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龙图腾网获悉宁波韵升股份有限公司;宁波韵升磁体元件技术有限公司申请的专利一种钕铁硼磁片制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121148887B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511197362.9，技术领域涉及：H01F41/02；该发明授权一种钕铁硼磁片制造方法是由黄威;程英;刘海华;吴浩;任达兴;龙芝梅;潘佳静设计研发完成，并于2025-08-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种钕铁硼磁片制造方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种钕铁硼磁片制造方法，步骤如下:将烧结态高性能的钕铁硼磁体六面磨光，清洗烘干后线锯切割得到片材；采用激光切割对片材进行内轮廓1.2与外轮廓1.1的加工，获得磁片1；将磁片1的表面进行稀土金属层包覆修复；进行时效处理；检测磁通和高温磁通不可逆损失。本发明提供一种对激光切割后的异形钕铁硼磁片进行磁性能修复的一种钕铁硼磁片制造方法。

本发明授权一种钕铁硼磁片制造方法在权利要求书中公布了：1.一种钕铁硼磁片制造方法，其特征在于，步骤如下: S1：将烧结态高性能的钕铁硼磁体六面磨光，清洗烘干后线锯切割得到片材； S2：采用激光切割对片材进行内轮廓1.2与外轮廓1.1的加工，获得磁片1，所述内轮廓1.2或者外轮廓1.1上包括弯角结构，设定激光工艺参数，切割速度为0.1mmmin-0.5mmmin，峰值功率为2.1-7.0kW，切割频率为50Hz-200Hz，占空比为0.1%-20%，氮气气压为1-3Mpa； S3：将磁片1的表面进行稀土金属层包覆修复，稀土金属层包覆采用金属溶液包覆技术； S3.1：利用线型喷涂枪对磁片1的弯角结构进行待包覆的稀土金属溶液喷涂； S3.2：将磁片1置于真空高温环境下进行热处理，得到初修复磁片2，热处理的温度为900℃±20℃，时间为2-5h； S3.3：取待包覆的稀土金属溶液置于正压容器5中； S3.4：将待修复的磁片1置入正压容器5内，并使稀土金属溶液浸没待修复的磁片1，待修复的磁片1呈层叠设计，相邻的两片待修复的磁片1之间设有支撑环3，所述支撑环3的内径大于内轮廓1.2的最大半径，所述支撑环3的外径小于外轮廓1.1的最小半径，正压容器5压力范围为0.01Mpa到0.5Mpa，浸泡时间为0.5-2h； S3.5：将待修复的磁片1置于真空高温环境下进行热处理，得到修复磁片，热处理的温度为900℃±20℃，时间为2-5h； S4：进行时效处理； S5：检测磁通和高温磁通不可逆损失。

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