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显影盒
一种能够抑制第一方向上的尺寸的显影盒。该显影盒具备:能够收容色粉的壳体;能够绕沿第一方向延伸的显影轴线旋转的显影辊;位于所述壳体的所述第一方向上的一端部的齿轮;具有位于所述壳体的所述第一方向上的一端部的电接触面的存储器;以及保持所述电接触面...
发光装置、曝光装置及图像形成装置
本发明公开了一种发光装置、曝光装置及图像形成装置,所述发光装置具备:电阻值不同的多个电阻元件;阳极端子被施加基准电位、阴极端子共同连接于所述多个电阻元件各自的一端的多个发光元件;通过对所述多个发光元件依次输出点亮指示信号而将所述多个发光元件...
发光装置、曝光装置及图像形成装置
本发明公开了发光装置、曝光装置及图像形成装置,发光装置具备阳极端子被施加基准电位、阴极端子共同连接于限流电阻一端的多个发光元件;对多个发光元件依次输出点亮指示信号而将其依次点亮的点亮指示部;对限流电阻另一端施加点亮电位的点亮电位施加部;使在...
曝光装置及图像形成装置
本发明公开了一种曝光装置及图像形成装置,所述曝光装置具备:透镜组,所述透镜组沿旋转的像保持体的轴向延伸,具有供曝光所述像保持体的光透过的多个透镜;框体,所述框体安装有所述透镜组;基板,所述基板在所述透镜组间在所述像保持体的相反侧安装于所述框...
一种长寿命有机光导鼓芯
本发明公开了一种长寿命有机光导鼓芯,包括光导鼓以及安装在光导鼓两端的转动端头,所述转动端头的外壁套有大轴承,大轴承的外圈上固定有承载环,承载环的相对面嵌入式安装有小轴承,小轴承的内圈固定有T型台,两个T型台之间固定有一个防护罩;所述防护罩为...
筒状构件、电子照相用弹性辊、处理盒和电子照相设备
筒状构件、电子照相用弹性辊、处理盒和电子照相设备。在以面积矩心K为原点的XY坐标平面中,面积矩心D1至D9中的至少一者坐落于以面积矩心K为圆心的具有10μm半径的圆的外侧。在以面积矩心K为原点的XY坐标平面中,所有的面积矩心D1至D9都坐落...
图像形成装置
提供能够容易地进行色粉容器的闸门部件的开闭,并且容易地进行处理盒向主体壳体的装卸的图像形成装置。图像形成装置具备:具有开口部的主体壳体;具备鼓单元、显影单元及接收部的处理盒,该鼓单元具有感光鼓,该显影单元具有显影辊,该接收部能够与色粉容器所...
检查装置和图像形成系统
公开了检查装置和图像形成系统。检查装置获得通过读取形成有图像的片材而生成的检查图像,基于参考图像对检查图像进行检查,计算第一缩放因子,该第一缩放因子是在参考图像的整体被显示在显示设备的显示区域内的情况下参考图像的缩放因子,以及在第一缩放因子...
图像形成系统
本发明公开了一种图像形成系统,其具备:旋转的像保持体;曝光装置,所述曝光装置与所述像保持体相对配置,具有沿所述像保持体的轴向排列的多个透镜,对所述像保持体进行曝光;显影装置,所述显影装置将通过所述曝光装置形成于所述像保持体上的静电潜像显影为...
调色剂、调色剂组、图像转印片材、调色剂收纳单元
本发明涉及调色剂、调色剂组、图像转印片材、调色剂收纳单元、图像形成装置及图像形成方法。本发明提供对由布等具有可挠性的纤维构成的介质的定影性优异、且具有充分的可挠性的调色剂。本发明的调色剂的玻化温度(Tg1)小于0℃,在调色剂粒子的截面SEM...
一种光刻板、套刻误差测量方法及介质
本申请涉及芯片制造技术领域,尤其涉及一种光刻板、套刻误差测量方法及介质,用以提高套刻误差测量的准确性;光刻板包括第一光栅标记组和第二光栅标记组,其中第一光栅标记组用于套刻误差的测量,第二光栅标记组用于进行包括光刻板在内的套刻误差测量系统自身...
