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最新专利技术
  • 一种异质晶圆的键合方法及装置
    一种异质晶圆的键合方法及装置_中国科学院微电子研究所_202511164425.0
    本发明公开一种异质晶圆的键合方法及装置，涉及半导体技术领域，以解决现有技术中的键合工艺导致键合界面热导率低的问题。方法包括：提供第一晶圆和第二晶圆；第一晶圆和第二晶圆具有不同的热导率；采用预设的掺杂工艺，在第一晶圆和/或第二晶圆上形成晶圆掺...
    2026-02-08
  • 一种基于掺杂与非晶过渡层的异质晶圆键合方法及装置
    一种基于掺杂与非晶过渡层的异质晶圆键合方法及装置_中国科学院微电子研究所_202511164686.2
    本发明公开一种基于掺杂与非晶过渡层的异质晶圆键合方法及装置，涉及半导体制造技术领域，以解决现有技术中的键合工艺导致异质晶圆界面热导率低及漏电的问题。方法包括：提供具有不同热导率的第一晶圆和第二晶圆，首先对第一晶圆和第二晶圆进行表面清洗；然后...
    2026-02-08
  • 带芯片基板的制造方法
    带芯片基板的制造方法_东京毅力科创株式会社_202511278398.X
    一种带芯片基板的制造方法，包括：将多个芯片与第一基板的一面通过分子间力进行接合；将与所述第一基板接合后的多个所述芯片同第二基板的与所述第一基板相向的面接合；以及在进行多个所述芯片与所述第一基板的接合之后且多个所述芯片与所述第二基板的接合之前...
    2026-02-08
  • 一种元件内嵌式组装的混合集成方法及其结构
    一种元件内嵌式组装的混合集成方法及其结构_华东光电集成器件研究所_202511312176.5
    本发明提供一种元件内嵌式组装的混合集成方法及其结构，它包括第一陶瓷基板(1)和第二陶瓷基板(2)的制备，在第一陶瓷基板(1)上制备导带膜层(1b)和电阻膜层(1c)，将第一陶瓷基板(1)和第二陶瓷基板(2)组合成基板，在基板上安装电容(3)...
    2026-02-08
  • 返修装置和返修方法
    返修装置和返修方法_度亘核芯光电技术(苏州)股份有限公司_202511679318.1
    本发明提供了一种返修装置和返修方法，涉及芯片返修技术领域，该返修装置包括固定机构、加热机构、烧结贴片机构和冷却机构，固定机构具有进气口和出气口；加热机构设置在固定机构上，并位于容纳腔室内；烧结贴片机构通过出气口伸入容纳腔室，并与出气口的边沿...
    2026-02-08
  • 一种用于电源管理的叠层芯片的封装方法
    一种用于电源管理的叠层芯片的封装方法_湖南越摩先进半导体有限公司_202511252644.4
    本发明公开了一种用于电源管理的叠层芯片的封装方法，所述叠层芯片包括基板、设置在基板上表面的芯片、多个导电连接件和其他元器件，所述芯片和其他元器件均与基板电连接，在所述芯片的上方位置还设置有上层器件，所述上层器件通过多个导电连接件与基板电连接...
    2026-02-08
  • 一种IGBT模块多层固化冷却防氧化氮气保护工艺方法
    一种IGBT模块多层固化冷却防氧化氮气保护工艺方法_西安龙昱半导体有限公司_202511330506.3
    本发明公开了一种IGBT模块多层固化冷却防氧化氮气保护工艺方法，通过构建高效的氮气保护系统，确保模块在转移和冷却过程中最大限度地减少与氧气的接触，有效防止氧化现象的发生；运用热应力仿真技术对冷却速率进行动态控制，避免因温度变化过快导致模块内...
    2026-02-08
  • 一种具有选择性覆铜与芯片集成单元的封装结构及其制备方法
    一种具有选择性覆铜与芯片集成单元的封装结构及其制备方法_广州先艺电子科技有限公司_202511671076.1
    一种具有选择性覆铜与芯片集成单元的封装结构及其制备方法，涉及电子封装技术领域。其制备方法包括以下步骤：图案化陶瓷基板制备，在所述图案化陶瓷基板的第一金属化层表面和散热板表面分别贴装第一生坯层和第二生坯层；所述第一生坯层和第二生坯层为可固态扩...
    2026-02-08
  • 使用微波焊接的半导体器件及制作方法
    使用微波焊接的半导体器件及制作方法_JCET星科金朋韩国有限公司_202510529526.7
    本发明涉及使用微波焊接的半导体器件及制作方法。半导体器件具有半导体封装和被部署在半导体封装上的焊剂。焊球被部署在焊剂上。使用微波能量回流焊球。施加微波能量，直到焊剂的温度达到200至220℃之间。焊剂和焊球这两者都包括极化分子。衬底上没有极...
    2026-02-08
  • 一种降低键合界面气泡或水泡的方法及产品
    一种降低键合界面气泡或水泡的方法及产品_河南省科学院物理研究所_202511044167.2
    本发明提出了一种降低键合界面气泡或水泡的方法及产品。所述方法包含以下步骤：步骤S1：提供半导体材料供体片和支撑片。所述支撑片包含第一介质层，在所述半导体材料供体片待键合至支撑片的一侧设置第二介质层。步骤S2：对所述第一介质层的表面进行研磨处...
