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纺织,织造,皮革制品制作工具,设备的制造及其制品技术处理方法
  • 振子和振荡器
    振子和振荡器_精工爱普生株式会社_202210238573.2
    振子和振荡器。能够进行高精度的温度补偿。振子具有振动元件和收纳振动元件的封装，振动元件具有：石英基板，具有第1振动部、第2振动部和第3振动部；一对第1激励电极，形成于第1振动部；一对第2激励电极，形成于第2振动部；和一对第3激励电极，形成于...
    2026-01-16
  • 风机叶片破碎料水选机
    风机叶片破碎料水选机_华能呼和浩特风力发电有限公司_202511338318.5
    本发明提出一种风机叶片破碎料水选机，包括：水选池、螺旋输送机、轻料输送装置与拨料辊，水选池的出料端具有重料出口与轻料出口，螺旋输送机设于水选池内的底部，轻料输送装置设于水选池的出料端的上方，以将漂浮在水面上的轻料输送至水选池之外。拨料辊包括...
    2026-01-16
  • 风力发电机组叶片的覆冰检测方法及系统
    风力发电机组叶片的覆冰检测方法及系统_国家电投集团湖北电力有限公司_202511390753.2
    本发明涉及风力发电机组叶片的覆冰检测方法及系统，获取声纹信号、红外热成像信号及环境参数并预处理，根据环境参数确定环境干扰补偿因子，并对声纹信号和红外热成像信号进行自适应加权融合处理，得到融合后的多模态特征向量；利用变分模态分解算法处理多模态...
    2026-01-16
  • 化学增幅型正型感光性树脂组成物、保护膜及组件
    化学增幅型正型感光性树脂组成物、保护膜及组件_奇美实业股份有限公司_202010424310.1
    本发明提供一种化学增幅型正型感光性树脂组成物、保护膜及组件。所述化学增幅型正型感光性树脂组成物，其包括树脂(A)、光酸产生剂(B)、溶剂(C)以及环氧化合物(D)。本发明更包括应用此化学增幅型正型感光性树脂组成物所制得的保护膜，及包括此保护...
    2026-01-16
  • 一种内存条的纠错编码方法及装置、电子设备及存储介质
    一种内存条的纠错编码方法及装置、电子设备及存储介质_安徽科技学院_202511484160.2
    本申请公开了一种内存条的纠错编码方法及装置、电子设备及存储介质，涉及存储器数据读取及传输过程的纠错编码技术领域。该方法基于12位的第一数据位和重构奇偶校验矩阵生成12位的第一校验位，重构奇偶校验矩阵将第一数据位的数据列权重统一为6，校验列权...
    2026-01-16
  • 一种测试台延迟电路、变频板及测试装置
    一种测试台延迟电路、变频板及测试装置_黄石东贝压缩机有限公司_202423069942.3
    本实用新型公开一种测试台延迟电路、变频板及测试装置，所述延迟电路的输入端与变频板上的测试端子连接，输出端与测试台连接；所述延迟电路包括预先烧录有延迟触发逻辑的微控制器，用于在测试端子连通时，延迟设定时间后触发输出端口的MOS管导通，使测试端...
    2026-01-16
  • 提高分离效率的风机叶片破碎料水选机
    提高分离效率的风机叶片破碎料水选机_华能呼和浩特风力发电有限公司_202511338560.2
    本发明提出一种提高分离效率的风机叶片破碎料水选机，包括水选池、第一螺旋输送机、第二螺旋输送机、轻料输送装置与拨料辊，水选池的进料端的端面为倾斜面，水选池的出料端具有重料出口与轻料出口，第一螺旋输送机沿倾斜面布置，第一螺旋输送机的靠中部位置连...
    2026-01-16
  • 磁感应轴结构及键盘
    磁感应轴结构及键盘_深圳市利新联电子有限公司_202520137711.7
    本实用新型公开一种磁感应轴结构及键盘。磁感应轴结构包括：PCB板，PCB板上设有霍尔开关感应器；键轴，连接于PCB板，包括座体、轴芯、弹性件以及磁性件，其中：座体设有相互连通的滑动腔、开口以及穿设口；轴芯可滑动的安装于滑动腔，并穿设于开口，...
    2026-01-16
  • 一种沐浴踏板用排水地漏
    一种沐浴踏板用排水地漏_佛山市三维鱼建材有限公司_202423311120.1
    一种沐浴踏板用排水地漏，其包括底座，底座的上端面为后高前低的斜面状，底座的顶部向下内凹设置有容置腔，容置腔的底部贯穿其本体开设有排水口，所述的容置腔内安装有面板。本实用新型通过在地漏的设计中将其上端面设置为根据排水面调整的倾斜面结构，使地漏...
    2026-01-16
  • 一种阵列相机的防护装置
    一种阵列相机的防护装置_伊春鹿鸣矿业有限公司_202520144203.1
    本实用新型公开了一种阵列相机的防护装置，包括安装壳和若干相机，相机沿安装壳的外周均匀设置，安装壳由两个外壳拼接固定形成，外壳为圆环形结构，外壳的外周上设置有第一L型折边，外壳的内周上设置有第二L型折边，第一L型折边与第二L型折边的朝向相同，...
