中国科学院金属研究所王青川获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院金属研究所申请的专利一种高性能医用钽涂层的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117721437B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311624479.1，技术领域涉及：C23C16/14；该发明授权一种高性能医用钽涂层的制备方法是由王青川;杨柯;谭丽丽设计研发完成，并于2023-11-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高性能医用钽涂层的制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及医用材料领域，具体为一种高性能医用钽涂层的制备方法。采用化学气相沉积法，通过氢气还原金属钽的卤化物反应，在多孔钛合金基体表面制备薄尺寸‑低扩散钽涂层；钽涂层与多孔钛合金基体间存在合金元素互扩散区，且互扩散区厚度小于钽涂层厚度。本发明获得适用于多孔钛合金基体的高纯度、晶粒细小、过渡层可控的高性能薄尺寸钽涂层，制备效率更高且成本更低，实现了涂层的高结合强度以及多孔钛合金的强度和塑性同时提高，避免Al、V等毒性金属离子溶出并提高生物相容性和成骨性能。本发明的新型钽涂层多孔钛合金植入器械，具有明显更高的力学、化学、生物学安全性和更低的成本等优势，适用于骨科、齿科植入物及组织缺损填充物等领域。
本发明授权一种高性能医用钽涂层的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种高性能医用钽涂层的制备方法，其特征在于，采用化学气相沉积法，通过氢气还原金属钽的卤化物反应，在多孔钛合金基体表面制备薄尺寸-低扩散钽涂层，钽涂层的厚度为1~20μm；钽涂层与多孔钛合金基体间存在合金元素互扩散区，且互扩散区厚度小于钽涂层厚度的12，且钛及其合金元素仅存在于多孔钛合金基体和互扩散区； 在化学气相沉积过程中，卤化钽作为反应源，氢气为还原性气体，氩气为载气，卤化钽蒸发速度与氢气的流量比值为2~40gml，反应温度为800~1050℃，缩短反应时间为0.1~2h，反应腔室压力大于20Pa； 多孔钛合金基体的孔隙率为60~90%，平均孔径为100~800μm。
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