中国矿业大学赵培涛获国家专利权
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龙图腾网获悉中国矿业大学申请的专利一种旋流射流低浓度瓦斯无焰氧化装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119737623B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510098708.3，技术领域涉及：F23G7/06；该发明授权一种旋流射流低浓度瓦斯无焰氧化装置及方法是由赵培涛;段龙海;余波;袁隆基;刘方;周楠;王浩;夏同强设计研发完成，并于2025-01-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种旋流射流低浓度瓦斯无焰氧化装置及方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种旋流射流低浓度瓦斯无焰氧化装置及方法，包括用于实现低浓度瓦斯氧化的氧化室，以及设置在所述氧化室内的点火系统，所述氧化室一端设置有稳焰盘，所述氧化室的另一端开设有高温烟气出口，所述氧化室上沿所述稳焰盘的周向上穿设有可使瓦斯气在所述氧化室内形成湍流的旋流管，所述稳焰盘上设置有通孔，所述通孔与主进气口连通，所述旋流管与次进气口连通，所述通孔的总面积小于所述高温烟气出口的截面积，通过设置旋流管，实现高温烟气的回流，将通孔的总面积设置为小于高温烟气出口的截面积，使瓦斯稳定燃烧，另外将旋流管设置在稳焰盘的周向上，可以提高瓦斯氧化效果。
本发明授权一种旋流射流低浓度瓦斯无焰氧化装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种旋流射流低浓度瓦斯无焰氧化装置，其特征在于，包括用于实现低浓度瓦斯氧化的氧化室，以及设置在所述氧化室内的点火系统，所述氧化室一端设置有稳焰盘，所述氧化室的另一端开设有高温烟气出口，所述氧化室上沿所述稳焰盘的周向上穿设有可使瓦斯气在所述氧化室内形成湍流的旋流管，所述稳焰盘上设置有通孔，所述通孔与主进气口连通，所述旋流管与次进气口连通，所述通孔的总面积小于所述高温烟气出口的截面积； 所述旋流管通过弧形的瓦斯气分布管与所述次进气口连通，所述旋流管出气口距离所述稳焰盘的距离为所述氧化室长度的110至15； 所述氧化室上沿所述稳焰盘的周向开设有两个以上的不规则直流射流喷口，所述直流射流喷口与所述主进气口连通。
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