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龙图腾网获悉国家能源投资集团有限责任公司;北京低碳清洁能源研究院申请的专利真空镀膜系统及真空镀膜方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117551977B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210940330.3，技术领域涉及：C23C14/56；该发明授权真空镀膜系统及真空镀膜方法是由赵子铭;李博研;钟大龙;赵明设计研发完成，并于2022-08-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本真空镀膜系统及真空镀膜方法在说明书摘要公布了：本公开涉及一种真空镀膜系统及真空镀膜方法，系统包括：真空腔体，设置于真空腔体内部用于带动基片移动的传送装置，以及设置于真空腔体内部用于加热基片的加热器；真空腔体内还设置有沿基片移动方向的多个蒸发镀膜腔室，以及与每个蒸发镀膜腔室配合的镀膜检测组件，蒸发镀膜腔室内设置有蒸发源；控制器，控制器用于至少根据目标镀膜检测组件检测得到的目标镀膜信息，确定与目标镀膜检测组件配合的目标蒸发镀膜腔室的目标镀膜结果，并基于目标镀膜结果对目标蒸发镀膜腔室的蒸发源进行控制，目标镀膜检测组件为真空腔体内的任一个镀膜检测组件。采用本公开的系统，可以对镀膜工艺起到更加细致的控制，使得控制更加灵活准确。

本发明授权真空镀膜系统及真空镀膜方法在权利要求书中公布了：1.一种真空镀膜系统，其特征在于，包括： 真空腔体，设置于真空腔体内部用于带动基片移动的传送装置，以及设置于真空腔体内部用于加热基片的加热器； 所述真空腔体内还设置有沿基片移动方向的多个蒸发镀膜腔室，以及与每个蒸发镀膜腔室配合的镀膜检测组件，所述蒸发镀膜腔室内设置有蒸发源； 控制器，所述控制器用于至少根据目标镀膜检测组件检测得到的目标镀膜信息，确定与所述目标镀膜检测组件配合的目标蒸发镀膜腔室的目标镀膜结果，并基于所述目标镀膜结果对所述目标蒸发镀膜腔室的蒸发源进行控制，所述目标镀膜检测组件为所述真空腔体内的任一个镀膜检测组件； 所述控制器，还用于在所述目标蒸发镀膜腔室为沿基片移动方向的第一个蒸发镀膜腔室时，将所述目标镀膜信息确定为所述目标蒸发镀膜腔室的目标镀膜结果；在所述目标蒸发镀膜腔室为除去所述第一个蒸发镀膜腔室之外的任一个蒸发镀膜腔室时，根据所述目标镀膜信息以及所述目标蒸发镀膜腔室的前一个蒸发镀膜腔室的镀膜信息，确定所述目标蒸发镀膜腔室的目标镀膜结果； 其中，所述目标蒸发镀膜腔室内设置的蒸发源包括用于蒸发大分子材料的大分子蒸发源以及用于蒸发小分子材料的小分子蒸发源；所述目标镀膜检测组件包括用于检测所述基片中线位置镀膜信息的第一镀膜检测装置，以及用于检测所述基片边缘位置镀膜信息的第二镀膜检测装置； 所述控制器还用于至少根据第一镀膜检测装置检测得到的第一镀膜信息，确定所述目标蒸发镀膜腔室的第一目标镀膜结果，以及至少根据所述第二镀膜检测装置检测得到的第二镀膜信息，确定所述目标蒸发镀膜腔室的第二目标镀膜结果，并基于所述第一目标镀膜结果以及所述第二目标镀膜结果，确定大分子材料与小分子材料在所述基片上的分布情况；在确定所述分布情况为分布不均匀时，对所述目标蒸发镀膜腔室的所述大分子蒸发源进行控制。

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