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SKC索密思株式会社金泰完获国家专利权

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龙图腾网获悉SKC索密思株式会社申请的专利层叠体的制造方法及层叠体获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116300306B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211523497.6,技术领域涉及:G03F1/82;该发明授权层叠体的制造方法及层叠体是由金泰完;李乾坤;崔石荣;李亨周;金修衒;孙晟熏;金星润;郑珉交;曹河铉;申仁均设计研发完成,并于2022-11-30向国家知识产权局提交的专利申请。

层叠体的制造方法及层叠体在说明书摘要公布了:本实施方式涉及层叠体的制造方法及层叠体等,层叠体的制造方法包括:准备步骤,准备处理对象,处理对象是设置有遮光膜的处理前的层叠体,以及碳酸水清洗步骤,通过针对处理对象适用施加紫外线和碳酸水的碳酸水清洗过程来准备清洗过的层叠体;其中,遮光膜包含过渡金属,还包含氧、氮或碳,层叠体具有用离子色谱法测定的残留离子含量,残留离子包括硫基离子和硝酸基离子,硫基离子含量大于0ngcm2且小于等于0.1ngcm2,硝酸基离子的含量大于0ngcm2且小于等于0.1ngcm2。本实施方式可以在最大限度地减少层叠体的性能变化,除去存在于层叠体的外表面或表面的颗粒等,有效地抑制曝光过程中产生的意料之外的雾度。

本发明授权层叠体的制造方法及层叠体在权利要求书中公布了:1.一种层叠体的制造方法,其中, 包括: 准备步骤,准备处理对象,所述处理对象是设置有遮光膜的处理前的层叠体,以及 碳酸水清洗步骤,通过针对所述处理对象使用施加紫外线和碳酸水的第一清洗来准备清洗过的层叠体; 所述遮光膜包含过渡金属,还包含氧、氮或碳, 在所述碳酸水清洗步骤之前,还包括紫外线清洗步骤, 所述紫外线清洗步骤是用波长大于等于120nm且小于190nm的紫外线照射所述处理对象的步骤, 所述碳酸水清洗步骤还包括对已使用所述第一清洗的层叠体使用第二清洗的步骤, 所述第二清洗是将碳酸水和氢水一起作为清洗液施加到所述处理对象的过程,在所述碳酸水清洗步骤中,碳酸水的电导率大于等于1μScm且小于等于10μScm, 经所述碳酸水清洗步骤的层叠体具有通过离子色谱法测量的残留离子含量,所述残留离子包括硫基离子、硝酸基离子及铵离子, 所述硫基离子的含量大于0ngcm2且小于等于0.1ngcm2, 所述硝酸基离子的含量大于0ngcm2且小于等于0.1ngcm2, 所述铵离子的含量大于0ngcm2且小于等于1ngcm2。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人SKC索密思株式会社,其通讯地址为:韩国京畿道;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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