矩阵相乘时，光...
    2026-02-07
  • 用于诊断实验室系统内的多智能体路径寻找的方法和装置
    用于诊断实验室系统内的多智能体路径寻找的方法和装置_美国西门子医学诊断股份有限公司_202480043989.6
    在一些实施例中，一种用于诊断实验室系统中的样品容器的路径寻找的方法包括 : 在具有诊断实验室设备的诊断实验室系统中接收一批样品容器；获得对于诊断实验室系统的网格，该网格具有包括诊断实验室设备和连接诊断实验室设备的一个或多个轨道的单元；将智能...
    2026-02-07
  • 用于为容器搬运车辆确定无冲突路线的方法、系统和计算机程序产品
    用于为容器搬运车辆确定无冲突路线的方法、系统和计算机程序产品_自动存储科技股份有限公司_202480038415.X
    一种为容器搬运车辆(201、301、401)确定路线的方法，其中，该路线是网格化自动储存和取出系统(10)中的至少一个其它容器搬运车辆(201、301、401)的路线中的路线，该网格化自动储存和取出系统包括具有第一方向(X)和垂直于第一方向...
    2026-02-07
  • 用于确定旋转机器的运行状态的装置和方法
    用于确定旋转机器的运行状态的装置和方法_ABB瑞士股份有限公司_202380100272.6
    确定旋转机器的运行状态的装置和方法。该方法包括接收多个参数值，该多个参数值对应于由被放置在旋转机器附近的一个或多个传感器测量的多个参数。多个参数值属于由一个或多个传感器支持的一个或多个测量轴线。该方法还包括在多个参数值中选择具有由每个传感器...
    2026-02-07
  • 工艺数据的编辑方法、工艺的异常检测方法、工艺数据的编辑装置以及工艺的异常检测装置
    工艺数据的编辑方法、工艺的异常检测方法、工艺数据的编辑装置以及工艺的异常检测装置_杰富意钢铁株式会社_202480043953.8
    工艺数据的编辑方法在由多个设备构成的生产线中，该多个设备由对原料实施规定的处理的多个机器、以及连结多个机器并输送原料的输送装置构成，该方法包括：收集步骤，计算机所具备的收集单元收集表示多个设备的工作状态的工艺数据；以及编辑步骤，计算机所具备...
    2026-02-07
  • 用于从片材材料重复形成物体的系统
    用于从片材材料重复形成物体的系统_鲍勃斯脱梅克斯股份有限公司_202480043344.2
    一种用于从片材材料重复形成物体的系统，该系统包括：用于执行形成过程的转换机，所述物体至少部分地由片材材料形成，该转换机包括用于与片材材料接合的工具，以在形成过程期间至少部分地形成所述物体。电子存储器存储有数据库，数据库包括针对于多个之前执行...
    2026-02-07
  • 表壳和用于将表壳中间件连接到表壳表圈的方法
    表壳和用于将表壳中间件连接到表壳表圈的方法_LVMH瑞士制造业股份公司_202480044482.2
    本发明涉及一种表壳，该表壳包括：‑ 中间件，‑ 表圈，其布置成连接到中间件，‑ 环形轴向保持元件，其布置成将表圈保持在中间件上，中间件和表圈中的一者包括第一壳体，第一壳体用于在表圈未连接到中间件时接收环形轴向保持元件，表圈和/或中间件布置成...
    2026-02-07
  • MEMS反射镜阵列模块
    MEMS反射镜阵列模块_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202480045865.1
    本发明涉及一种在光刻的投射曝光设备(1)中使用的MEMS反射镜阵列模块(100)。根据本发明的MEMS反射镜阵列模块(100)包括位于重新布线基板(120)上的MEMS反射镜阵列结构(110)，以及用于将MEMS反射镜阵列模块(100)固定...
    2026-02-07
  • 静电夹具装置
    静电夹具装置_ASML荷兰有限公司_202480045304.1
    本公开涉及静电夹具装置，静电夹具装置包括：夹具构件，夹具构件包括至少一个电极和第一导电层；安装构件，安装构件包括第二导电层，夹具构件被安装在第二导电层上；以及介电层，介电层被夹在第一导电层与第二导电层之间。
    2026-02-07
  • 光刻设备、在所述光刻设备中使用的具有多个感测元件的均一性传感器、确定辐射束的性质的方法、以及确定用于光刻系统的光学元件的校准的方法
    光刻设备、在所述光刻设备中使用的具有多个感测元件的均一性传感器、确定辐射束的性质的方法、以及确定用于光刻系统的光学元件的校准的方法_ASML荷兰有限公司_202480045198.7
    本文中描述一种确定光刻系统内的辐射束的性质的方法。所述方法包括针对所述辐射束的在第一方向上具有不同位置的多个区段中的每个区段来测量多个强度。使用传感器的多个感测元件中的不同的一个感测元件来测量所述多个强度中的每个强度。所述多个强度中的每个强...
    2026-02-07
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