浙江创芯集成电路有限公司李双获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江创芯集成电路有限公司申请的专利定位标记组、掩模组和光刻方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119916640B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510373535.1，技术领域涉及：G03F1/42；该发明授权定位标记组、掩模组和光刻方法是由李双;高大为;吴永玉;任堃;周慧霖;吴美琪设计研发完成，并于2025-03-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本定位标记组、掩模组和光刻方法在说明书摘要公布了：一种定位标记组、掩模组和光刻方法，定位标记组包括：第一定位标记，包括：第一定位图形区和第一空白区；第二定位标记，包括：第二定位图形区和第二空白区；所述第一定位标记和所述第二定位标记相对准时，所述第一定位图形和所述第二定位图形相拼接，且所述第一定位图形区与至少部分所述第二空白区对齐重叠，所述第二定位图形区与至少部分所述第一空白区对齐重叠。本发明的掩模组中不同掩模，基于定位图形区的定位图形和空白区进行拼接，所述掩模上定位标记组中定位标记的位置设置自由，能够突破定位标记在掩模上设置位置的限制，能够突破曝光顺序的限制，能够有效减少出错，有利于工艺窗口的扩大，有利于降低工艺难度。
本发明授权定位标记组、掩模组和光刻方法在权利要求书中公布了：1.一种定位标记组，其特征在于，包括： 第一定位标记，所述第一定位标记配置为设置于第一掩模，所述第一定位标记包括：第一定位图形区和第一空白区，所述第一定位图形区具有第一定位图形，所述第一空白区不具有图形； 第二定位标记，所述第二定位标记配置为设置于第二掩模，所述第二定位标记包括：第二定位图形区和第二空白区，所述第二定位图形区具有第二定位图形，所述第二空白区不具有图形； 所述第一定位标记和所述第二定位标记相对准以实现所述第一掩模的图形与所述第二掩模的图形的拼接； 所述第一定位标记和所述第二定位标记相对准时，所述第一定位图形和所述第二定位图形相拼接，且所述第一定位图形区与至少部分所述第二空白区对齐重叠，所述第二定位图形区与至少部分所述第一空白区对齐重叠； 不同定位标记相对准时，所对应的定位图形之间仅边缘重合且彼此不重叠。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人浙江创芯集成电路有限公司，其通讯地址为：311200 浙江省杭州市萧山区宁围街道平澜路2118号浙江大学杭州国际科创中心水博园区11幢4层-5层(自主申报)；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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