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龙图腾网获悉成都国泰真空设备有限公司申请的专利一种多室联动式磁控溅射镀膜装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121023457B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511175008.6，技术领域涉及：C23C14/56；该发明授权一种多室联动式磁控溅射镀膜装置是由卢成;王伟设计研发完成，并于2025-08-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种多室联动式磁控溅射镀膜装置在说明书摘要公布了：本发明涉及镀膜技术领域，具体公开了一种多室联动式磁控溅射镀膜装置，包括：环形真空腔室，侧壁上连通有抽真空管；多个工序腔室，包括装载卸载腔、预处理腔、退火腔及若干溅射腔，装载卸载腔设于环形真空腔室的顶面，预处理腔、退火腔及各溅射腔沿环形真空腔室的外周环形布置，且均与环形真空腔室连通；转盘，可旋转设置于环形真空腔室内部中央，并传动连接有用于驱动转盘旋转的驱动组件；机械臂机构，环形分布于转盘上，转盘在相邻机械臂机构之间均设有隔板，机械臂机构的一端设于转盘上，另一端设有用于安装基板的承载器。本发明结构紧凑、空间利用率高，具备较高的适应性及工艺灵活性，能够避免工艺互扰，提升了生产效率。

本发明授权一种多室联动式磁控溅射镀膜装置在权利要求书中公布了：1.一种多室联动式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，包括： 环形真空腔室1，所述环形真空腔室1的侧壁上连通设置有抽真空管2； 多个工序腔室，包括装载卸载腔3、预处理腔4、退火腔5以及若干溅射腔6，所述装载卸载腔3连通设置于环形真空腔室1的顶面，所述预处理腔4、退火腔5及各溅射腔6沿环形真空腔室1的外周环形布置，且均与环形真空腔室1连通； 转盘7，可旋转设置于环形真空腔室1内部中央，并传动连接有用于驱动转盘7旋转的驱动组件； 机械臂机构，环形分布于所述转盘7上，所述转盘7在相邻机械臂机构之间均设有隔板8，所述机械臂机构的一端设于转盘7上，另一端设有用于安装基板的承载器，所述机械臂机构可转动及伸缩，用于驱动基板从环形真空腔室1伸入或退出对应的工序腔室内部； 控制系统，用于协调控制所述驱动组件、机械臂机构以及各工序腔室内工序组件的启闭，从而实现基板在各工序腔室之间的转运及工艺处理； 所述承载器包括套环19，所述套环19内设置有可用于夹持安装基板的第一夹持杆20； 还包括承载杆，所述承载杆包括下杆21和上杆22，所述下杆21可安装于套环19内，所述下杆21的内部设有第一转向电机，所述上杆22可旋转安装于下杆21的顶面，并与第一转向电机传动连接，所述上杆22的顶面设置有可用于夹持安装基板的第二夹持杆23； 所述上杆22的顶面平行设置有两个圆形挡板24，两个所述圆形挡板24的中部通过轴杆25连接，两个所述圆形挡板24的上侧均设有扇形开口26，所述轴杆25的中部设有转环27，且所述轴杆25的内部设有用于驱动转环27旋转的第二转向电机，所述转环27的外周环形均匀布置有至少两个第二夹持杆23。

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