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龙图腾网获悉株式会社斯库林集团申请的专利基板处理装置及基板处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113874992B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080038691.8，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权基板处理装置及基板处理方法是由中井仁司设计研发完成，并于2020-05-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理装置及基板处理方法在说明书摘要公布了：第1护罩顶端部86的内周端74a在水平方向上隔着第1环状间隙C1而与基板W的周端面Wc相对。另外，第2护罩顶端部88的内周端75a在水平方向上隔着第2环状间隙C2而与圆板部28的外周端28c相对。基板相对面26a与基板W的表面Wa保持规定的间隔WU，同时遮蔽部件6与基板W相对。第1环状间隙C1的距离L1与第2环状间隙C2的距离L2的合计L1+L2为排气路径EP中的流路宽度WF以上，且为基板相对面26a与基板W的表面Wa的间隔WU以下WF≤L1+L2≤WU。

本发明授权基板处理装置及基板处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，包括： 腔室； 基板保持单元，其配置于基板的下方，具有在俯视下比所述基板小的基座板，在所述腔室的内部水平地保持所述基座板上的所述基板； 遮蔽部件，其具有圆板部，该圆板部设有与由所述基板保持单元保持的所述基板的上表面隔开间隔地相对的基板相对面； 处理承杯，其具有内侧护罩和外侧护罩，该内侧护罩具有围绕所述基板保持单元的周围的第1圆筒部、和从所述第1圆筒部的上端朝向从由所述基板保持单元保持的所述基板的中央部穿过的铅垂线延伸的第1护罩顶端部，所述第1护罩顶端部的内周端隔着第1环状间隙而与所述基板的周端面在水平方向上直接相对，该外侧护罩具有围绕所述第1圆筒部的周围的第2圆筒部、和从所述第2圆筒部的上端朝向所述铅垂线延伸且与所述第1护罩顶端部相比位于上方的第2护罩顶端部，所述第2护罩顶端部的内周端隔着第2环状间隙而与所述圆板部的外周端水平地相对，所述处理承杯在内部形成有由所述第1护罩顶端部和所述第2护罩顶端部划分出的第1空间、和与所述第1空间连通的排气路径； 非活性气体供给单元，其向形成在由所述基板保持单元保持的所述基板与所述遮蔽部件之间且与所述第1空间连通的第2空间供给非活性气体； 药液供给单元，其向由所述基板保持单元保持的所述基板的上表面供给药液；以及 控制装置，其控制所述非活性气体供给单元及所述药液供给单元， 所述控制装置执行以下工序： 正压维持工序，在所述第1护罩顶端部的内周端隔着第1环状间隙而与所述基板的周端面在水平方向上直接相对、并且所述第2护罩顶端部的内周端隔着第2环状间隙而与所述圆板部的外周端在水平方向上相对的状态下，利用所述非活性气体供给单元向所述第2空间供给非活性气体，将所述第1空间及所述第2空间双方保持为正压；和 药液处理工序，与所述正压维持工序并行地，利用所述药液供给单元向由所述基板保持单元保持的所述基板的上表面供给药液，对所述基板的上表面实施使用药液的处理。

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