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纺织,织造,皮革制品制作工具,设备的制造及其制品技术处理方法
  • 一种用于液晶基板玻璃通道移动的辅助装置
    一种用于液晶基板玻璃通道移动的辅助装置_彩虹集团有限公司_202422922308.3
    本实用新型公开一种用于液晶基板玻璃通道移动的辅助装置，属于液晶基板玻璃制造技术领域。通过动联轴器与静联轴器的活动连接以及换向器的设置，可以校正通道平行移动过程中出现的偏心状态，避免传统人力推动过程中出现的左右推力失衡问题，确保通道移动的稳定...
    2025-11-28
  • 一种真空玻璃焊接装置
    一种真空玻璃焊接装置_青岛钰晶节能玻璃科技有限公司_202423181917.4
    本实用新型涉及玻璃焊接技术领域，公开了一种真空玻璃焊接装置，所述：包括限位装置，限位装置包括工作台，工作台的上方左侧位置处设置有一个转盘，转盘的上方设置有一个电动缸，电动缸的下方设置有一个升降板，升降板的底部壁面上设置有多个按压杆；包括焊接...
    2025-11-28
  • 一种方便更换冲头的粉末冶金模具
    一种方便更换冲头的粉末冶金模具_海安冠达新材料科技有限公司_202422619654.4
    本实用新型公开了一种方便更换冲头的粉末冶金模具，涉及除臭装置技术领域，该一种方便更换冲头的粉末冶金模具包括冲头、加固组件、连接杆和安装套筒，所述冲头的内部设置有卡接组件，所述冲头的顶部设置有连接杆，本实用新型通过设置的插接块，使得再将插接块...
    2025-11-28
  • 用于直埋管道的波纹补偿器和直埋管道
    用于直埋管道的波纹补偿器和直埋管道_北京兴达波纹管有限公司_202423251248.3
    本实用新型公开了一种用于直埋管道的波纹补偿器和直埋管道，涉及热力管道的技术领域。所述直埋管道至少包括第一长管和第二长管，所述波纹补偿器包括外筒、两个平环和两个波纹管，外筒包括筒体、中间限位环板和两个端部限位环板，筒体套设在第一长管和第二长管...
    2025-11-28
  • 环形振荡电路及环形振荡器
    环形振荡电路及环形振荡器_广东巨风半导体有限公司_202423123631.0
    本实用新型公开了环形振荡电路及环形振荡器，环形振荡电路包括环形振荡模块，环形振荡模块包括2n+1个首尾级联的反相器单元，每一反相器单元对应设置有电流上拉单元及电流下拉单元，电流上拉单元分别与第一电流输出端及对应的反相器单元连接，电流下拉单元...
    2025-11-28
  • 一种便于拆装的车用滤清器
    一种便于拆装的车用滤清器_湖北富滤盛滤清器有限公司_202520207007.4
    本实用新型公开了一种便于拆装的车用滤清器，属于车用滤清器技术领域，该便于拆装的车用滤清器，包括壳体机构和盖体机构，所述壳体机构的底端设置有用于保护滤芯的盖体机构，所述盖体机构上设置有用于固定滤芯的滤芯架机构，所述滤芯架机构的内部设置有旁通阀...
    2025-11-28
  • 一种玻璃溶液退火炉
    一种玻璃溶液退火炉_宜兴市艳阳天炉业有限公司_202422926427.6
    本实用新型属于热处理设备技术领域，尤其是一种玻璃溶液退火炉，现提出如下方案，其包括退火炉本体；放置板，所述放置板滑动设置于退火炉本体的内腔，放置板顶部的前侧和后侧均开设有通风孔，通风孔的数量为若干个；密封组件，所述密封组件位于退火炉本体的右...
    2025-11-28
  • 一种玻璃钢化弯曲成型设备及其温控系统
    一种玻璃钢化弯曲成型设备及其温控系统_张家界振昌玻璃有限公司_202511035030.0
    本发明涉及玻璃成型技术领域，具体涉及一种玻璃钢化弯曲成型设备及其温控系统，通过不同的加热元件对不同的玻璃加热区域进行加热，能够对局部区域的温度进行灵活控制，保证了玻璃加热的温度均匀性控制能力；基于各个玻璃加热区域的邻域温度相似情况，从玻璃底...
    2025-11-28
  • 一种基于法向力控制的大范围纳米结构表面压印方法
    一种基于法向力控制的大范围纳米结构表面压印方法_哈尔滨工业大学_202511186133.7
    一种基于法向力控制的大范围纳米结构表面压印方法，属于纳米结构表面加工技术领域。方法如下：进行结构化压头表面与工件表面的调平；进行法向力控制压印；进行原位检测，评估本次压印加工的质量；若评估质量误差超值，则重复上述步骤直至误差在规定的范围内后...
    2025-11-28
  • 一种宽输入电压常闭型光隔离双向固体继电器
    一种宽输入电压常闭型光隔离双向固体继电器_贵州振华群英电器有限公司(国营第八九一厂)_202510911596.9
    本发明公开的一种宽输入电压常闭型光隔离双向固体继电器，包括输入限流模块、光隔离驱动模块、输出开关模块；所述输入限流模块的输出端依次串联发光器件D1、开关二极管D2和稳压二极管D3后接输入端负极IN‑；光伏器件E1的输出端连接输出开关模块的栅...
