全芯智造技术有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉全芯智造技术有限公司申请的专利用于版图处理的方法、设备和介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN118838109B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202410850706.0,技术领域涉及:G03F1/36;该发明授权用于版图处理的方法、设备和介质是由请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名设计研发完成,并于2024-06-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于版图处理的方法、设备和介质在说明书摘要公布了:根据本公开的示例实施例提供了用于版图处理的方法、设备和介质。该方法包括:获取与目标版图中的目标图形段对应的采样点处的仿真信号,仿真信号用于模拟基于目标版图进行光刻而在晶圆上产生的光学信号。基于仿真信号在采样点处的信号变化信息和采样点在目标版图中的当前位置,确定采样点在目标版图中的目标位置。根据在目标位置处的采样点,更新目标图形段在目标版图中的位置。以此方式,可以确定能够更准确的代表图形段的整体仿真信号的采样点,从而能够更好的补偿晶圆上的图形失真情况,以提高光学邻近效应修正优化效果。
本发明授权用于版图处理的方法、设备和介质在权利要求书中公布了:1.一种用于版图处理的方法,包括: 获取与目标版图中的目标图形段对应的采样点处的仿真信号,所述仿真信号用于模拟基于所述目标版图进行光刻而在晶圆上产生的光学信号;以及 基于所述仿真信号在所述采样点处的信号变化信息和所述采样点在所述目标版图中的当前位置,确定所述采样点在所述目标版图中的目标位置。
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