    2026-01-16
  • 一种物光束成像系统及其制备方法
    一种物光束成像系统及其制备方法_北京康特曼电子系统有限责任公司_202311069190.8
    本发明公开了一种物光束成像系统及其制备方法，物光束成像系统包括图像源、光路调制装置和全息干板，设置光路调制装置包括依次位于图像源出射的物光束传播路径上的第一透镜组、第二透镜组和全息光学元件；通过设置第一透镜组和第二透镜组共用焦平面以及设置第...
    2026-01-16
  • 一种地表环境微塑料同步收集分离一体化设备及同步收集分离方法
    一种地表环境微塑料同步收集分离一体化设备及同步收集分离方法_北京市生态环境保护科学研究院_202511531962.4
    本发明涉及微塑料收集技术领域，具体涉及一种地表环境微塑料同步收集分离一体化设备及同步收集分离方法。该设备包括集气收集装置、循环气泵、循环水泵、冷却环和浮选塔；浮选塔的上部设置有冷却环，底部设置有刚玉曝气装置，循环气泵的一端通过管路和集气收集...
    2026-01-16
  • 一种可动态配置的RPC编码电路及编码方法
    一种可动态配置的RPC编码电路及编码方法_华中科技大学_202410935592.X
    本发明属于无线通信中的传输速率自适应编码技术领域，公开了一种可动态配置的RPC编码电路及编码方法，包括：矩阵参数配置模块、可配置的第一级查找表、多个模加计算器、信息比特选择和地址拼接模块及第二级查找表；本发明通过对多个稀疏映射矩阵设计可配置...
    2026-01-16
  • 清洗装置、清洗水槽及食材清洗方法
    清洗装置、清洗水槽及食材清洗方法_杭州老板电器股份有限公司_202511780091.X
    本发明公开了清洗装置、清洗水槽及食材清洗方法，属于厨电技术领域，为解决现有清洗装置的叶片长度固定等问题而设计。本发明公开的清洗装置包括：基座；以及叶片组件，包括叶片，叶片至少部分地穿设在基座中，当待清洗食材的硬度大于等于设定值时，叶片相对于...
    2026-01-16
  • 电路装置和振荡器
    电路装置和振荡器_精工爱普生株式会社_202111122274.4
    电路装置和振荡器。能够抑制温度传感器电路成为噪声源而使振荡电路的振荡信号的信号特性劣化。电路装置包含：振荡电路，其使振子振荡而生成振荡信号；温度传感器电路，其进行间歇工作；逻辑电路，其根据温度传感器电路的输出进行温度补偿处理；以及电源电路，...
    2026-01-16
  • 一种具有防堵功能的建筑工程排水装置
    一种具有防堵功能的建筑工程排水装置_湖北山水凌云建设工程有限公司_202422751052.4
    本实用新型涉及建筑排水技术领域，具体涉及一种具有防堵功能的建筑工程排水装置，包括排泄水管，排泄水管的顶端安装有上安装座，上安装座与下安装座的内侧壁均设置有空心环，空心环的内部滑动连接有滑动杆且滑动杆分别与上安装座与下安装座的顶壁与底壁固定连...
    2026-01-16
  • 一种耐腐蚀的陶瓷容器内衬釉料及其制备方法
    一种耐腐蚀的陶瓷容器内衬釉料及其制备方法_江苏宜翔陶瓷科技有限公司_202511471071.4
    本发明公开有一种耐腐蚀的陶瓷容器内衬釉料及其制备方法，属于陶瓷釉料技术领域，用于解决在现有技术中陶瓷釉料的强度、抗氧化性、抗菌性、耐腐蚀性有待进一步提高的技术问题，具体包括按重量份计的以下组成：20‑30份钾长石、15‑25份高磷土、10‑...
    2026-01-16
  • 一种哑光耐磨釉、哑光耐磨陶瓷砖及制备方法
    一种哑光耐磨釉、哑光耐磨陶瓷砖及制备方法_新明珠集团股份有限公司_202511903639.5
    本发明属于建筑陶瓷领域，公开了一种哑光耐磨釉、哑光耐磨陶瓷砖及制备方法，该哑光耐磨釉的固体组分按重量份数计包括：熔融石英粉47~53份、熔块粉11~14份、低温釉35~40份；哑光耐磨釉的化学组分包括摩尔比为(17.4~22.0) : 1的...
    2026-01-16
  • 一种幅相分组调制和数据驱动结合的功率放大器非线性补偿方法及装置
    一种幅相分组调制和数据驱动结合的功率放大器非线性补偿方法及装置_东南大学_202511487012.6
    本发明公开了一种幅相分组调制和数据驱动结合的功率放大器非线性补偿方法及装置。在发射机侧，采用具有幅相约束的分组调制技术对比特信息承载，使用非线性补偿导频符号和数据符号构建帧结构序列。在接收机侧，通过幅相约束对失真的数据符号重构得到初步补偿的...
    2026-01-16
  • 通过衬底处理改善CDU的方法
    通过衬底处理改善CDU的方法_华虹半导体(无锡)有限公司_202511422285.2
    本发明公开了一种通过衬底处理改善CDU的方法，包含：步骤一，在准备进行光刻工艺的半导体衬底上淀积一层氮化钛层作为硬掩模层，在所述的氮化钛层表面再淀积一层氧化硅层；步骤二，进行一步衬底处理工艺，在工艺腔内对晶圆进行O22等离子表面处理；步骤三...
    2026-01-16
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