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龙图腾网获悉华海清科股份有限公司申请的专利一种用于CMP抛光腔室的清洗装置及清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119704040B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411922055.8，技术领域涉及：B24B37/12；该发明授权一种用于CMP抛光腔室的清洗装置及清洗方法是由王世杰;徐海洋;齐心;王科设计研发完成，并于2024-12-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于CMP抛光腔室的清洗装置及清洗方法在说明书摘要公布了：本发明涉及CMP抛光腔室清洗技术领域，提出了一种用于CMP抛光腔室的清洗装置及清洗方法，抛光腔室中容纳有抛光单元，抛光单元包括晶圆装载杯和抛光头。喷嘴位于抛光腔室内，喷嘴包括晶圆装载杯清洗喷嘴和抛光头清洗喷嘴，分别用于喷出流体以清洗晶圆装载杯和抛光头，喷嘴喷出流体为液体和或气体和或气液混合体。通过上述技术方案，解决了现有技术中的CMP抛光腔室清洗装置对清洗液消耗多且清洗效果不明显的问题。

本发明授权一种用于CMP抛光腔室的清洗装置及清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种用于CMP抛光腔室的清洗装置，所述抛光腔室中容纳有抛光单元，所述抛光单元包括晶圆装载杯和抛光头；其特征在于，所述清洗装置包括： 喷嘴，位于抛光腔室内，所述喷嘴包括晶圆装载杯清洗喷嘴和抛光头清洗喷嘴，分别用于喷出流体以清洗晶圆装载杯和抛光头，所述喷嘴喷出的流体为液体和或气体和或气液混合体； 主体，设置于抛光腔室内，其数量为多个且环绕抛光头设置； 所述抛光头具有上表面和侧表面； 所述抛光头清洗喷嘴包括第一喷嘴和第二喷嘴，所述第一喷嘴和第二喷嘴均位于抛光头一侧，所述第一喷嘴用于清洗上表面，所述第二喷嘴用于清洗侧表面； 清洗抛光头时，按照以下步骤进行清洗： A1：同时打开抛光头四周的多个主体上的抛光头清洗喷嘴来清洗抛光头； A2：沿着抛光头的周向依次打开各个主体上的抛光头清洗喷嘴来清洗抛光头，直到全部打开各个主体上的抛光头清洗喷嘴； A3：打开其中一个主体上的抛光头清洗喷嘴清洗抛光头，清洗a时长后关闭该抛光头清洗喷嘴，打开沿抛光头的旋转方向或相反方向相邻的另一个主体上的抛光头清洗喷嘴来清洗抛光头，清洗b时间后关闭该抛光头清洗喷嘴，依次类推并循环； A1、A2和A3的任意顺序组合； 若抛光头的转速恒定，则a=b；若抛光头的转速增加，则ab；若抛光头的转速减小，则ab。

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