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最新专利技术
  • 光源组件及具有其的缺陷检测设备
    光源组件及具有其的缺陷检测设备_昆山倬跃蓝天电子科技有限公司_202610053177.0
    本申请公开了一种光源组件及具有其的缺陷检测设备，光源组件包括：第一承载架；第一光源模块，设于第一承载架上且位于相机的下方，第一光源模块至少包括第一光源；第二光源模块，设于第一承载架上且位于第一光源模块的下方，第二光源模块至少包括一个位于第一...
    2026-03-24
  • 一种用于矾花采集及识别的图像处理装置
    一种用于矾花采集及识别的图像处理装置_厦门浩森威视科技有限公司_202511492376.3
    本发明提供了一种用于矾花采集及识别的图像处理装置，属于沉淀池技术领域，它解决了LED灯多数无法进行独立角度调节，沉淀池水质常随进水负荷变化(如雨天浊度骤升)，固定角度的灯光在高浊度水中，光线散射范围固定，要么大面积昏暗，要么局部反光，无法根...
    2026-03-24
  • 一种低温红外相机双通道后光路光、机、热一体化结构
    一种低温红外相机双通道后光路光、机、热一体化结构_中国科学院上海技术物理研究所_202511689119.9
    本发明提供了一种低温红外相机双通道后光路光、机、热一体化结构，该低温红外相机双通道后光路光、机、热一体化结构包括共用透镜筒、分色镜筒、中波透镜筒和长波透镜筒，以分色镜筒为基准，共用透镜筒、中波透镜筒和长波透镜筒分别同分色镜筒耦合。本发明解决...
    2026-03-24
  • 检测设备相机的散热系统及其运行方法
    检测设备相机的散热系统及其运行方法_杭州中欣晶圆半导体股份有限公司_202511577875.2
    本发明涉及一种检测设备相机的散热系统及其运行方法，所属工业设备散热技术领域，包括工业相机，所述的工业相机后端设有若干铜柱，所述的铜柱与工业相机间设有导热层，所述的导热层为导热硅脂、导热硅胶片或相变材料。所述的铜柱上方设有进气管，所述的进气管...
    2026-03-24
  • 除散斑机构和投影设备
    除散斑机构和投影设备_歌尔微电子股份有限公司_202511890469.1
    本发明公开一种除散斑机构和投影设备，所述除散斑机构包括支架、镜片组件、第一压电陶瓷振动组件、第二压电陶瓷振动组件，所述支架形成有安装空间，所述镜片组件悬空于所述安装空间内部，所述第一压电陶瓷振动组件分别与所述支架和所述镜片组件连接，并驱动所...
    2026-03-24
  • 一种旋转式扩散装置及其光源和投影系统
    一种旋转式扩散装置及其光源和投影系统_扬州吉新光电有限公司_202512034996.9
    本发明揭示一种旋转式扩散装置，包括：固定驱动机构，所述固定驱动机构包括固定驱动部件本体以及固定驱动线圈，所述固定驱动部件本体中空的环状结构，所述固定驱动部件本体包括内壁以及外壁，所述固定驱动线圈固定设于所述固定驱动部件本体的内壁，其中，所述...
    2026-03-24
  • 一种高数值孔径照明光刻掩模及其制备方法、应用
    一种高数值孔径照明光刻掩模及其制备方法、应用_中国科学院光电技术研究所_202511867597.4
    本公开提供了一种高数值孔径照明光刻掩模及其制备方法、应用，该光刻掩模包括：掩模基底，包括相对设置的第一表面和第二表面；入光部，位于掩模基底的第一表面，入光部包括多个间隔排列的入光单元；其中，入光单元在垂直于第一表面的方向上具有锯齿结构，锯齿...
    2026-03-24
  • 基于分片密度配置误差反馈系数的光学邻近校正方法
    基于分片密度配置误差反馈系数的光学邻近校正方法_重庆芯联微电子有限公司_202511810537.9
    本发明提供基于分片密度配置误差反馈系数的光学邻近校正方法，包括以下步骤：S1.将待修正的芯片版图划分为多个独立的分片单元；S2.计算每个分片单元的图案密度，根据图案密度对分片单元进行分级，得到至少两个密度等级；S3.为不同密度等级的分片单元...
    2026-03-24
  • 降低掩模版热效应的掩模版及方法
    降低掩模版热效应的掩模版及方法_上海华力集成电路制造有限公司_202511432269.1
    本发明提供了一种降低掩模版热效应的掩模版及方法，应用于半导体技术领域。在本发明中，通过在掩模版上形成高发射率的辐射冷却层，根据辐射制冷技术原理，形成所述辐射冷却层之后能有效地将所述掩模版表面的热量辐射到环境中，减小所述掩模版的热膨胀和热应力...
    2026-03-24
  • 用于光罩量测的辅助定位框架结构及光罩量测系统
    用于光罩量测的辅助定位框架结构及光罩量测系统_合光光掩模科技(安徽)有限公司_202511943060.1
    本发明涉及一种用于光罩量测的辅助定位框架结构及光罩量测系统，结构包括：框架本体，呈矩形构造，且所述框架本体的外形尺寸与待量测光罩的轮廓尺寸相同；四个套合标记，分别设置在所述框架本体的四角并用于与所述待量测光罩的四角处的对准标记进行套合；以及...