基片处理方法、基片处理装置、基片处理系统和程序产品
本发明提供一种有效地抑制通过光刻而形成的图案的偏差的基片处理方法、基片处理装置、基片处理系统和程序产品。基片处理方法包括:对基片的表面进行感光性覆膜的成膜处理的步骤;将成膜处理完毕的基片收纳于第一腔室,在第一腔室内对感光性覆膜进行曝光处理的...
一种边缘曝光装置及曝光方法
本发明公开了一种边缘曝光装置及曝光方法,属于边缘曝光技术领域,包括上料组件,所述上料组件的内侧设置有上料机构,所述上料组件的侧位设置有周转架,所述周转架顶部的两侧均连接有曝光架,两个曝光架之间连接有两个第一直线模组,两个第一直线模组的两个滑...
抑制掩模三维效应的光刻装置制备方法和光刻装置
本申请提供了一种抑制掩模三维效应的光刻装置制备方法,可以应用于集成电路制造和光刻技术领域。该抑制掩模三维效应的光刻装置制备方法包括:基于预设的构型参数,构建多个候选金属‑介质多层膜结构,不同的候选金属‑介质多层膜结构中金属层材料不同;获取多...
曝光灯组安放装置
本发明公开了曝光灯组安放装置,属于曝光设备领域。包括承载台和支撑组件,承载台包括连接板和分区架,连接板上贯穿设置有多个通孔,分区架固定于连接板的顶部,分区架的内腔形成若干容置区,支撑组件至少包括支脚和衔接件,支脚用于支撑承载台并使其悬浮于工...
通过曝光有源区监控掩模版工件台运动状态的方法
本申请提供一种通过曝光有源区监控掩模版工件台运动状态的方法,包括:步骤一,提供晶圆,对晶圆进行有源区曝光,针对该曝光的焦距能量矩阵测试的中心能量/焦距为相应工艺平台下对有源区不进行任何套准误差补偿的最佳能量/焦距;步骤二,根据焦距能量矩阵测...
光刻机的阶梯温度模糊控制方法及控制装置
本发明公开了光刻机的阶梯温度模糊控制方法及控制装置,涉及温度控制相关技术领域,方法包括:在光刻机的温度执行单元设置初始阶梯温度模糊控制策略并通过阶梯模糊控制器执行;实时采集干扰信号,提取干扰特征向量;检测当前执行阶梯温度模糊控制策略并对干扰...
一种金属掩膜版激光光绘机
本发明公开了一种金属掩膜版激光光绘机,属于光绘机技术领域,其特征在于:包括机架、激光发射机构、工件定位机构、上片机构和下片机构;所述工件定位机构包括第一真空吸附辊,第一真空吸附辊的两侧的辊轴分别与机架转动配合,真空吸附辊一侧的辊轴通过管道与...
一种高精度电路板线路曝光定位校准设备
本发明公开了一种高精度电路板线路曝光定位校准设备,涉及电路板线路曝光技术领域,包括架体和曝光模块,所述架体的顶部一侧设置有顶架,且顶架的内部安装有用于辅助光学校准的校准组件,所述校准组件包括滑座、伺服电机二、丝杆一、螺纹块、丝杆二和伺服电机...
监控结构、芯片、监控方法及光刻工艺控制系统
本发明提供一种监控结构、芯片、监控方法及光刻工艺控制系统,通过在芯片划片道设置多个监控垫,通过多个所述监控垫分别模拟用以形成所述目标器件的不同光刻工艺层的打开和关闭状态,从而模拟所述目标器件终端结构的台阶差;所述监控垫的开口尺寸与相应所述光...
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家居日用产品装置的制造及产品制作技术
休闲,运动,玩具,娱乐用品的装置及其制品制造技术
木材加工工具,设备的制造及其制品制作技术
纺织,织造,皮革制品制作工具,设备的制造及其制品技术处理方法
建筑材料工具的制造及其制品处理技术
家具;门窗制品及其配附件制造技术
水利;给水;排水工程装置的制造及其处理技术
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五金工具产品及配附件制造技术
安全;消防;救生装置及其产品制造技术
造纸;纤维素;纸品设备的制造及其加工制造技术
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