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  • 本申请公开了一种电子设备及控制方法,属于电子产品技术领域。电子设备包括:壳体、透镜组件和设置于壳体内的发光元件;壳体上开设有第一通孔,发光元件的出光光束通过透镜组件和第一通孔射出至壳体之外;透镜组件包括:光束调节元件和驱动模块;光束调节元件...
  • 本发明涉及摄影支撑技术领域,公开了一种调节式摄影支撑装置,包括支架,支架的上端面固定安装有固定底板,固定底板的上端面转动安装有第一圆轴,第一圆轴内转动安装有两端伸出第一圆轴外的第二圆轴,第二圆轴的上端固定安装有承载板,第一圆轴的上端固定套设...
  • 本申请提供了一种支架、玻璃组件以及车辆。支架包括支架板、热吸收板和加热件,支架板包括相对的第一面和第二面,支架板设有透光区,热吸收板安装于支架板的第二面所在的一侧,并相对于第二面倾斜设置,热吸收板的部分周侧对应连接透光区的周侧,热吸收板的厚...
  • 本发明提供了一种分屏投影系统。分屏投影系统包括:投影镜头模组;分光结构,分光结构设置在投影镜头模组中,分光结构包括多个反射面,投影镜头模组至少包括第一镜头模组、第二镜头模组、第三镜头模组和显像光阀,第一镜头模组位于显像光阀的出光侧,分光结构...
  • 本发明提供了一种智能三脚架警示灯的警示方法及系统,涉及智能车载技术技术领域。本发明在当车辆发生危险时,采集车辆状态信息自动生成警示触发指令,并基于道路类型与车辆位置确定后方目标投射点;结合车辆姿态计算投射参数,驱动车载投射光源在目标距离处地...
  • 本发明涉及光学成像技术领域,公开了一种AR光学投影光机及光学显示系统,投影光机包括投影镜头组、合色棱镜组件及三色显示阵列;投影镜头组包括光阑STO,以及第一至第四透镜;合色棱镜组件包括多个相互胶合的棱镜,其上设有用于分别对红、蓝光进行反射以...
  • 本发明揭示了一种投影模组及其制作方法,投影模组沿光轴方向依次包括:光源模块,用于发射光束;超透镜阵列,用于将来自所述光源模块的发射光束转化为平行光束,所述超透镜阵列包括第一基板和多个纳米结构,所述纳米结构至少设置于所述第一基板的一侧;微透镜...
  • 本发明属于投影光学系统技术领域,公开了一种光源系统,基于同一个分光器件,可分别形成入射光路、转换光路、激发光路和合光光路,这样既能够大大缩小光路的体积,也能够使得第一光源产生的第一光能够通过分光而分为两部分,一部分用于荧光的激发,另一部分也...
  • 本申请的实施例公开了一种光源装置和投影设备,光源装置通过第一分光元件和第二分光元件的精妙布局,该光源装置能够有效分离并再循环利用不同偏振态的荧光,尤其是第二偏振态的荧光被多次循环反射回波长转换组件再次激发,提高了光能的利用率,增强了第一偏振...
  • 本发明公开了一种基于DLP投影技术的数字投影光学系统,按光线从光源到投影屏的传输方向,依次包括光源、准直系统、合光系统、匀光系统、中继系统、折光系统、投影显示芯片及投影镜头,其中光源采用红、绿、蓝三色LED光源,呈“品”字形布置,绿色光源置...
  • 本发明公开了一种焦面拼接结构,涉及空间光学载荷技术领域,包括焦面框架,焦面框架设置为空心且单向开口的形状,焦面框架的外壁两侧分别对称通过螺栓固定连接有左侧焦面组与右侧焦面组,焦面框架的内腔壁上分别对称通过螺栓固定连接有左侧拼接镜与右侧拼接镜...
  • 本发明公开了一种非线性±1级衍射效率与周期分布的相位掩模板制备方法。对于包层模耦合与法布里‑珀罗效应双重作用导致的色散光纤光栅反射谱平坦度劣化,进行栅区折射率调制深度分布曲线优化,得到相位掩模板非线性±1级衍射效率与槽深分布的设计参数;对于...
  • 本发明公开了一种用于负载效应补偿的版图生成方法及相关装置,应用于光刻技术领域,包括:获取光掩模版数据;根据光掩模版数据对掩模版图进行网格划分,并确定每一网格中的版图密度;将各个网格的版图密度与目标密度进行比对,确定各个网格对应的密度差值;根...
  • 本申请提供了一种全自动气压式纳米压印设备自动脱模装置及脱模方法,包括晶圆装载装置、四轴机器人、寻边器、压印装置、脱模装置和移动传递装置;压印装置包括压印上腔和压印下腔,压印上腔设有紫外灯和上腔真空区域,压印下腔设有压印真空吸盘和压印顶升机构...
  • 本发明属于纳米压印技术领域,具体公开一种基于钛酸锶模具的金属玻璃原子级台阶制备方法,包括以下步骤:对单晶钛酸锶的压印面依次经精磨、退火、蚀刻、端封等处理,制备台阶模具;再制备Pt基块体金属玻璃样品,对样品进行热力学表征,确定热塑成型的“温度...
  • 本发明公开了半导体结构的制作方法,包括提供计算系统;输入在垂直方向上的两相对侧分别具有第一阶梯状表面和第二阶梯状表面的光掩模图案;对光掩模图案执行分解步骤,将光掩模图案分解成相互交替排列的多个第一条状图案和多个第二条状图案;对各第一条状图案...
  • 本发明提供正型感光性树脂组合物、抗蚀剂膜、抗蚀剂下层膜和抗蚀剂永久膜。本发明提供一种正型感光性树脂组合物,其可得到显影性、耐化学性和耐热性优异的抗蚀剂膜,并且保存稳定性和厚膜制膜性良好。一种正型感光性树脂组合物,其含有下述成分(A)~(D)...
  • 本发明公开了一种用于半导体的耐高温变形纳米压印胶组合物,属于半导体制造用压印胶材料技术领域,以质量份数计,包括:树脂基体:40‑60份;功能单体:10‑30份;交联固化剂:5‑15份;含硅功能添加剂:1‑8份;光引发剂:2‑6份;活性稀释剂...
  • 本发明涉及光致抗蚀剂材料技术领域,具体涉及一种用于铜柱电镀的超厚干膜光刻胶及其制备方法。该超厚干膜光刻胶包括:改性聚氨酯丙烯酸酯38‑48份,第一活性稀释剂12‑18份,第二活性稀释剂5‑10份,增塑剂5‑10份,光引发剂3‑8份,流平剂0...
  • 本发明属于光刻胶技术领域,具体涉及一种用于有机绝缘膜的三嗪基负性光刻胶组合物,以质量份计,包括以下组分:含三嗪结构的聚合物30~100份;含烯键的不饱和化合物5~65份;表面活性剂0.005~10份;助粘剂0.005~10份;自由基聚合引发...
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