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龙图腾网获悉东方晶源微电子科技(北京)有限公司申请的专利一种掩模优化方法、掩模优化装置及电子设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114509912B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210029186.8，技术领域涉及：G03F1/76；该发明授权一种掩模优化方法、掩模优化装置及电子设备是由兰涛明设计研发完成，并于2022-01-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种掩模优化方法、掩模优化装置及电子设备在说明书摘要公布了：本发明涉及集成电路掩模设计领域，尤其涉及掩模优化方法、掩模优化装置及电子设备，该方法包括步骤：提供包括多个待优化曝光图形的初始掩模版图；基于建立的仿真光刻模型计算获得与每个待优化曝光图形对应的亚分辨率辅助图形；基于一预设范围，获取一待优化曝光图形的所有亚分辨率辅助图形并关联，获得关联的每个亚分辨率辅助图形的尺寸信息和距离信息；基于设定的分类规则对这些信息分析以将多个待优化曝光图形分类并基于这些信息计算以获得关于该类型下的待优化曝光图形的亚分辨率辅助图形的设置规则；基于设置规则对同类型的其它待优化掩模进行优化，本发明提供的技术方案具有工艺窗口宽、优化掩模的速度快以及优化效果好的特点。

本发明授权一种掩模优化方法、掩模优化装置及电子设备在权利要求书中公布了：1.一种掩模优化方法，用于对待优化掩模进行优化，其特征在于包括如下步骤： 提供初始掩模版图，所述初始掩模版图包括多个待优化曝光图形； 建立仿真光刻模型； 基于所述仿真光刻模型计算获得与每个待优化曝光图形对应的亚分辨率辅助图形； 基于一预设范围，获取一待优化曝光图形在该预设范围内的所有亚分辨率辅助图形，并将所有亚分辨率辅助图形与该待优化曝光图形关联，获得关联的每个亚分辨率辅助图形的尺寸信息和相对该待优化曝光图形的距离信息； 基于设定的分类规则对所述尺寸信息和或距离信息分析以将所述多个待优化曝光图形分类，对相同类型下的待优化曝光图形对应的所有的亚分辨率辅助图形的尺寸信息和距离信息进行计算以获得关于该类型下的待优化曝光图形的亚分辨率辅助图形的设置规则； 基于所述设置规则对同类型的其它待优化掩模添加亚分辨率辅助图形以进行优化； 所述分类规则包括：设定尺寸信息阈值和或距离信息阈值，将在尺寸信息阈值范围内和或距离信息阈值范围内的亚分辨率辅助图形关联的待优化曝光图形归纳为相同类型； 计算以获得关于该相同类型下的待优化曝光图形的亚分辨率辅助图形的设置规则具体为：分别计算所有距离信息和尺寸信息的均方根，距离信息和尺寸信息的均方根数据构成设置规则。

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