浙江大华技术股份有限公司毛誉杰获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江大华技术股份有限公司申请的专利一种天线获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224177574U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520849901.1，技术领域涉及：H01Q1/48；该实用新型一种天线是由毛誉杰;闫富贵;方勇军;叶静;毛申尉;周养浩;赵晨曦设计研发完成，并于2025-04-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种天线在说明书摘要公布了：本申请公开了一种天线，用以拓展天线带宽。本申请提供的天线包括：至少一个天线单元；其中，每一所述天线单元包括：从上到下依次设置的：辐射层、第一参考地层、第一介质层、第二介质层、第二参考地层；其中：所述辐射层的上表面设置有天线辐射体；所述第二介质层的上表面设置有沿第一方向延伸的微带线；所述第一介质层用于隔离所述第一参考地层和所述第二介质层上设置的微带线；在垂直于所述第二介质层的上表面的方向上，所述第一参考地层在所述第二介质层的上表面的投影，覆盖所述微带线的一部分，所述第二参考地层在所述第二介质层的上表面的投影，覆盖所述微带线的另一部分。
本实用新型一种天线在权利要求书中公布了：1.一种天线，其特征在于，包括：至少一个天线单元；其中，每一所述天线单元包括： 从上到下依次设置的：辐射层、第一参考地层、第一介质层、第二介质层、第二参考地层；其中： 所述辐射层的上表面设置有天线辐射体； 所述第二介质层的上表面设置有沿第一方向延伸的微带线； 所述第一介质层用于隔离所述第一参考地层和所述第二介质层上设置的微带线； 在垂直于所述第二介质层的上表面的方向上，所述第一参考地层在所述第二介质层的上表面的投影，覆盖所述微带线的一部分，所述第二参考地层在所述第二介质层的上表面的投影，覆盖所述微带线的另一部分。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人浙江大华技术股份有限公司，其通讯地址为：310053 浙江省杭州市滨江区滨安路1187号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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