日月光半导体制造股份有限公司余明伦获国家专利权
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龙图腾网获悉日月光半导体制造股份有限公司申请的专利滤波器结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113810020B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110994467.2，技术领域涉及：H03H9/64；该发明授权滤波器结构是由余明伦;林欣汉;曾柏翔;陈俊仁;吕世文设计研发完成，并于2021-08-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本滤波器结构在说明书摘要公布了：本发明涉及一种滤波器结构，该滤波器结构包括：基板，具有相对设置的第一表面和第二表面；滤波器，具有第一部分和第二部分，第一部分和第二部分分别设置在基板的第一表面和第二表面处。其中，第一部分和第二部分通过内埋于基板的通孔进行电性连接。上述技术方案至少可以在滤波器结构微小化的进程中维持SAW滤波器的效能。
本发明授权滤波器结构在权利要求书中公布了：1.一种滤波器结构，其特征在于，包括： 基板，具有相对设置的第一表面和第二表面； 滤波器，具有第一部分和第二部分，所述第一部分和所述第二部分分别设置在所述基板的所述第一表面和所述第二表面处； 其中，所述第一部分和所述第二部分通过内埋于所述基板的通孔进行电性连接， 其中，所述滤波器是表面声波滤波器，所述第一部分和所述第二部分是由单一单侧表面声波滤波器所分割而成，所述滤波器由多个换能器结构形成，所述第一部分包括所述多个换能器结构中的部分，所述第二部分包括所述多个换能器结构中的另外部分， 其中，所述多个换能器结构由覆盖层覆盖，并且位于由所述覆盖层上方的壁限定的空腔的底部，所述壁的上方设置有盖顶，所述盖顶覆盖在所述空腔上。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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