日产化学株式会社上林哲获国家专利权
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龙图腾网获悉日产化学株式会社申请的专利包含杂环化合物的抗蚀剂下层膜形成用组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114424121B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080065831.0，技术领域涉及：G03F7/09；该发明授权包含杂环化合物的抗蚀剂下层膜形成用组合物是由上林哲;远藤勇树设计研发完成，并于2020-10-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本包含杂环化合物的抗蚀剂下层膜形成用组合物在说明书摘要公布了：本发明提供具有特别高的干蚀刻速度的抗蚀剂下层膜、该抗蚀剂下层膜形成用组合物、抗蚀剂图案形成方法和半导体装置的制造方法。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：含有环氧基的化合物、与包含1个与环氧基具有反应性的部位的杂环化合物的反应生成物；以及溶剂。优选上述杂环化合物所包含的杂环选自呋喃、吡咯、吡喃、咪唑、吡唑、唑、噻吩、噻唑、噻二唑、咪唑烷、噻唑烷、咪唑啉、二烷、吗啉、二嗪、噻嗪、三唑、四唑、二氧戊环、哒嗪、嘧啶、吡嗪、哌啶、哌嗪、吲哚、嘌呤、喹啉、异喹啉、奎宁环、色烯、噻蒽、吩噻嗪、吩嗪、呫吨、吖啶、吩嗪和咔唑。
本发明授权包含杂环化合物的抗蚀剂下层膜形成用组合物在权利要求书中公布了：1.一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含： 含有环氧基的化合物、与包含1个与环氧基具有反应性的部位的杂环化合物的反应生成物；以及 溶剂， 所述含有环氧基的化合物为下述式A-1、式A-7或式A-19所示的化合物， 所述包含1个与环氧基具有反应性的部位的杂环化合物选自下述化20和化21，或者所述包含1个与环氧基具有反应性的部位的杂环化合物所包含的杂环选自呋喃、吡咯、吡喃、咪唑、吡唑、唑、噻吩、噻唑、噻二唑、咪唑烷、噻唑烷、咪唑啉、二烷、吗啉、二嗪、噻嗪、三唑、四唑、二氧戊环、哒嗪、嘧啶、吡嗪、哌啶、哌嗪、吲哚、嘌呤、喹啉、异喹啉、奎宁环、色烯、噻蒽、吩噻嗪、吩嗪、呫吨、吖啶、吩嗪和咔唑， 化20
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