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龙图腾网获悉浙江大学申请的专利基于神经隐式表达的场景逆向绘制方法和装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116485994B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310242396.X，技术领域涉及：G06T17/00；该发明授权基于神经隐式表达的场景逆向绘制方法和装置是由王锐;霍宇驰;朱璟森;鲍虎军设计研发完成，并于2023-03-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于神经隐式表达的场景逆向绘制方法和装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于神经隐式表达的场景逆向绘制方法和装置，基于符号距离场网络、神经辐射场网络、神经材质场网络实现对场景的几何信息、光照信息、材质信息的联合隐式表达，并使用基于蒙特卡洛采样的光线追踪绘制算法进行绘制得到绘制结果，依据该绘制结果构建损失函数来优化网络参数，得到能够准确预测几何信息、光照信息、材质信息的符号距离场网络、神经辐射场网络以及神经材质场网络。同时还支持重光照编辑和材质编辑，达到增强现实功能。

本发明授权基于神经隐式表达的场景逆向绘制方法和装置在权利要求书中公布了：1.一种基于神经隐式表达的场景逆向绘制方法，其特征在于，包括以下步骤： 基于神经网络构建符号距离场网络、神经材质场网络、神经辐射场网络，其中，符号距离场网络表示为符号距离函数，该符号距离函数定义为场景内任意三维点距离场景所有表面的距离中的最小值，几何预测结果表示为符号距离函数值，提取符号距离函数值为零的三维点构成几何表面； 将场景中三维点输入至神经材质场网络和符号距离场网络进行材质预测和几何预测后进行体渲染得到材质信息和法向信息；其中，材质被表示为GGX微表面材质模型的三个参数，包括漫反射反照率、镜面反射反照率和粗糙度；神经材质场网络依据输入的三维点进行材质预测输出第一RGB值作为漫反射反照率，输出第二RGB值作为镜面反射反照率，输出浮点数作为粗糙度； 根据材质信息和法向信息进行重要性采样并计算出射光线以及出射光线对应的概率密度函数值和材质估计值，包括：在几何表面，根据材质信息包含的粗糙度进行重要性采样得到出射光线，重要性采样的概率分布遵循GGX微表面材质模型，并由粗糙度决定，将采样点的入射方向和表面法向信息输入至GGX微表面材质模型经计算得到出射光线的方向和概率密度函数值，将材质预测结果包括的漫反射反照率、镜面反射反照率和粗糙度输入至GGX微表面材质模型经计算得到材质估计值； 将出射光线输入至符号距离场网络进行几何预测并计算与几何表面的交点，将交点输入至神经辐射场网络进行光照预测，依据光照预测结果进行体渲染得到出射光线对应的光照辐射值； 依据出射光线对应的概率密度函数值、材质估计值以及光照辐射值进行蒙特卡洛积分得到渲染结果； 依据渲染结果和作为监督标签的场景图片构建第一损失函数，利用第一损失函数对符号距离场网络、神经材质场网络、神经辐射场网络进行参数优化； 利用参数优化的符号距离场网络、神经材质场网络以及神经辐射场网络分别进行几何预测、材质预测以及光照预测； 还提供材质编辑功能和光照编辑功能。

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