深圳市华星光电半导体显示技术有限公司曹洁花获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市华星光电半导体显示技术有限公司申请的专利硬涂层配方、硬涂层及显示模组获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117844372B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410035114.3，技术领域涉及：C09D183/04；该发明授权硬涂层配方、硬涂层及显示模组是由曹洁花;王金阳;李林霜;陈黎暄设计研发完成，并于2024-01-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本硬涂层配方、硬涂层及显示模组在说明书摘要公布了：本申请的实施例提供了一种硬涂层配方、硬涂层及显示模组，该硬涂层配方包括聚倍半氧硅烷、环氧树脂稀释剂、光引发剂、溶剂和添加剂，通过在硬涂层配方中添加第一无机中空微粒和第二无机中空微粒，可以提高硬涂层的硬度，由于第一无机中空微粒与第二无机中空微粒的粒径差异较大，可以使尺寸较小的第二无机中空微粒填充到尺寸较大的第一无机中空微粒的空隙中，有利于消除收缩应力，降低硬涂层的卷曲量，如此可以解决硬涂层翘曲现象严重的问题，从而可以实现批量生产。
本发明授权硬涂层配方、硬涂层及显示模组在权利要求书中公布了：1.一种硬涂层组合物，其特征在于，包括聚倍半硅氧烷、环氧树脂稀释剂、光引发剂、溶剂和添加剂； 其中，所述硬涂层组合物还包括第一无机中空微粒和第二无机中空微粒，所述第一无机中空微粒与所述第二无机中空微粒的粒径不同，所述第一无机中空微粒的粒径与所述第二无机中空微粒的粒径的比值大于5:1且小于或等于20:1；所述第二无机中空微粒的粒径大于或等于200纳米且小于或等于500纳米； 所述第一无机中空微粒的材料选自氧化硅、氧化锆和氧化钙中的至少一种，所述第二无机中空微粒的材料选自氧化硅、氧化锆和氧化钙中的至少一种； 所述第一无机中空微粒和所述第二无机中空微粒的总重量与所述聚倍半硅氧烷和所述环氧树脂稀释剂的总重量的比值为0.001至0.03；以所述溶剂、所述聚倍半硅氧烷和所述环氧树脂稀释剂的总重量计，所述聚倍半硅氧烷和所述环氧树脂稀释剂的重量百分比之和为50%至90%。
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