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龙图腾网获悉吉林大学申请的专利一种扰动电磁场磁过滤电弧复合磁控溅射镀膜系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118086850B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410417311.1，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种扰动电磁场磁过滤电弧复合磁控溅射镀膜系统是由张侃;张斌;郑伟涛;汪佳;董传尧;文懋设计研发完成，并于2024-04-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种扰动电磁场磁过滤电弧复合磁控溅射镀膜系统在说明书摘要公布了：本发明提供一种扰动电磁场磁过滤电弧复合磁控溅射镀膜系统，涉及真空镀膜技术领域，包括：真空腔、抽气装置、供气装置、磁过滤管道和电弧靶、磁控溅射靶，真空腔用于容纳工件并提供镀膜场所；抽气装置与真空腔能够连通地连接并用于抽取真空腔内的气体以控制真空腔内的真空度；供气装置用于朝真空腔内输送气体；磁过滤管道的第一端与真空腔连通，第二端朝远离真空腔的方向延伸，其上绕设有多组磁过滤线圈组，多组磁过滤线圈组沿着磁过滤管道延伸的方向依次布设，磁过滤线圈组由脉冲电源供电；电弧靶用于蒸发并发生电离，磁控溅射靶用于溅射靶材沉积薄膜。本发明提供的方案能够提高镀膜质量。

本发明授权一种扰动电磁场磁过滤电弧复合磁控溅射镀膜系统在权利要求书中公布了：1.一种扰动电磁场磁过滤电弧复合磁控溅射镀膜系统，用于给工件镀膜，其特征在于：包括： 真空腔，用于容纳工件并提供镀膜场所； 抽气装置，与所述真空腔能够连通地连接并用于抽取所述真空腔内的气体以控制所述真空腔内的真空度； 供气装置，用于朝所述真空腔内输送气体； 磁过滤管道，其第一端与所述真空腔连通，第二端朝远离所述真空腔的方向延伸，其上绕设有多组磁过滤线圈组，多组所述磁过滤线圈组沿着所述磁过滤管道延伸的方向依次布设，所述磁过滤线圈组由脉冲电源供电以实现等离子体的压缩和膨胀，进而增加离子的碰撞几率，减少液滴输出； 电弧靶，靠近所述磁过滤管道的第二端设置，用于蒸发并发生电离； 磁控溅射靶，设置有多个，其中一个安装于所述真空腔的中部，其余的多个安装于所述真空腔的边缘，作为溅射阴极，用于溅射靶材沉积薄膜；所述磁过滤线圈组靠近所述第二端设置以在所述真空腔内产生扰动磁场；所述磁过滤线圈组设置有三组，三组所述磁过滤线圈组自所述第二端至所述第一端的方向依次按照3:6:9的匝数绕制形成分段增强磁场；磁过滤线圈组边缘距离真空腔的距离为70mm，脉冲电源的脉冲长度20-100微秒，占空比15%。

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