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中国计量科学研究院施玉书获国家专利权

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龙图腾网获悉中国计量科学研究院申请的专利一种自溯源的二维位移测量装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119164292B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411404850.8,技术领域涉及:G01B11/02;该发明授权一种自溯源的二维位移测量装置是由施玉书;张树;王芳;高启元设计研发完成,并于2024-10-09向国家知识产权局提交的专利申请。

一种自溯源的二维位移测量装置在说明书摘要公布了:本发明公开了一种自溯源的二维位移测量装置,涉及精密位移测量技术领域,该装置包括:第一射线源、第二射线源、晶片固定板、第一硅晶片、第二硅晶片、第三硅晶片,第一辐射探测器,第二辐射探测器和XY二维位移平台;其中,包括X方向上的位移测量模块和Y方向上的位移测量模块;第一硅晶片和第二硅晶片平行固定于晶片固定板上;第三硅晶片与第二硅晶片平行,且第三硅晶片到第二硅晶片的距离等于第一硅晶片到第二硅晶片的距离;第三硅晶片固定于XY二维位移平台侧壁;XY二维位移平台带动第三硅晶片一起进行位移,在位移过程中,第三硅晶片与第二硅晶片保持平行且距离不变。本发明可以同时实现二维位移测量,测量分辨率可以达到亚纳米级。

本发明授权一种自溯源的二维位移测量装置在权利要求书中公布了:1.一种自溯源的二维位移测量装置,其特征在于,所述自溯源的二维位移测量装置包括:第一射线源、第二射线源、晶片固定板、第一硅晶片、第二硅晶片、第三硅晶片,第一辐射探测器,第二辐射探测器和XY二维位移平台;所述第一硅晶片的晶面为相互垂直的第一晶面和第二晶面; 所述第一射线源与所述第一硅晶片、所述第二硅晶片、所述第三硅晶片和所述第一辐射探测器构成X方向上的位移测量模块; 所述第二射线源与所述第一硅晶片、所述第二硅晶片、所述第三硅晶片和所述第二辐射探测器构成Y方向上的位移测量模块; 所述第一硅晶片和所述第二硅晶片平行固定于所述晶片固定板上;所述第三硅晶片与所述第二硅晶片平行,且所述第三硅晶片到所述第二硅晶片的距离等于所述第一硅晶片到所述第二硅晶片的距离; 所述第三硅晶片固定于所述XY二维位移平台侧壁;所述XY二维位移平台带动所述第三硅晶片一起进行位移,在位移过程中,所述第三硅晶片与所述第二硅晶片保持平行且距离不变。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人中国计量科学研究院,其通讯地址为:100029 北京市朝阳区北三环东路18号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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