深圳信息职业技术大学;北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司;徕泰信光(深圳)半导体有限责任公司曾志彬获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳信息职业技术大学;北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司;徕泰信光(深圳)半导体有限责任公司申请的专利一种用于光学元件镀前镀后超声波清洗结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224114738U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423185212.X，技术领域涉及：B08B3/12；该实用新型一种用于光学元件镀前镀后超声波清洗结构是由曾志彬;柯伟杰;黄浩锋;陈浩彬;高凯锋;林铭荃;翟冬梅;李军竹;张志超;柳彦龙设计研发完成，并于2024-12-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于光学元件镀前镀后超声波清洗结构在说明书摘要公布了：本实用新型提出一种用于光学元件镀前镀后超声波清洗结构，具体涉及于光学元件技术领域,包括清洗机上的三级排污装置；三级排污装置上依次设置有第二清洗槽、第三清洗槽和第四清洗槽，第二清洗槽和第三清洗槽通过第一拦边结构隔开，第三清洗槽和第四清洗槽之间通过第二拦边结构隔开，第二拦边结构内设置有第一排污管，第一排污管连通第四清洗槽顶部的一侧和第三清洗槽底部的一侧，第一拦边结构由第三清洗槽向第二清洗槽一侧倾斜，第二清洗槽顶部一侧设置有第二排污管，通过三级排污装置，在第四清洗槽内持续加入纯水可以实现对超声波清洗过程中脏污进行实施排污，提高清洗效率，并实现较高洁净度的光学元件镀前镀后的清洗工艺。
本实用新型一种用于光学元件镀前镀后超声波清洗结构在权利要求书中公布了：1.一种用于光学元件镀前镀后超声波清洗结构，其特征在于，包括清洗机上的三级排污装置； 所述三级排污装置上依次设置有第二清洗槽、第三清洗槽和第四清洗槽，所述第二清洗槽和所述第三清洗槽通过第一拦边结构隔开，所述第三清洗槽和所述第四清洗槽之间通过第二拦边结构隔开，所述第二拦边结构内设置有第一排污管，所述第一排污管连通所述第四清洗槽顶部的一侧和第三清洗槽底部的一侧，所述第一拦边结构由所述第三清洗槽向所述第二清洗槽一侧倾斜，所述第二清洗槽顶部一侧设置有第二排污管。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人深圳信息职业技术大学;北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司;徕泰信光(深圳)半导体有限责任公司，其通讯地址为：518000 广东省深圳市龙岗区龙城街道龙翔大道2188号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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