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龙图腾网获悉无锡华润上华科技有限公司申请的专利差分电容式MEMS麦克风及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116939453B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210332986.7，技术领域涉及：H04R19/00；该发明授权差分电容式MEMS麦克风及其制造方法是由冯栋设计研发完成，并于2022-03-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本差分电容式MEMS麦克风及其制造方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种差分电容式MEMS麦克风及其制造方法，所述麦克风包括：衬底，包括第二背板；第一支撑层，设于所述衬底上；振膜，设于所述第一支撑层上；第二支撑层，设于所述振膜上；第一背板，设于所述第二支撑层上，所述振膜位于所述第一背板和第二背板之间；其中，所述振膜和第一背板形成的第一电容用于输出第一电容值信号，所述振膜和第二背板形成的第二电容用于输出第二电容值信号，所述第一电容值信号和第二电容值信号构成差分信号。本发明利用衬底的一部分结构作为第二背板，因此第二背板本身不会造成麦克风的厚度增加。并且振膜与第一背板、第二背板形成的电容输出的电容信号构成差分信号，可以提高麦克风的信噪比。

本发明授权差分电容式MEMS麦克风及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种差分电容式MEMS麦克风的制造方法，包括： 获取在衬底的正面形成有第一牺牲层、在所述第一牺牲层上形成有振膜、在所述振膜上形成有第二牺牲层、在所述第二牺牲层上形成有第一背板的制造中间结构； 根据第二背板的设计形状和厚度，对所述衬底的背面进行图案化，在与所述第二背板的第二声孔对应的位置形成与所述第二声孔一一对应的刻蚀孔，包括通过干法刻蚀工艺形成所述刻蚀孔； 通过光刻在所述衬底的背面形成作为刻蚀阻挡层的光刻胶层；所述光刻胶层将第一区域露出，所述第一区域为需要刻蚀形成所述第二背板的位置，所述第一区域包括各所述刻蚀孔所在的位置； 对所述第一区域的所述衬底进行干法刻蚀，衬底刻蚀剩余的结构形成所述第二背板；各所述刻蚀孔的底部在所述干法刻蚀中被刻蚀至所述第一牺牲层的第一表面形成各所述第二声孔，所述第一表面为所述第一牺牲层朝向所述衬底的背面的一面； 去除所述光刻胶层； 通过腐蚀剂释放所述第一牺牲层和第二牺牲层，在所述振膜和形成有第一声孔的第一背板之间形成第一空腔，在所述振膜和第二背板之间形成第二空腔。

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