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龙图腾网获悉天津众晶半导体材料有限公司申请的专利一种单晶硅片清洗装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224114647U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520864431.6，技术领域涉及：B08B1/12；该实用新型一种单晶硅片清洗装置是由薛佳勇;薛佳伟;王海军设计研发完成，并于2025-05-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种单晶硅片清洗装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种单晶硅片清洗装置，包括清洗箱，清洗箱的侧面安装有第一移动件，第一移动件包括连接座、第一伸缩式液压缸、第一支板和滑柱；出水盒，出水盒通过第一连接套和第一螺丝安装在第一伸缩式液压缸的端部，出水盒的上方通过套管连接有波纹管；第二移动件，第二移动件安装在清洗箱的侧面，第二移动件包括第二伸缩式液压缸、连接板、第二支板和滑轨；限位件，限位件通过第一螺栓安装在第二支板的上方，限位件包括限位板、限位杆和对接块；洗刷件，洗刷件安装在第二支板的上方。可以对单晶硅片的双面进行刷洗，能够提升单晶硅片的清洗效果。

本实用新型一种单晶硅片清洗装置在权利要求书中公布了：1.一种单晶硅片清洗装置，其特征是：包括清洗箱1，所述清洗箱1的侧面安装有第一移动件2，所述第一移动件2包括连接座3、第一伸缩式液压缸4、第一支板5和滑柱6； 出水盒7，所述出水盒7通过第一连接套和第一螺丝安装在所述第一伸缩式液压缸4的端部，所述出水盒7的上方通过套管连接有波纹管8； 第二移动件9，所述第二移动件9安装在所述清洗箱1的侧面，所述第二移动件9包括第二伸缩式液压缸10、连接板11、第二支板12和滑轨13； 限位件14，所述限位件14通过第一螺栓安装在所述第二支板12的上方，所述限位件14包括限位板15、限位杆16和对接块17； 洗刷件18，所述洗刷件18安装在所述第二支板12的上方，所述洗刷件18包括固定块19、防水罩20、电机21、螺杆22、螺套23、导向杆24、滑动套25、组装杆26、第一清洗刷27和第二清洗刷28； 烘干件29，所述烘干件29通过沉头螺钉安装在所述清洗箱1的上方，所述烘干件29包括通风箱30、出风管31、弯头32、风机33、端环34和一字型电热管35。

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