大立光电股份有限公司蔡温祐获国家专利权
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龙图腾网获悉大立光电股份有限公司申请的专利光学镜头、取像装置及电子装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115373106B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210556505.0，技术领域涉及：G02B13/00；该发明授权光学镜头、取像装置及电子装置是由蔡温祐;张建邦;邓钧鸿;朱国强设计研发完成，并于2022-05-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学镜头、取像装置及电子装置在说明书摘要公布了：本揭示内容提供一种光学镜头、取像装置及电子装置，光学镜头包含至少二光学镜片以及至少一反射元件。反射元件由塑胶材料所制成，反射元件包含一反射镀膜，反射镀膜位于反射元件的一表面。反射镀膜包含不同材质的至少三膜层，其中三膜层分别由第一材料、第二材料及第三材料所制成，第一材料主要包含银，第二材料主要包含钛，第三材料主要包含铬氧化物，且第一材料及第二材料制成的膜层位于第三材料制成的膜层与反射元件之间。借此，反射元件具有高反射效果的膜层组合，且具有优异高效率反射光线的转折光线路径的能力，更可以有效避免反射镀膜产生膜裂问题。
本发明授权光学镜头、取像装置及电子装置在权利要求书中公布了：1.一种光学镜头，其特征在于，包含： 至少二光学镜片；以及 至少一反射元件； 其中，该反射元件为塑胶反射元件，该反射元件包含一反射镀膜，该反射镀膜位于该反射元件的一表面； 其中，该反射镀膜包含不同材质的至少三膜层，三该膜层分别由一第一材料、一第二材料及一第三材料所制成，该第一材料包含银，该第二材料包含钛，该第三材料包含铬氧化物，且该第一材料及该第二材料制成的该些膜层位于该第三材料制成的该膜层与该反射元件之间； 其中，该反射镀膜于波长800nm至1000nm的平均反射率为R80100，其满足下列条件： 97.5%≤R80100。
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