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龙图腾网获悉香港中文大学(深圳)申请的专利一种聚酰胺酸盐、负性光敏聚酰亚胺及其制备方法和电子产品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119613718B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411877127.1，技术领域涉及：C08G73/10；该发明授权一种聚酰胺酸盐、负性光敏聚酰亚胺及其制备方法和电子产品是由朱世平;陆健;雷蕾;张祺设计研发完成，并于2024-12-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种聚酰胺酸盐、负性光敏聚酰亚胺及其制备方法和电子产品在说明书摘要公布了：本申请提供一种聚酰胺酸盐、负性光敏聚酰亚胺及其制备方法和电子产品，涉及微电子技术领域。聚酰胺酸盐，其结构通式为：聚酰胺酸盐的制备方法包括：在保护气氛下将二胺单体和二酐单体进行第一反应得到聚酰胺酸溶液，然后加入光敏乙烯基吡啶类化合物，避光进行第二反应得到所述聚酰胺酸盐。本申请提供的聚酰胺酸盐，是获得低介电、可碱性显影的负性光敏聚酰亚胺的核心原料，所得负性光敏聚酰亚胺具有良好的热稳定性、机械性能，较低的介电常数且能够在碱性溶液中显影。

本发明授权一种聚酰胺酸盐、负性光敏聚酰亚胺及其制备方法和电子产品在权利要求书中公布了：1.一种聚酰胺酸盐，其特征在于，其结构通式为： ； 其中，Ar1选自以结构的任一种： 、；Ar2选自以结构的任一种： 、； Ar3选自以结构的任一种： 、； Ar4选自以结构： ； R3N选自以下结构中的任意一种或多种： ； m、n为各自独立的正整数； 所述的聚酰胺酸盐的制备方法包括： 在保护气氛下将二胺单体和二酐单体进行第一反应得到聚酰胺酸溶液，然后加入光敏乙烯基吡啶类化合物，避光进行第二反应得到所述聚酰胺酸盐； 所述二胺单体和所述二酐单体的摩尔比为1:1.05~1.10；所述二胺单体包括含羟基二胺单体和含脂环二胺单体，所述二酐单体包括含脂环二酐单体和含氟二酐单体；所述二酐单体与所述光敏乙烯基吡啶类化合物的摩尔比为1:2.0-2.1；所述光敏乙烯基吡啶类化合物包括4-乙烯基吡啶、3-乙烯基吡啶、甲基乙烯基吡啶中的一种或多种； 所述二胺单体中，所述含羟基二胺单体的摩尔含量为10%~25%；所述二酐单体中，所述含氟二酐单体的摩尔含量为10%~25%；所述含羟基二胺单体选自3,3'-二羟基联苯胺或3-羟基联苯胺，所述含脂环二胺单体选自1,4-环己二胺或4,4'-二氨基二环己基甲烷，所述含脂环二酐单体选自1,2,4,5-环己烷四甲酸二酐或环丁烷四甲酸二酐，所述含氟二酐单体为4,4'-六氟异丙基双邻苯二甲酸酐。

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