    2026-02-08
  • 一种晶圆键合的方法及产品
    一种晶圆键合的方法及产品_河南省科学院物理研究所_202511044168.7
    本发明提出了一种晶圆键合的方法及产品。所述方法包含以下步骤：步骤S1：提供半导体材料供体片和支撑片，所述支撑片包含第一介质层，在所述半导体材料供体片上设置第二介质层；步骤S2：使用离子注入工艺在所述第一介质层表面之下注入轻质离子；然后在热退...
    2026-02-08
  • 一种半导体芯片的封装方法
    一种半导体芯片的封装方法_弘润半导体(苏州)有限公司_202511254942.7
    本发明公开了一种半导体芯片的封装方法，涉及半导体封装技术领域，包括，对半导体芯片进行凸点制备后进行数据采集，得到凸点形貌数据集，完成基板的制备后进行清洗，得到基板表面数据，并与凸点形貌数据集融合，生成形貌质量数据集，建立芯片预测模型，输出焊...
    2026-02-08
  • 功率模块元器件封装回流工艺
    功率模块元器件封装回流工艺_无锡利普思半导体有限公司_202511318117.9
    本发明涉及一种功率模块元器件封装回流工艺，包括以下步骤：根据芯片布局及尺寸，设计印刷网版；通过设计好的印刷网版将甲酸锡膏印刷至陶瓷覆铜板上表面，得到印刷好的产品；将芯片贴装至甲酸锡膏上表面，得到贴装好的产品；将组装限位治具安装在铜底板上；将...
    2026-02-08
  • 高压器件衬底针尖状缺陷判断方法
    高压器件衬底针尖状缺陷判断方法_上海华虹宏力半导体制造有限公司_202511141537.4
    本发明公开了一种高压器件衬底针尖状缺陷判断方法，包括以下步骤：S1，通过缺陷扫描确认存在衬底针尖状缺陷；S2，旋涂对工艺无影响具有流动性的材料形成测量层，测量层厚度为当前高压器件所能容忍衬底针尖状缺陷的最大高度；S3，根据衬底针尖状缺陷顶部...
    2026-02-08
  • 集成电路出货自动判定管理方法、系统、设备及介质
    集成电路出货自动判定管理方法、系统、设备及介质_无锡通芝微电子有限公司_202511179224.8
    本发明关于一种集成电路出货自动判定管理方法、系统、设备及介质，涉及集成电路领域。本技术方案通过先行预约自动锁定、特定项目单独判定及分支流程自动化处理，无需人工介入，判定锁定与反溯同步完成，反溯时间从人工判断的4小时缩短至1小时内，大幅提升效...
    2026-02-08
  • 一种晶圆内部缺陷检测方法
    一种晶圆内部缺陷检测方法_嘉兴九纵智能科技有限公司_202511182099.6
    本发明涉及芯片缺陷检测领域，公开了一种晶圆内部缺陷检测方法，所述检测方法包括：正面检测，基于晶圆正面切割道路径对晶圆正面内部检测；背面检测，在晶圆背面的不透明支撑膜表面加入介质层，基于介质层平衡不透明支撑膜表面以使晶圆背面穿透不透明支撑膜而...
    2026-02-08
  • 一种硅片制程部署方法及装置
    一种硅片制程部署方法及装置_西安奕斯伟材料科技股份有限公司_202511271660.8
    本发明提供了一种硅片制程部署方法及装置，涉及半导体加工技术领域，该方法包括：在以预设加工流程对目标硅片进行加工过程中，对目标硅片经过第一制程后得到的第一硅片进行污染量测试，得到第一硅片的污染量；对第一硅片经过第二制程后得到的第二硅片进行污染...
    2026-02-08
  • 半导体制造设备和基座温场校正方法
    半导体制造设备和基座温场校正方法_楚赟精工科技(上海)有限公司_202511282126.7
    本发明提供一种半导体制造设备和基座温场校正方法，通过增设加热升降装置，在执行生长工艺的过程中同步获取并根据各所述基片的当前表面温度和目标设定温度得到各所述基片的当前温差，根据各所述当前温差和所述第一标定关系确定温度异常的目标基片、所述目标基...
    2026-02-08
  • 一种晶圆检测方法及装置
    一种晶圆检测方法及装置_西安奕斯伟材料科技股份有限公司_202511296601.6
    本发明提供了一种晶圆检测方法及装置，属于半导体制造技术领域。该方法包括：基于待测晶圆集中各待测晶圆对应的纳米表面形貌图，确定第一批次晶圆和第二批次晶圆，第一批次晶圆和第二批次晶圆为不同批次加工后得到的晶圆；利用第一自动缺陷分类模型对目标晶圆...
    2026-02-08
  • 一种测量样件孔洞的方法
    一种测量样件孔洞的方法_上海季丰技术有限公司_202511621802.9
    本申请提供一种测量样件孔洞的方法，涉及半导体技术领域，包括标记待测样品的第一目标面，通过第一目标面确定待测样品的目标孔洞位于待测样品的区域范围；在待测样品的第一目标面涂覆，以形成胶类保护层；在胶类保护层上沉积金属，形成金属保护层；胶类保护层...
    2026-02-08
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