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龙图腾网获悉拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司申请的专利镀膜设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224199473U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202521090593.5，技术领域涉及：C23C16/458；该实用新型镀膜设备是由朱鹤囡;戴佳;孔琪;董雪迪设计研发完成，并于2025-05-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本镀膜设备在说明书摘要公布了：本申请提供了一种镀膜设备，涉及半导体或光伏材料加工领域，解决了传统的镀膜设备的喷淋结构使工艺气体分布不均、导致镀膜不均匀的技术问题。该镀膜设备包括：真空腔体；驱动组件；喷淋块，设置于真空腔室的顶部，并与驱动组件的第二端传动连接，喷淋块具有相对的第一进气端和第二进气端；两个及以上的进气管，分别穿过两个及以上的第二通孔，并分别连通至第一进气端和第二进气端；两个及以上的波纹管组件，分别套设于两个及以上的进气管。通过驱动组件驱动喷淋块沿第二水平方向运动，能够动态调整工艺气体在真空腔室内的出气位置，从而能够灵活调整真空腔室内不同位置处的工艺气体的浓度，改善不同位置处的片状材料的镀膜均匀性。

本实用新型镀膜设备在权利要求书中公布了：1.一种镀膜设备，其特征在于，包括： 真空腔体，所述真空腔体具有真空腔室、与所述真空腔室连通的第一通孔和两个及以上的与所述真空腔室连通的第二通孔，所述真空腔室被配置为容纳片状材料； 驱动组件，所述驱动组件的第一端设置于所述真空腔室外，所述驱动组件的第二端穿过所述第一通孔伸入所述真空腔室内； 喷淋块，沿第一水平方向延伸，设置于所述真空腔室的顶部，并与所述驱动组件的第二端传动连接，被配置为在所述驱动组件的驱动下沿第二水平方向运动，所述第一水平方向与所述第二水平方向交叉，所述喷淋块具有进气腔室，所述喷淋块的底部具有与所述进气腔室连通的多个出气孔，所述喷淋块在所述第一水平方向上具有相对的第一进气端和第二进气端； 两个及以上的进气管，两个及以上的所述进气管的第一管端分别穿过两个及以上的所述第二通孔，并分别连通至所述第一进气端和所述第二进气端，被配置为向所述进气腔室通入工艺气体； 两个及以上的波纹管组件，分别套设于两个及以上的所述进气管，每个所述波纹管组件的第一端与所述真空腔体密闭连接，每个所述波纹管组件的第二端与套设的所述进气管密闭连接，被配置为密封所述真空腔体与所述进气管之间的间隙。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司，其通讯地址为：214101 江苏省无锡市锡山区锡北东青河路3号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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