    2026-03-24
  • 一种掩膜组、量测标记结构、形成方法及尺寸量测方法
    一种掩膜组、量测标记结构、形成方法及尺寸量测方法_粤芯半导体技术股份有限公司_202610103461.4
    本申请公开了一种掩膜组、量测标记结构、形成方法及尺寸量测方法，涉及光刻工艺技术领域。掩膜组包括第一掩膜和第二掩膜，第一掩膜和第二掩膜分别用于深沟槽刻蚀工艺和中沟槽刻蚀工艺，第一掩膜和第二掩膜均设置有量测标记组，第一掩膜和第二掩膜的量测标记组...
    2026-03-24
  • 一种光罩空白及其保护镀层
    一种光罩空白及其保护镀层_绍兴芯链半导体科技有限公司_202511986005.0
    本发明公开了一种光罩空白及其保护镀层，所述光罩空白包括：透明基板，设置于光罩空白最下方；遮光性膜，设置于所述透明基板上，包括：第一抗反射层，设置于所述透明基板上；遮光层，设置于所述第一抗反射层上；第二抗反射层，设置于所述遮光层上；保护膜，设...
    2026-03-24
  • 用于纳米压印制备二氧化钛超透镜的母板的制造方法、母板及制备二氧化钛超透镜的方法
    用于纳米压印制备二氧化钛超透镜的母板的制造方法、母板及制备二氧化钛超透镜的方法_武汉理工大学_202511741672.2
    本发明提供一种用于纳米压印制备二氧化钛超透镜的母板的制造方法、母板及制备二氧化钛超透镜的方法，属于微纳光学制造技术领域。本发明在超透镜基底的表面制备出二氧化钛层，再在二氧化钛层表面制备出增粘层，再刻蚀出用于规定N个周期性基元位置的N个周期性...
    2026-03-24
  • 一种半导体器件及制造方法
    一种半导体器件及制造方法_合肥晶合集成电路股份有限公司_202610092810.7
    本申请公开了一种半导体器件及其制造方法，属于半导体技术领域。为解决传统光刻工艺因完全依赖掩模版而存在的图案灵活性差、调整成本高的问题，通过在光刻胶后烘前，向需保留光刻胶的区域选择性地涂覆光酸猝灭剂，利用光酸猝灭剂对光酸的消除作用，致使该区域...
    2026-03-24
  • 一种半导体器件及制造方法
    一种半导体器件及制造方法_合肥晶合集成电路股份有限公司_202610092816.4
    本申请提供一种半导体器件及制造方法，涉及半导体技术领域。针对晶圆局部处理对掩模层的调整需求，本申请可以在光刻胶表面形成对应的表面碳层。基于表面碳层，在光刻胶的曝光工艺中，表面碳层阻挡曝光光束进入下方的光刻胶，以使光刻胶层中位于曝光范围内且未...
    2026-03-24
  • 一种KrF光刻胶组合物和光刻图案形成方法
    一种KrF光刻胶组合物和光刻图案形成方法_福建泓光半导体材料有限公司_202512041702.5
    本发明属于光刻技术领域，具体涉及一种KrF光刻胶组合物和光刻图案形成方法。所述KrF光刻胶组合物包括：含酸敏基团的聚对羟基苯乙烯类树脂、光致产酸剂、猝灭剂和有机溶剂；所述光致产酸剂在标准PEB条件下的酸扩散长度为20nm以内；所述猝灭剂为L...
    2026-03-24
  • 一种线路油墨的光敏组合物及其制备方法
    一种线路油墨的光敏组合物及其制备方法_广东炎墨方案科技股份有限公司_202610024622.0
    本发明提供了一种线路油墨的光敏组合物及其制备方法。本发明在采用小粒径填料以保障图像分辨率和图形侧边清晰度的基础上，引入了高玻璃化转变温度的碱溶性树脂：该类树脂因玻璃化转变温度较高，在预烘并恢复至室温后，膜面可形成稳定的玻璃态，既具备足够的机...
    2026-03-24
  • 一种半互穿网络结构紫外固化纳米压印光刻胶及其制备方法
    一种半互穿网络结构紫外固化纳米压印光刻胶及其制备方法_中国科学技术大学_202610083433.0
    本发明公开了一种半互穿网络结构紫外固化纳米压印光刻胶及其制备方法，属于紫外纳米压印光刻胶领域。本发明通过向纳米压印光刻胶组分间引入氢键相互作用，得到了在纳米级别无相分离的半互穿网络结构，成功的将半互穿网络结构应用于纳米压印光刻胶领域。本发明...
    2026-03-24
  • 一种套刻标记定位方法及套刻测量设备
    一种套刻标记定位方法及套刻测量设备_深圳中科飞测科技股份有限公司_202511591802.9
    本申请公开了一种套刻标记定位方法及套刻测量设备，通过第二定位算法，根据套刻标记的初步中心位置，从检测图像中套刻标记对应的图像区域中获取一对或多对目标子区域。根据每对目标子区域的图像特征进行相关性的计算得到相关性的结果，根据所述相关性的结果计...
    2026-03-24
  • 用于转换量测数据的方法
    用于转换量测数据的方法_ASML荷兰有限公司_202511991111.8
    本文描述了一种量测系统和用于经由经训练的机器学习(ML)模型转换量测数据的方法。所述方法包括：访问由第一扫描电子量测(SEM)系统获取的第一SEM数据集(例如图像、轮廓灯)和由第二SEM系统获取的第二SEM数据集，其中所述第一SEM数据集和...
    2026-03-24
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