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龙图腾网获悉安徽越好电子装备有限公司申请的专利一种多靶配置的高深孔能力TGV种子层溅镀装置和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121428498B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610001170.4，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种多靶配置的高深孔能力TGV种子层溅镀装置和方法是由俞峰;陈桉苡;黄俊凯;周海龙设计研发完成，并于2026-01-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种多靶配置的高深孔能力TGV种子层溅镀装置和方法在说明书摘要公布了：本发明涉及种子层溅镀技术领域，尤其是涉及一种多靶配置的高深孔能力TGV种子层溅镀装置和方法，一种多靶配置的高深孔能力TGV种子层溅镀装置包括：用于承载基板的旋转式基座；多靶溅镀组件，所述多靶溅镀组件包括：设置于所述旋转式基座上方的中心靶，环绕所述中心靶设置的偏心靶；角度调整机构，所述角度调整机构与中心靶相连接，在溅镀过程中可反复调整所述中心靶的倾斜角度；功率控制部件，所述功率控制部件满足：能够以混合驱动模式对所述中心靶和所述偏心靶的功率进行独立动态调控。本发明将中心靶和五个偏心靶进行结合，配合多靶配置之高穿透能力TGV种子层溅镀方法，显著提升了孔内的覆盖均匀性和覆膜完整性。

本发明授权一种多靶配置的高深孔能力TGV种子层溅镀装置和方法在权利要求书中公布了：1.一种多靶配置的高深孔能力TGV种子层溅镀装置，其特征在于，包括：用于承载基板的旋转式基座3； 多靶溅镀组件，所述多靶溅镀组件包括： 设置于所述旋转式基座3上方的中心靶1，环绕所述中心靶1设置的偏心靶2；所述偏心靶2的数量为五个，且五个所述偏心靶2以所述中心靶1为圆心，按72°的角向间隔均匀分布； 中心靶1在初始状态下垂直于水平的TGV玻璃基板4进行溅镀；所述偏心靶的入射角γ能够在15°至35°的范围内调节； 角度调整机构5，所述角度调整机构5与中心靶1相连接，所述角度调整机构5被配置为：在溅镀过程中，所述角度调整机构5调控中心靶1在±5°的角度区间内进行连续的摆动或姿态调整； 功率控制部件6，所述功率控制部件6向所述中心靶1施加RF溅镀模式，并向所述偏心靶2施加HiPIMS溅镀模式，以利用RF溅射过程中产生的等离子体包含的大量电子，有效地中和HiPIMS在TGV玻璃基板4表面积累的电荷，从而消除阻碍效应，确保高能离子能够顺利到达TGV通孔底部。

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