济宁天岳半导体新材料有限公司李瞳获国家专利权
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龙图腾网获悉济宁天岳半导体新材料有限公司申请的专利石墨粉纯化工装获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224194666U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202521570763.X，技术领域涉及：B01J4/00；该实用新型石墨粉纯化工装是由李瞳;马文龙;程坤;宁秀秀;靳婉琪设计研发完成，并于2025-07-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本石墨粉纯化工装在说明书摘要公布了：本申请公开石墨粉纯化工装，包括坩埚、分气盘和限位结构，坩埚的坩埚腔下部为反应区，上部为内径较大的沉降区，坩埚的顶部设有带出气孔的坩埚盖，坩埚的底部设有带进气孔的底板，分气盘密封设置在坩埚腔内，靠近底板，并与底板之间保持有预定的分气间隙，分气盘上均匀设有多个分气孔，且每个分气孔处安装有气帽，气帽在周向侧壁开设有气流孔，限位结构用于限位气帽，在进气孔进气时，气体依次通过分气间隙、分气孔而将气帽顶离分气孔，气体由气流孔流入至坩埚腔内，在进气孔未进气时，气帽在自重作用下自动下落封堵分气孔，且气流孔被限位结构封堵。本申请提供的石墨粉纯化工装能够通过气流将石墨粉分散均匀，充分接触进行反应，纯化效果好。
本实用新型石墨粉纯化工装在权利要求书中公布了：1.石墨粉纯化工装，其特征在于，包括坩埚、分气盘和限位结构，所述坩埚具有一沿竖直方向延伸的坩埚腔，所述坩埚腔的下部为反应区，所述坩埚腔的上部为沉降区，所述沉降区的内径大于所述反应区的内径，所述坩埚的顶部设有带出气孔的坩埚盖，所述坩埚的底部设有带进气孔的底板，其中所述分气盘密封设置在所述坩埚腔内，靠近所述底板，并与所述底板之间保持有预定的分气间隙，所述分气盘上均匀设有多个分气孔，且每个所述分气孔处安装有气帽，所述气帽在周向侧壁开设有气流孔，所述限位结构用于限位所述气帽，在所述进气孔进气时，气体依次通过所述分气间隙、所述分气孔而将所述气帽顶离所述分气孔，气体由所述气流孔流入至所述坩埚腔内，在所述进气孔未进气时，所述气帽在自重作用下自动下落封堵所述分气孔，且所述气流孔被所述限位结构封堵。
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