应用材料公司赛捷·托克·加勒特·多莎获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利用于平坦光学装置的孔获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114008524B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080041380.7，技术领域涉及：G03F7/00；该发明授权用于平坦光学装置的孔是由赛捷·托克·加勒特·多莎;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森;卢多维克·戈代;陈建安;平克什·罗希特·沙阿设计研发完成，并于2020-05-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于平坦光学装置的孔在说明书摘要公布了：本文描述的多个实施方式涉及用于制造光学装置的方法。本文描述的方法使得能够在基板上制造一个或多个光学装置，该基板具有围绕每个光学装置的孔，光学装置具有多个结构。本文描述的方法的一个实施方式包括：在基板的表面上设置孔材料层，在孔和基板的表面之上设置结构材料层，在孔和结构材料层之上设置硬模，在硬模之上设置图案化的光刻胶，图案化的光刻胶界定暴露的硬模部分，去除暴露的硬模部分以暴露结构材料层的结构部分，并且去除结构部分以在基板的表面的区域之上的孔之间形成多个结构。
本发明授权用于平坦光学装置的孔在权利要求书中公布了：1.一种制造平坦光学装置的方法，包括以下步骤： 在透明基板的表面上设置孔材料层； 图案化所述孔材料层，以在与以下中的一个相对应的所述透明基板的所述表面的区域之上形成孔： 由相邻的光学装置界定的第一空间；和 由所述相邻的光学装置中的一个光学装置和所述透明基板的外周界定的第二空间； 在所述孔和所述透明基板的所述表面之上设置结构材料层； 在所述孔和所述结构材料层之上设置硬模； 将图案化的光刻胶设置在所述硬模之上，所述图案化的光刻胶界定暴露的硬模部分； 去除所述暴露的硬模部分以暴露所述结构材料层的结构部分；和 去除所述结构部分以在所述透明基板的所述表面的区域之上的所述孔之间形成所述平坦光学装置的超颖表面的多个结构，其中所述孔为不透明的。
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