武汉恩达通科技有限公司顾共恩获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉恩达通科技有限公司申请的专利一种EML激光器的耦合方法、EML激光器及光模块获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121355698B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511885603.9，技术领域涉及：H01S5/12；该发明授权一种EML激光器的耦合方法、EML激光器及光模块是由顾共恩设计研发完成，并于2025-12-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种EML激光器的耦合方法、EML激光器及光模块在说明书摘要公布了：本发明公开了一种EML激光器的耦合方法、EML激光器及光模块，该方法包括：将透镜耦合至EML激光器的输出光功率最大值处，并保持透镜位置；扫描电吸收反向偏置电压VEA在预设电压范围内的输出光功率AOP；计算输出光功率AOP对电吸收反向偏置电压VEA的斜率值，并确定最大斜率值对应的VEA；将最大斜率值对应的VEA设置为EML激光器的工作电压，并再次将透镜耦合；固定透镜位置；将最大斜率值对应的VEA设置到EML激光器的固件中并保存。本发明将EML激光器的透镜耦合与电吸收反向偏置电压VEA的调测结合进行，通过两次透镜耦合以及一次VEA调测，能够提升调测效率，确保EML激光器处于最佳工作状态，提升了光模块产品的输出性能以及生产效率。
本发明授权一种EML激光器的耦合方法、EML激光器及光模块在权利要求书中公布了：1.一种EML激光器的耦合方法，其特征在于，将EML激光器的透镜耦合与电吸收反向偏置电压VEA的调测结合进行，该方法包括： 将透镜耦合至EML激光器的输出光功率最大值处，并保持透镜位置； 扫描电吸收反向偏置电压VEA在预设电压范围内的输出光功率AOP； 计算输出光功率AOP对电吸收反向偏置电压VEA的斜率值，并确定最大斜率值对应的VEA； 将最大斜率值对应的VEA设置为EML激光器的工作电压，并再次将透镜耦合至输出光功率最大值处； 固定透镜位置； 将最大斜率值对应的VEA设置到EML激光器的固件中并保存。
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