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龙图腾网获悉合肥工业大学申请的专利一种微型角锥电感器的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116487371B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310227774.7，技术领域涉及：H10D1/20；该发明授权一种微型角锥电感器的制备方法是由黄文;李龙宇;王奇振;桑磊设计研发完成，并于2023-03-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种微型角锥电感器的制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种微型角锥电感器的制备方法，属于纳米电子器件技术领域。制备操作步骤：1在硅衬底上依次沉积牺牲层和应力层；2采用感应耦合等离子体刻蚀方法经第一次光刻确定操作台；3采用电子束蒸发镀膜方法经第二次光刻后沉积金属层，采用原子层层积方法沉积保护层；4第三次光刻确定刻蚀窗口，刻蚀牺牲层触发薄膜自卷曲，得到标准自卷曲电感；5对标准自卷曲电感退火处理，产生应力差，得到角锥电感。本发明的微型角锥电感器有着大的自谐振频率和品质因数，在宽频带内有着良好的使用效果，在具有较小尺寸的同时，电感器的结构参数可调。

本发明授权一种微型角锥电感器的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种微型角锥电感器的制备方法，其特征在于，操作步骤如下： 1在硅衬底上依次沉积牺牲层和应力层 在硅衬底1上，采用电子束蒸发镀膜方法沉积锗牺牲层2，在锗牺牲层2上，采用等离子体增强化学气相沉积PECVD方法依次沉积双频氮化硅的应力层，所述双频氮化硅的应力层由低频氮化硅层3和高频氮化硅层4组成； 2第一次光刻确定操作台 2.1第一次涂胶、曝光、显影 用旋转涂胶的方法在高频氮化硅层4上涂设液相正性光刻胶，形成第一光刻胶层5；使用接触式光刻机，遮挡住需要保留的光刻胶部分，曝光，显影去除曝光的光刻胶部分，得到暴露出部分高频氮化硅4的基片； 2.2ICP刻蚀、去胶 使用ICP-601型感应耦合等离子体刻蚀机，以显影后的第一光刻胶层5为掩膜，经ICP刻蚀，由上向下去除第一光刻胶层5外围的高频氮化硅层4、低频氮化硅层3和锗牺牲层2；在去胶液中去除第一光刻胶层5，得到硅衬底1上剩余的由高频氮化硅层4、低频氮化硅层3和锗牺牲层2形成的操作台； 3第二次光刻沉积金属层与保护层 3.1第二次涂胶、曝光、显影 用旋转涂胶的方法在硅衬底1的操作台上均涂设液相负性光刻胶，形成第二光刻胶层8；使用接触式光刻机，遮挡住需要去除的光刻胶部分，曝光，显影去除未曝光的光刻胶部分，在高频氮化硅层4上形成第一镂空图案10，第一镂空图案10为蛇形图案； 3.2镀金、去胶 使用电子束蒸发设备，在第二光刻胶层8上沉积金属导电层11，金属导电层11填充满第一镂空图案10中，放入去胶液中去除第二光刻胶层8和除第一镂空图案10中填充的金以外的金属导电层11，沿着操作台的长度方向上形成蛇形金属导电条12； 3.3沉积氧化铝Al2O3保护层 利用原子层层积ALD技术，在硅衬底1的表面、操作台的表面和金属导电条12的表面层积氧化铝层13，氧化铝层13的厚度为5nm～20nm； 4第三次光刻确定刻蚀窗口与刻蚀牺牲层 4.1第三次涂胶、曝光、显影 用旋转涂胶的方法在氧化铝层13上涂设液相负性光刻胶，形成第三光刻胶层15；使用接触式光刻机，遮挡住需要去除的光刻胶部分，曝光，显影去除未曝光的光刻胶部分，在操作台的长度方向一侧形成条状镂空图案17，条状镂空图案17平行于蛇形金属导电条12的长度方向； 4.2感应耦合等离子体刻蚀、去胶 使用ICP-601型感应耦合等离子体刻蚀机，以第三光刻胶层15作为掩膜，由上向下刻蚀去除条状镂空图案17下方的氧化铝层13、高频氮化硅层4、低频氮化硅层3和锗牺牲层2；在去胶液中去除第三光刻胶层15，得到暴露出硅衬底1、牺牲层锗2、低频氮化硅层3和高频氮化硅层4的刻蚀窗口18； 4.3去除牺牲层 采用湿法刻蚀，将步骤4.2的基片浸没在30％的过氧化氢溶液中，过氧化氢进入刻蚀窗口18，与牺牲层锗2反应刻蚀，在低频氮化硅层3和高频氮化硅层4的双频应力作用下，低频氮化硅层3、高频氮化硅层4和金属导电条12向内卷曲成微管，得到标准自卷曲电感； 5退火 使用管式退火炉设备，对标准自卷曲电感进行退火处理，退火温度为300℃-600℃、退火时间为30s-150s，得到微型角锥电感器； 所述微型角锥电感器的卷曲轴向内径为50-100um，卷曲圈数是一圈至五圈，相邻圈之间的间隙为0-15um，品质因数为5-17，自谐振频率为14GHz-17.2GHz。

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