    2025-11-28
  • 一种模数转换器动态时钟相位校准与同步系统
    一种模数转换器动态时钟相位校准与同步系统_福建福大北斗通信科技有限公司_202511342973.8
    本发明属于卫星导航抗干扰领域，特别涉及一种模数转换器动态时钟相位校准与同步系统，包括有IO时钟网络、区域时钟缓冲器、DCO动态相位窗口探测模块、FCO帧同步模块和数据反序列化模块；DCO动态相位窗口探测模块，与IO时钟网络、区域时钟缓冲器相...
    2025-11-28
  • 一种自适配高域空间拓展台及方法
    一种自适配高域空间拓展台及方法_中国工商银行股份有限公司信阳分行_202511295694.0
    本发明提供了一种自适配高域空间拓展台及方法，涉及空间扩展技术领域，包括主板、两块副板、调节组件，两块副板对称设置于主板两侧，调节组件包括两根主杆，两根主杆平行且间隔设置于主板内，主杆与主板转动配合，任意主杆的两端均套设有与其螺纹配合的副杆，...
    2025-11-28
  • 光刻设备操作控制方法、装置、存储介质及设备
    光刻设备操作控制方法、装置、存储介质及设备_香港科技大学(广州)_202411847801.1
    本发明提供光刻设备操作控制方法、装置、存储介质及设备，包括：获取用户端发送的光刻任务，所述光刻任务包括需操作的衬底参数和工艺参数；将所述光刻任务中衬底参数与预设的衬底参数阈值比较、所述光刻任务中工艺参数与预设的工艺参数阈值比较；若所述衬底参...
    2025-11-28
  • 光刻掩模多目标鲁棒优化方法、系统、计算机设备和介质
    光刻掩模多目标鲁棒优化方法、系统、计算机设备和介质_广州市香港科大霍英东研究院_202411713006.3
    本申请实施例涉及光刻技术领域，提供了一种光刻掩模多目标鲁棒优化方法、系统、计算机设备和介质，其中方法包括：基于光刻仿真模型确定初始掩模版在N种工艺参数下分别获得的晶圆图案，N为大于1的整数；基于各种所述工艺参数获得的所述晶圆图案和目标图案之...
    2025-11-28
  • 一种磁板回转式除铁器
    一种磁板回转式除铁器_苏州沛昌科技有限公司_202422820034.7
    本实用新型提供一种磁板回转式除铁器，包括除铁箱，所述除铁箱一侧可拆卸连接驱动机构，所述驱动机构内侧设有转动轴，所述驱动机构对侧开有安装口，所述安装口内设有转动盘，所述转动盘内侧环形布设磁性板，所述转动盘内侧中部设有结合柱，所述结合柱与所述转...
    2025-11-28
  • 一种光学玻璃制造用分切装置
    一种光学玻璃制造用分切装置_石家庄市繁星玻璃制品有限公司_202423168042.4
    本实用新型公开了一种光学玻璃制造用分切装置，包括底座，底座上设置有分切装置，底座上设置有拼接装置，拼接装置包括拼接套、配合套、配合槽、配合板、适配套、卡接机构、拼接杆、配合块、适配杆和适配槽，配合槽呈螺旋状开设在配合套外侧，配合块通过配合板...
    2025-11-28
  • 一种防发霉镀膜玻璃
    一种防发霉镀膜玻璃_青岛锦绣前程节能玻璃有限公司_202422698340.8
    本实用新型提供了一种防发霉镀膜玻璃，其属于镀膜玻璃领域，其包括：玻璃基体；防霉结构；所述防霉结构包括在玻璃基体空气面一侧镀制防霉层，所述防霉层为氮化硅介质膜层，所述氮化硅介质膜层的厚度为10‑12nm，所述氮化硅介质膜层采用真空磁控溅射物理...
    2025-11-28
  • 一种钨矿和金红石浮选共富集的方法
    一种钨矿和金红石浮选共富集的方法_中南大学_202311371538.9
    本发明公开了一种钨矿和金红石浮选共富集的方法，属于选矿技术领域。该方法是将钨钛共伴生矿依次进行破碎、磨矿、脱铁和脱硫，得到脱硫尾矿矿浆；所述脱硫尾矿矿浆经过pH调整后，以金属离子‑羟肟酸类配合物作为捕收剂，进行钨钛混合浮选，得到钨钛混合精矿...
    2025-11-28
  • 掩模版和载物台的兼容检测装置和兼容检测方法
    掩模版和载物台的兼容检测装置和兼容检测方法_苏州天准科技股份有限公司_202411167781.3
    本发明提供了一种掩模版和载物台的兼容检测装置和兼容检测方法，属于半导体检测加工领域，兼容检测装置包括相机组件、掩模版吸附框、掩模版和载物台；相机组件设置在掩模版吸附框上方，掩模版设置在掩模版吸附框处。本申请的相机组件上下占用空间小，景深范围...
    2025-11-28
  • 光蚀刻系统及光蚀刻方法
    光蚀刻系统及光蚀刻方法_台湾积体电路制造股份有限公司_202110176336.3
    一种光蚀刻系统，用于控制极紫外光微影光源中的电浆位置，此系统可包括真空腔室；液滴产生器，用以将液滴流分配至真空腔室中，其中液滴是由金属材料形成；激光光源，用以将包括至少第一脉冲及第二脉冲的多个激光脉冲发射至真空腔室中；感测器，用以侦测腔室内...
    2025-11-28
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