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龙图腾网获悉南京泛铨电子科技有限公司申请的专利一种以数位方式辨别材料/故障分析中试片异常的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119722581B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411684026.2，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权一种以数位方式辨别材料/故障分析中试片异常的方法是由柳纪纶;陈荣钦;张仕欣设计研发完成，并于2024-11-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种以数位方式辨别材料/故障分析中试片异常的方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种以数位方式辨别材料故障分析中试片异常的方法，包括以下步骤：S1：扫描电子显微镜SEM的被动式VC方式检测半导体试片，获得SEMPVC图像；S2：准备半导体试片原始设计在金属接触层的Layout图；S3：将SEMPVC图像和Layout图进行数据处理；S4：故障分析；本发明利用数字处理方式，取得SEMPVC影像，分析灰阶值，并与原始设计Layout图做自动比对，以显著的红色星号标示有差异的位置，轻松辨认故障晶体管的位置。判定方法直观，精准度和正确率远胜于人眼辨别图像，避免人眼判断的失误，精准辨认不同晶体管的亮度，提高材料故障分析的良率，有效提升材料故障分析的质量与成功率。

本发明授权一种以数位方式辨别材料/故障分析中试片异常的方法在权利要求书中公布了：1.一种以数位方式辨别材料故障分析中试片异常的方法，其特征在于：包括以下步骤： S1：扫描电子显微镜SEM的被动式VC方式检测半导体试片，获得SEMPVC图像； S2：准备半导体试片原始设计在金属接触层的Layout图； S3：将SEMPVC图像和Layout图进行数据处理； S31：处理Layout图； 加载并显示Layout图，获得金属接触的坐标，将所有晶体管的金属接触内灰阶值设为255，并重新形成一张图像，作为参照图像； S32：处理SEMPVC图像； 加载并显示SEMPVC图像，选取SEMPVC图像中金属接触范围，获取选取范围的区域坐标，将区域坐标内的所有像素的灰阶值取平均值定义为此金属接触的灰阶值； S33：标注灰阶值； 将计算得到的灰阶值标识到SEMPVC图像对应的选取范围的上方，全部标注完成后，重新形成一张图像为处理图像； S34：计算灰阶值差异，获得差异图； 将参照图像的所有金属接触灰阶值减去处理图像相对应的选取范围的金属接触灰阶值得到灰阶差异值，将Layout图重新形成一张图像，并将所得到的灰阶差异值标示于所有对应的金属接触上，标注完成后存储为差异图； S35：标识故障； 将相同晶体管型态两两比较灰阶差异值，将两者的灰阶值差异值的差异超过阈值的晶体管以红色星号标示出，并重新形成一张图像，存储为故障标识图； S4：故障分析； 根据故障标识图，以红色星号标示的晶体管就是故障的晶体管，确定故障晶体管的位置，即可以进行下一步的故障分析。

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